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通过聚合物3D打印来调整建筑物外墙的太阳能：朝向定制的热特性
立面是控制建筑物太阳能流并影响其能量平衡和环境影响的主要接口。最近，已经探索了半透明聚合物的大规模3D打印（3DP），作为一种制造具有定制特性和功能的立面组件的技术。透射率对于建筑外墙至关重要，因为对太阳辐射的响应对于获得舒适感至关重要，并且会极大地影响电力和冷却需求。但是，仍不清楚3DP参数如何影响半透明聚合物的光学性质。本研究建立了一个实验程序，将PETG组件的光学特性与设计和3DP参数相关联。观察到打印参数控制层沉积，该沉积控制层中的内部光散射和整体光传输。此外，层分辨率决定角度依赖性属性。表明，可以调整打印参数以获得量身定制的光学特性，从高正常透明度（≈90％）到透明度（≈60％），并且具有一定范围的雾霾水平（≈55-97％）。这些发现为大规模3DP的定制立面提供了机会，可以有选择地接纳或阻止太阳辐射，并提供空间的均匀日光。在建筑部门脱碳的背景下，这种组件具有减少排放的巨大潜力，同时确保乘员舒适。
1光场的基本概念
在光学介质中，电荷保守性要求在某个位置诱导的光场诱导的电荷密度增加，始终伴随着另一个位置的减少，导致无净宏观诱导的电荷密度。因此，宏观光学场的ρIND¼0和ρ总¼ρext。相比之下，在光学介质中可以存在诱导的J IND6¼0的宏观电流密度。在不含外部源的光学介质中，JExt¼0和ρ总计¼ρeven¼0，但是J总¼J结合了Jcond¼jcond¼jind6¼0：j bound和j bond cond is t is j bound和j cond is t is t to to to optical field均应诱导电流。边界电子极化电流j结合是一个位移电流，始终包含在∂d=∂t项中，但在（1.5）中的J项中不包含。传导电流J Cond也是诱导的电流，但它是由介质中的自由电荷载体携带的。在不存在外部电流和外部电荷的情况下，麦克斯韦方程的形式取决于如何处理传导电流。通常有两种选择。
用于 Computercom 的紧凑型光学 TX 和 RX 宏单片集成在 45nm CMOS 中
摘要 — 随着光通信的覆盖范围不断缩小，光子学正从机架到机架数据通信链路转向需要不同架构的厘米级计算机内应用 (computercom)。集成光学微环谐振器 (MRR) 正成为满足更严格的面积和效率要求的有吸引力的选择：它们通过波分复用 (WDM) 和高带宽密度提供缩放。在本文中，我们介绍了在 45 nm CMOS 中单片集成的用于 computercom 的紧凑型电光发射 (TX) 和接收 (RX) 宏。它们与 MRR 调制器和光电探测器一起工作，并包括所有必要的电子器件和光学器件，以实现片上数据源和接收器之间的光学链路。通过感测驱动电子器件中的光学设备的偏置电流而不是使用外部工作点感测光学器件，实现了最紧凑的热稳定性实现。使用场效应晶体管作为加热元件（在单片集成平台中是可能的）可进一步减少热控制所需的面积和功率。TX 宏的工作数据速率高达 16 Gb/s，消光比 (ER) 为 5.5 dB，插入损耗 (IL) 为 2.4 dB。RX 宏在 12 Gb/s 时灵敏度为 71 µ A pp，BER ≤ 10 − 10。用宏构建的芯片内链路在 10 Gb/s 时实现 ≤ 2.35 pJ/b 的电气效率和 BER ≤ 10 − 10。两个宏都在 0.0073 mm 2 内实现，每个宏的带宽密度为 1.4 Tb/s/mm 2。
应变石墨烯和其他紧张的单层和多层的机械，电子，光学，压电和铁素化特性：更新
摘要这是先前评论的更新（Naumis et al 2017rep。prog。物理。80 096501）。考虑了线石墨烯和其他金属，绝缘，铁电，铁弹性，铁磁和多效2D材料的实验和理论进步。We surveyed (i) methods to induce valley and sublattice polarisation ( P ) in graphene, (ii) time-dependent strain and its impact on graphene's electronic properties, (iii) the role of local and global strain on superconductivity and other highly correlated and/or topological phases of graphene, (iv) inducing polarisation P on hexagonal boron nitride monolayers via strain, (v)通过应变，（VI）铁核2D材料（带有固有弹性（σ），电气（P）和磁性（M）极化，修饰过渡金属二色元化元素单层单层单层的光电特性，以及初期的2D多效中部和（VII）MoiréBirayflator flato seperer，以及其他分期型均型均匀的型号，并表现表现出可以通过旋转和剪切应变调整的铁从订单的系统。该更新具有可调二维量子旋转霍尔在德国，元素2D铁电抗性和2D多效性NII 2的实验实现。该文件是为了讨论单层中发生的效果的讨论，然后进行了有关BiLayers和
通过精细...
碳点（CDS）是一类低成本碳纳米材料的通用名称，最初在2004年报告，1个具有平均粒径低于10 nm的光致发光（PL）特性。2，由于其易于且廉价的合成，低毒性，6个高（水性）溶解度，光电特性，可轻松的修饰和稳定性，这种碳质材料对从生物成像到传感器，光电子的许多应用都具有吸引力，其含量为3-6。7当前生产CD的合成方法包括自上而下和自下而上的方法，这些方法通常提供各种大小的聚集石墨烯样层和较大的结构多样性，包括SP 2 / SP 3碳网络和以不同比率的氧气富官能组。结果，根据合成，CD的光致发光特性在量子产率上大大变化，从<1％到95％。在过去的十年中，已经报道了光激发波长依赖性和独立发射。8–11 CD的实验和理论研究表明，光致发光主要源于涉及SP 2碳的杂交轨道的π-π*过渡。
crbr3 2D磁铁 /元素中的手性声子和巨型光学效应，刺； Ajit Ulman，Kanchan；刘，尚；格拉纳多斯·德尔·阿吉拉（Granados deláguila），安德烈斯（Andrés）； Huan
声子决定了由于其非零角动量而导致的非弹性光散射过程的光螺旋。在这里，我们表明二维（2D）磁性CRBR 3在布里鲁因区中心托有手性声子。这些手性声子是偶合性e g声子的线性组合，并且声子特征模词表现出顺时针和逆时针旋转振动，与对应于𝑙=±1的角动量。这种E G手性声子完全切换了入射圆形光的极化。另一方面，非分类的非手续A G声子在平面外磁场下显示出巨大的磁光效应，旋转了散射线性极化光的极化平面。随着磁场强度从0增加到5 t，散射光的相应极化程度从91％变为-68％。相比之下，手性E G模式不显示场依赖性。我们的结果为2D磁性材料中的语音性手性和磁光学现象的研究奠定了基础，及其相关应用，例如声子霍尔效应，拓扑光子学和拉曼激光。
相关的光学 - 电化学测量结果揭示了在超密机电极上石墨烯纳米骨骼碰撞的双向电流步骤
摘要：纳米颗粒形成的合成方法产生了异质种群的纳米颗粒，在研究反应性时，可以研究单纳米颗粒的化学植物学特性的技术。虽然单一实体电化学实验已被充分记录在包括球形金属纳米颗粒，乳液液滴和细胞在内的对称对象的，但由于碰撞过程中物体方向的自由度增强，因此不对称物体为额外的挑战提供了额外的挑战。最近，由于高电荷密度能力，机械稳定性和生物相容性的结合，石墨烯已成为一种突出的电极材料，其应用范围从体内感应到工业能量转换反应。石墨烯纳米片（GNP）是一种准二维导电纳米材料，其在微米尺度上具有两个尺寸，而在纳米尺度上有一个，在功能上充当平面材料。在与铁甲醇（外球氧化还原介体）存在下与电极表面碰撞后，观察到广泛的电流响应，这些反应被观察到对称对象的广泛电流响应。在这里，我们介绍了相关的电化学和光学显微镜，以同时在单个实体级别探测化学和空间信息，以完全了解石墨烯纳米片的纳米级的碰撞动力学。此外，这种相关的技术允许对复杂电流响应的反卷积，从而揭示了数十秒范围内耦合的瞬态事件。从这些测量值中，稳态电流的变化用于氧化亚甲醇的氧化可能与GNP碰撞时电极表面积的变化直接相关，从而深入了解了单一实体的几何形状|没有两种组合技术的电极界面，否则将无法访问。
甲虫Elytra的光学着色机理：评论
摘要：在自然界中，在各种生物体中广泛观察到结构颜色，这是由于通过进化而开发的复杂的纳米结构设计所致。甲虫具有超过350,000种的甲虫，表现出显着的颜色多样性，其中许多是结构性的，而不是基于色素的。这些结构颜色来自光学过程，例如膜干扰，衍射光栅，光散射和光子晶体。此外，一些甲虫的鞘翅可通过伪装，通信和环境适应来改变颜色，从而帮助生存。本评论探讨了结构颜色的基本光学机制，然后调查三种颜色改变甲壳虫的鞘翅方式。基础研究的摘要可以帮助科学家进一步研究有关结构色的仿生材料。
金属构造剂...
图1。A）在PT/INGA/N -SI/SIO/SIO X/PT下，AO-ECL发射（AO-ECL）的方案是由EXC光子吸收触发的。b）电荷传输机制的方案，导致可见的440-nm光子在固体界面处产生。c）在PT/INGA/INGA/N -SI/SIO X/PT（CYAN曲线）和电解质吸收（灰色曲线）时，在PT/INGA/N -SI/N-SIO/SIO X/PT（灰色曲线）时，在PT/INGA/N -SI/N-SI/N-SIO/SIO X/PT（灰色曲线）处的IR 850 nm LED（棕色曲线）的归一化光谱。si bandGap由虚线的黑线表示，由AO-ECL诱导的波长的移位由红色箭头表示。d）N -Si/Sio X的XPS调查光谱，在涂层之前（橙色曲线）和N -SI/SIO X/PT的N -Si/Sio X/PT，在溅射2 nm厚的PT膜（粉红色曲线）后。