图2在420°C下获得的Na交换TINCL的X射线衍射模式的Rietveld分析(样品A)。开圆显示了观察到的数据点,实线表示计算出的衍射模式。
CASRFE 0.75 CO 0.75 Mn 0.5 O 6-δ通过本研究中的Neu-Tron衍射技术研究。使用固态合成方法在1200°C的温度下合成材料。中子衍射数据经过rietveld的细化进行,并且对X射线衍射(XRD)数据进行比较分析以揭示材料的结构细节。研究结果表明,合成的材料表现出具有PM-3M相的立方晶体结构。中子衍射结果为晶格内原子的布置提供了宝贵的见解,这有助于对材料的结构特性的全面理解。这项研究增强了我们对CASRFE 0.75 CO 0.75 Mn 0.5 O 6-δ的了解,对其在各种技术和科学领域的应用有很大的影响。
使用X射线衍射(XRD)方法对纳米结构进行表征提供了有关结构的组成,晶格应变和异次层状层的信息。这些信息对于光电设备的制造过程很有用。在本文中,我们对常用材料Gaalas提供了基本描述。此外,X射线衍射方法对材料表征的重要性为材料的生长和开发过程提供了至关重要的信息。使用X射线衍射(XRD)方法分析外延生长GAAS/GAALA异质结构的结构表征。rigaku全球拟合模拟程序进行比较,以比较实验结果,模拟和实验结果彼此一致。
左插图)。在高分辨率TEM图像中(图1b),由于pH-PEI锚定在纳米颗粒的表面上,芯和壳表现出明显的衬里差异。电子衍射图像(图1b)和晶格间距(图1c)与CEO 2晶体结构的(111),(200),(220)和(311)晶体平面相匹配。[29,30] Bare CEO 2和CEO 2的XRD模式 @PH-PEI显示了八个衍射峰,与CEO 2的特征结构相对应(PDF#00-004-0593)(图。1d),而CEO 2的衍射峰 @pH-PEI更加清晰,更窄,
使用人工智能来处理衍射图像的挑战是需要组装大型且精确设计的训练数据集的挑战。为了解决这个问题,开发了一个称为Resonet的代码库,用于合成这些数据的衍射数据和培训残留神经网络。在这里,共振的两个人均能力:(i)晶体分辨率的解释和(ii)重叠晶格的识别。通过同步加速器实验和X射线自由电子激光实验对衍射图像的汇编进行了测试。至关重要的是,这些模型很容易在图形处理单元上执行,因此可以显着超过常规算法。目前使用共振来为斯坦福同步辐射光源的宏观分子晶体学用户提供实时反馈,但其简单的基于Python的接口使其易于嵌入其他处理框架。这项工作强调了基于物理的模拟对训练深神网络的实用性,并为开发其他模型的开发奠定了基础,以增强衍射收集和分析。
课程目标:通过确定光学现象(如干扰,衍射等)的重要性,启发了量子力学的质量和概念,介绍了二元材料和磁性材料的新颖概念。课程结果:CO1:分析由于极化,干扰和衍射引起的光强度变化。二氧化碳:熟悉晶体及其结构的基础。CO3:解释量子力学的基本原理,并将其应用于颗粒的一维运动。CO4:总结介电的各种极化并对磁性材料进行分类。co5:解释量子力学的基本概念和固体的带理论。二氧化碳:使用大厅效应确定半导体的类型。单元I波光学干扰:简介 - 叠加原理 - 光的干扰 - 干扰薄膜(反射几何形状)和应用 - 薄膜中的颜色 - 牛顿的环,测定波长和折射率。衍射:简介 - 菲涅尔和弗劳恩霍夫衍射 - 由于单个缝隙,双缝隙和n斜孔(定性) - 衍射光栅 - 分散幂和刺光的能力(定性)。极化:极化的简介 - 通过反射,折射和双重折射的极化 - 尼科尔的棱镜-HALF波和四分之一波板。III单元晶体学和X射线衍射晶体学:太空晶格,基础,晶胞和晶格参数 - Bravais Lattices - 晶体系统(3D) - 配位数 - SC,BCC&FCC的包装分数,BCC&FCC- Miller Indices - 连续(HKL)平面之间的分离。X射线衍射:Bragg定律 - X射线衍射仪 - 通过LAUE的晶体结构确定和粉末方法III III III介电和磁性材料
在半导体器件制造过程中,EUV 光刻技术必不可少,而光化学 EUV 掩模计量技术必不可少。在 PSI,我们正在开发 RESCAN,这是一种基于相干衍射成像 (CDI) 的平台,可以满足当前和未来的掩模检查分辨率要求。在 CDI 中,用相干光照射样品获得的衍射图案由像素检测器记录,这些衍射图案用于通过迭代相位检索算法重建物体的复振幅图像。虽然在传统光学系统中,像差会影响最终图像的分辨率,但 CDI 方法本质上是无像差的。尽管如此,仍需要仔细预处理衍射信号以避免重建图像中出现伪影。特别是,由于我们的系统以 6° 的入射角在反射模式下工作并使用平面检测器,因此有必要校正由于非远心性而导致圆锥失真的记录衍射图案。本文讨论了衍射数据预处理对重建图像质量的影响,并通过在 RESCAN 显微镜中应用优化的数据预处理流程展示了缺陷灵敏度的提高。结果,我们在光掩模上实现了低至 20 nm 的缺陷灵敏度,并在大视场中实现了均匀的图像质量。
第 1 章 简介 1 第 2 章 空中图像的形成 7 A. 光的数学描述 7 B. 基本成像理论 9 C. 像差和瞳孔滤光片 21 D. 散焦 25 E. 图像计算模式 29 第 3 章 驻波 38 A. 垂直入射,单层 39 B. 多层 40 C. 斜入射 43 D. 宽带照明 45 第 4 章 接触式和近距离印刷的衍射 48 A. 基尔霍夫衍射理论 48 B. 平面波狭缝衍射 53 C. 非均匀介质中的衍射 54 D. 确定格林函数 61 E. 接触式印刷 64 第 5 章 光刻胶曝光动力学 67 A. 吸收 67 B. 曝光动力学 72 C. 化学放大光刻胶 76 D. 测量 ABC 参数 84 第 6 章 光刻胶烘烤效果 91 A. 预烘烤 91 B. 曝光后烘烤 100 第 7 章 光刻胶显影 105 A. 动力学显影模型 106 B. 增强动力学显影模型 110 C. 表面抑制 112
图4:(a)从样品的大部分中的单晶区的TEM显微照片;在这种分辨率水平上可见结构缺陷(该图显示了一个仅表示图3所示区域的2至3像素的区域。底部的垂直线是聚焦的离子束制备伪像。(b)(a)区域中选定的区域电子衍射模式(SAEDP),索引到标准的Mg结构。(c)一个面积的低磁化蒙太奇微图显示,显示富含二晶的层(深中央带)。(d)来自丰富的bismuth乐队的SAEDP。在白色环中显示了富含需要匹氏菌区域的电子衍射模式(带有图像处理γ= 3.0)。显示了显示的晶刀(BI,黄色)和BI 2 O 3(红色)计算的环模式以进行比较; BI是一个更好的匹配。衍射
微波干扰可能通过一系列传播机制产生,这些机制各自的主导性取决于气候、无线电频率、感兴趣的时间百分比、距离和路径地形。在任何时候,可能存在一种或多种机制。主要干扰传播机制如下: – 视距(图1):最直接的干扰传播情况是在正常(即混合良好)大气条件下存在视距传输路径。但是,当子路径衍射导致信号电平略高于正常预期时,可能会产生额外的复杂性。此外,除了最短路径(即长度超过 5 公里的路径)之外,由于大气层结导致的多径和聚焦效应,信号电平通常可以在短时间内显著增强(见图2)。– 衍射(图1):在视线之外和正常条件下,衍射效应通常在存在显著信号电平的地方占主导地位。对于异常短期问题不重要的服务,衍射建模的精度通常决定了可以实现的系统密度。衍射预测能力必须具有足够的实用性,以覆盖光滑地球、离散障碍物和不规则(非结构化)地形情况。– 对流层散射(图1):此机制定义了较长路径(例如超过 100-150 公里)的“背景”干扰水平,此时衍射场变得非常弱。但是,除了涉及敏感地球站或非常高功率干扰源(例如雷达系统)的少数特殊情况外,通过对流层散射产生的干扰水平太低,不会产生重大影响。– 表面管道(图2):这是水面上和平坦沿海陆地区域最重要的短期干扰机制,可在长距离(海上 500 公里以上)产生高信号水平。在某些条件下,此类信号可能超过等效“自由空间”水平。