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无玻璃体积对飞秒激光写的纳米纳米形成的影响
玻璃中飞秒（FS）激光诱导的修饰的种类铺平了通过激光脉冲能的非线性吸收引发的多种结构变化的道路。光眼镜中这些修饰的性质根据激光写参数而变化，并且在文献中将其分为三种主要类型[1]。I型修饰可以观察到较低能量处的折射率的平滑和均匀变化。早期研究表明，FS激光器在硅玻璃中诱导3D折射率分析的潜力，这是创建波导的基础步骤[2]。II型修饰是通过折射率的各向异性变化来区分的。在特定的脉冲持续时间，频率和能量条件下，出现了强烈的双折射，它起源于垂直于激光极化的定期层状纳米结构[3]。在较高的激光强度下，发生了III型修饰，这是由于局部微探索而形成的纳米/微粒子具有致密壳的形成。是II型修饰，与纳米的形成有关。fs激光诱导的纳米射流在几个技术域中发现了广泛的应用。它们在创建长期光学数据存储设备[4，5]，热光传感器[6，7]和微流体[8，9]中起着核心作用。重要的是，它们还用于制造各种光学元件，包括波导，光层转化器[10，11]和其他双重元素[12]。尽管其应用的范围很广，但对玻璃中纳米形成背后的机制的全面理解仍有待实现。这是至关重要的，因为它会影响他们的制造，因此在各种技术环境中优化了它们的使用。纳米形成过程的中心是多光子电离的现象，其中光子吸收促进了从入射光到实心玻璃结构的能量转移[13]。由于激光强度超过特定的阈值，它会导致血浆的产生，其特征是高密度自由电子云[14]。入射激光与不均匀性的散射光之间的干扰
巨型kerr kerr非线性的Terahertz波是由刺激的声子极化子介导的微腔芯片
抽象的光学KERR效应，其中输入光强度线性地改变了折射率，它使光学孤子，超充值谱和频率梳子的产生，在芯片设备，纤维通信和量子操作中起着至关重要的作用。尤其是Terahertz Kerr效应，在未来的高速计算，人工智能和基于云的技术中具有引人入胜的前景，由于功率密度和微弱的Kerr响应，遇到了一个巨大的挑战。在这里，我们演示了一个巨大的Terahertz频率KERR非线性，由刺激的声子极性子介导。在巨型Kerr非线性的影响下，功率依赖性的折射率变化将导致微腔的频移，这是通过测量芯片尺度岩石型niobate fabry-pérotmicrobocabity的谐振模式实验证明的。归因于刺激的声子极性子的存在，从频移中提取的非线性系数比可见光和红外光的数量级大，理论上也由非线性黄色方程式证明。这项工作为许多具有Terahertz细纹的基于物理，化学和生物系统的富有和富有成果的Terahertz Kerr效应开放了途径。
基于Al2O3的超薄ALD膜和纳米胺，...
原子层沉积（ALD）技术使在各种技术领域中使用具有控制化学成分的共形功能涂层 - 单组分，多组分和多层结构（例如纳米胺），以修饰表面特性。可以使用超薄金属氧化物，例如作为抗腐蚀涂层，聚合物材料的功能涂层，或在全纤维状态电池（ASSB）结构中的电极/电解质界面上的涂层。我们以各个层和纳米酰胺的形式（Al 2 O 3 /Zro 2，Al 2 O 3 /ZnO）以实验测试了超薄（大约20 nm）Al 2 O 3，ZRO 2和ZnO涂层的ALD生长和性能。，我们在100-300 c的温度范围内使用了热ALD模式，在各种底物（硅，砷耐加仑）上以及使用各种氧气前体（水，臭氧）。Al，Zr和Zn的前体分别为：三甲基元素，四甲基甲基氨基（乙基甲基氨基） - 锆（IV）和二乙基。We used a number of material characterization methods and proved the possibility of controlling the thickness and refractive index of the layers (by spectroscopic ellipsometry), structure composition (by X-ray photoelectron spectroscopy, energy-dispersive X-ray spectroscopy), coating tightness and electrical properties (by conductive atomic force microscopy-tunneling AFM), surface topography (by tapping mode AFM）。
还原氧化石墨烯/聚乙烯基醇纳米纤维，由电纺丝技术制造为有机太阳能电池设备的理想候选
先前使用氢水合物通过化学还原获得的RGO的抽象功能化是通过使用静电纺丝技术将其形态转换为纳米纤维的，并将PVA用作聚合物基质。然后使用傅立叶变换红色（FTIR）光谱，扫描电子显微镜（SEM）和UV-VIS分光光度计表征了已形成的RGO纳米纤维。FTIR光谱证实了纳米纤维中C组和C = O组的存在。sem显示了纳米纤维形态的变化，这标志着纤维直径的增加，而空心纤维变得更亮。此外，通过UV-VIS分光光度计证实了RGO浓度对纳米纤维光学特性的影响。根据此特征，由于RGO浓度升高，RGO/PVA纳米纤维的吸光度降低。通过复杂的折射率和介电常数研究了RGO的光学性质的细节，然后使用Kramers-Kronig转换来计算复杂的折射率和复杂的介电常数。从数据中，RGO/PVA纳米纤维的光学性质表明RGO/PVA纳米纤维可以用作有机太阳能电池设备的透明电极。关键字：减少石墨烯氧化石墨烯，纳米纤维，静电纺丝，kramers-kronig，
量子计算的限制和挑战
光学综合电路为开发健壮和有效的量子计算机的开发提供了一个非常有希望的平台。对其发展和可伸缩性的关键问题是电路中多个单个光子源的整合。单个光子源的一个主要类别是基于嵌入到半导体光学纳米线（NWQD）中的量子点，允许其准确的交手和确定性整合。在高指数平台（如硅或氮化硅）等高指数平台中的成功集成，由于模态特性的兼容性，具有足够的耦合效率。另一方面，硅硅胶是一个主要的集成平台，结合了直接激光写作等新制造方法，用于定义具有折射率修改的光学结构，可以通过快速原型来提供高度优化和量身定制的电路。首次考虑了基于二氧化硅的波导中NWQD的集成方案，这表明低（〜10 -3）可实现的折射率对比对这种波导与NWQD的兼容性施加了严格的限制，从而在低摄入效率中产生的NWQD通常会导致NWQD。通过考虑一些设计和制造问题，可以证明适当的集成方法具有足够的效率，同时也揭示了局限性和挑战，从而触发了新的研究方向。
λ/20-Thick cavity for mimicking electromagnetically induced ...
抽象的光腔在增强的光中起着至关重要的作用 - 物质相互作用，光控制和光学通信，但它们的尺寸受材料属性和操作波长的限制。超薄平面腔迫切需要大区域和集成的光学设备的需求。但是，极大地降低平面腔维度是一个关键挑战，尤其是在电信波长下。在这里，我们演示了一种基于大区域生长的Bi 2 Te 3拓扑绝缘子（TI）纳米膜的一种超薄腔，它们在近边缘区域呈现出不同的光学共振。结果表明，在电信波长时，BI 2 TE 3 Ti材料显示了超高折射率> 6。腔厚度可以接近共振波长的1/20，优于基于常规SI和GE高折射率材料的平面腔。此外，我们观察到电磁诱导的透明度（EIT）效应在电信波长上的类似物，通过将腔沉积在光子晶体上。类似EIT的行为是从纳米腔共振和TAMM等离子体之间的破坏性干扰耦合得出的。频谱响应取决于纳米腔的厚度，其调整可以产生明显的Fano共振。实验与仿真非常吻合。这项工作将为TI材料在光控制和设备中的超薄腔和应用开辟新的门。
质子照射和应变对聚酰亚胺纤维的机械性能的协同作用
聚酰亚胺ber具有高强度和模量和较高的放射性耐药性，1使其可以用作航天器和火箭的轻质电缆夹克，以及用于空间应用的ber-ber强化复合材料。由于空间中使用的材料可能会受到大量的高能辐射，因此必须评估聚酰亚胺BER对高能辐射的响应很重要。在几年内实施了大量使用聚酰亚胺的空间实验。研究了Kapton对3 MeV质子辐射的辐射敏感性，结果表明，在放射溶解时，分解，断裂应激和聚合物的断裂能显着降低。此外，断裂时的伸长率与用相同剂量的2 meV电子照射诱导的伸长级相似。2电子，质子或两个合并的辐照都诱导的键断裂和聚酰亚胺分子的交联，而质子辐射可以比电子辐照更容易打破PI键，然后导致在样品表面积上形成石墨样结构。3质子辐照增加了初始摩擦系数，并降低了聚酰胺的稳定摩擦系数。4辐照PI的磨损速率下降了：电子照射>质子辐照>联合照射。5质子照射还可以控制聚酰亚胺的折射率。折射
高性能的可编程光子芯片可以改变雷达和通信系统
一张焦点堆积的宏观照片，该照片具有多个螺旋形波导和其他测试结构的磷化磷化物光子芯片。芯片宽度仅为0.55厘米。由于磷化磷酸盐的高非线性，其高折射率及其可忽略不计的两光子吸收，使用此芯片可实现S，C和L光学通信带的极有效的光学参数扩增和频率转换。
AR辐射性偷偷摸摸的预览顺序浸润两光子聚合的3D光子晶体，用于中等光谱应用，3月15日，20
AR辐射偷偷摸摸的预览连续浸润，两光子聚合的3D光子晶体用于中等光谱镜应用，2024年3月15日，2024年3月15日，也称为PHCS，是空间有组织的结构，具有与光波长相等的光学晶格参数。自发现以来，PHC一直在电信行业中找到应用，包括MID-IR光谱应用，电子门和光学计算和ICS的偏振滤波器以及压力强力传感。PHC还可以实现设备小型化（包括微流体），生物传感和化学感应。PHC的唯一几何特性和折射率可以允许或限制在特定频率范围内电磁波的传播。频率的受限范围称为光子带隙（PBG），其存在使结构可以减慢并塑造光。将其应用于气光谱应用中的传感器时，较慢的光会增加光和目标气体之间的相互作用时间，从而增强了灵敏度。PBG高度依赖于PHC和背景材料（通常是空气）之间的折射率（RI）对比度。当存在较差的RI对比条件时，PHC的应用受到限制。在这份新报告中，伊利诺伊大学的伊利诺伊大学科学家和Argonne National Lab通过将内部光学表面覆盖具有ALD沉积的高折射率ZnO的内部光学表面，从而提高了高级三维（3D）PHC的RI，从而使未来的改进能够改进，从而实现了敏感性，准确性，基于pHC的限制。，无论极化如何，带有频带结构中禁光传播频率的完整PBG区域都使三维（3D）PHC在光谱应用中优先于2D和1D PHC，但证明更难制造。唯一设计用于支持顺序浸润合成（SIS）过程，Arradiance的Gemstar TM ALD系统比常规ALD降低了反应温度，更高的反应压力和更长的反应时间。这使前体气体能够在3D聚合物基质内浸润并在深处反应，从而确保没有降解，材料损失或脱气。
光学性质的首个主要研究
本研究论文的抽象主要任务是研究光学特性（包括介电函数，屈光度指数，消光系数，损耗功能，吸收系数和电导率）METARITION METION DIBORIDES M B 2（M = M = Ti，NB，NB）作为[100]方向的光子能量的功能。理论和实验数据相互比较，以更好地理解这项研究工作。关键词：第一个主要研究；光学特性；过渡金属； Diborides。1。引言在本文中，已经讨论了过渡金属Diborides MB 2（M = Ti，NB，ZR）的光学性质[1]的结果。在此，对于TIB 2，NBB 2，ZRB 2，折射率的虚构部分分别为30.24 eV，30.5 eV和45.41 eV。由于材料没有带隙[2]，因此从带结构中可以明显看出，因此，当光子能量为零时，所有阶段的光电导率[3]开始。光电导率，因此材料的电导率[4]由于吸收光子而增加[5]。在我们的观察中，我们在0.67、6.6和10.0时看到了TIB 2的三个峰。对于其他两种化合物NBB 2观察到相似的趋势，而Zrb 2 .TiB 2由于其金属性质，在低能范围内具有吸收带。它的