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离子散射技术
本章讨论了三种用于确定单晶材料成分和几何结构的离子散射方法。这三种方法分别是卢瑟福背散射光谱法 (RBS)，通常使用高能 He 或 H 离子（能量通常为 1-3.4 MeV），中能离子散射 (MEIS)（离子能量为 50 keV 至 400 kev）和低能离子散射（100 eV 至 5 kev），后者通常称为离子散射光谱法 (ISS)。第四种技术是弹性反冲光谱法 (ERS)，它是这些方法的辅助技术，用于专门检测氢。所有这些技术都是在真空中进行的。这三种离子散射技术的信息内容有所不同，这是由于所涉及的离子能量状态不同，加上仪器的一些差异。对于最广泛使用的 RBS 方法，高能离子可以很好地穿透样品（氦离子高达 2 pn；氢离子高达 20 pm）。在进入样品的过程中，单个离子会通过一系列电子散射事件以连续的方式损失能量。有时，离子会与样品材料中的原子核发生类似弹球的碰撞，并发生背散射，产生离散的大量能量损失，其值是被撞击原子的特征（动量转移）。由于这种主要能量损失是原子特有的，而小的连续能量损失取决于行进的深度，因此出现的背散射离子的总能谱可以非破坏性地揭示这些元素的元素组成和深度分布。由于散射物理学在定量上得到了很好的理解
和广角散射技术
摘要 本研究致力于将通过硬模板法制备的中孔-大孔 SiO 2 块体碳材料的纳米级孔隙空间与相应的纳米级多环芳烃微结构连接起来，使用两种不同的碳前体，即可石墨化沥青和不可石墨化树脂，这两种碳前体通常表现出明显不同的碳化特性。通过与典型的气体吸附物 (Ar) 相比，相对较大的有机分子 (对二甲苯) 的吸附行为研究了这些块体碳材料的微孔和中孔率。此外，为了详细了解纳米孔隙空间，应用了小角度中子散射 (SANS) 结合原位物理吸附，在中子散射过程中使用氘代对二甲苯 (DPX) 作为对比匹配剂。通过 SANS 和广角 X 射线散射 (WAXS) 的特殊评估方法，分析了碳前体对碳微结构尺寸和无序性方面的原子尺度结构顺序、纳米孔结构和模板过程的影响。WAXS 分析表明，与单块树脂相比，沥青基单块材料表现出更有序的微观结构，由更大的石墨烯堆叠和相似的石墨烯层尺寸组成。另一个主要发现是，在两种不同的碳前体沥青和树脂中发现的氩气和氘代对二甲苯之间的可及微孔/中孔率存在差异，而沥青和树脂通常可被视为具有代表性的碳前体。这些差异本质上表明，如果使用探测气体（例如 Ar 或 N 2）进行物理吸附来评估纳米级孔隙空间的可及性，则可能会提供误导性参数。
高能散射的算子展开
DESY 在 HERA 中观测到结构函数 F2(x,Q 2 ) 在小 x 处快速增加（见参考文献 [I]），这重新引起了人们对 QCD 振幅高能行为问题的兴趣。在首对数近似中，它受 BFKL 方程 [2-4] 控制，导致 F 2 (x) 的行为与实验曲线相差不大。不幸的是，BFKL 答案存在理论问题，这使得使用这些首对数描述真实的高能过程变得困难（甚至不可能）。首先，BFKL 答案违反了幺正性，因此它充其量只是某种前渐近行为，仅在某些中间能量下可靠。 （真正的高能渐近线对应于主要对数结果的单元化，但这是一个 20 年来无人成功的问题，并不是因为缺乏努力。）此外，即使在单元化并不重要的中等高能量下，QCD 中的 BFKL 结果也不是完全严格的。即使我们从
