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增强了MOS2-RGO的氢进化活性...
摘要。氢进化反应（她）已成为生产清洁和可持续能量的有前途的技术。近年来，研究人员一直在探索各种材料，以有效地活动。在这项研究中，我们通过水热技术报告了两种不同材料，即MOS2和MOS2-RGO的合成。X射线衍射（XRD），傅立叶转换红外（FTIR）光谱和拉曼光谱法用于表征材料。XRD分析揭示了具有高度结晶度的六边形MOS2的形成。FTIR分析证实了MO-S键的存在，而拉曼光谱学为MOS2的形成提供了证据。评估材料的活性，线性扫描伏安法（LSV）。结果表明，MOS2和MOS2-RGO具有良好的活性，发作电位低和高电流密度。MOS2 -RGO材料与MOS2相比显示出其活性的改善，表明氧化石墨烯是增强MOS2性能的共催化剂的潜力。
新型三元纳米复合材料BIC80/GO（X mg）的合成和表征用于水处理
这项研究开发了用于合成一些来自纳米石墨氮化碳（G-C 3 N 4）的新型光催化纳米复合材料，由于甲基蓝色染料作为有机污染物在废水中的有机污染物而导致的甲基蓝色染料降解，氧化物（BI 2 O 3）和纳米氧化烯（NGO）。这些合成的新型三元纳米复合材料，包括BIC 80 /GO，BIC 80 /GO，BIC 80 /GO和BIC 80 /GO，其特征在于FTIR，UV -VIS，XRD，XRD，PL，PL，TGA，TGA，FESEM和ED，用于研究热稳定性，表面形态和纯净的纳米复合物的表面形态和纯度的热稳定性。在这项工作中研究了180分钟的可见光照射下，纳米材料和新型三元纳米复合材料的降解效率（D％）。在pH 12中，在35°C下在35°C下制备三元纳米复合材料BIC 80 /GO（20 mg）的最佳条件。
粘土上的碳纳米管形成和催化
摘要。粉煤灰，塑料废物和粘土是马来西亚常见的矿物质和残留物。在这项研究中，这些材料被充分利用为合成碳纳米管（CNT）的原材料。回收的聚丙烯先前用作食品容器，用作碳源。粉煤灰和粘土被探索为CNTS生长的潜在底物。在惰性环境中，在900°C的90分钟内将回收的聚丙烯热分解。在此过程中释放的碳原子被沉积在粉煤灰和粘土底物上，粉煤灰和粘土底物已浸入二代封溶液中，以提供CNTS生长的金属催化剂。使用扫描电子显微镜（SEM）和X射线衍射（XRD）对沉积产物进行表征。形态分析表明，粉煤灰和粘土都涂有纤维样结构，根据与XRD模式约26°的衍射峰确认为CNT。总而言之，粘土和粉煤灰证明了被用作CNT形成的底物的潜力。关键字：催化热分解；黏土; cnts;粉煤灰；再生聚丙烯1。简介
铁屑和聚苯乙烯废料制成的聚合物复合材料的机械、晶体学和微观结构分析
采用溶剂铸造法，以铁屑废料为填料，开发聚苯乙烯复合材料，旨在提高机械、晶体学和微观结构性能，以满足特定用途。根据 ASTM D638-10 标准进行拉伸试验。还进行了 X 射线衍射 (XRD) 分析和微观结构分析。杨氏模量随填料浓度 (0 – 15 wt%) 的增加而增加 (从 335.2 N/mm 2 增加到 1131.3 N/mm 2 )，断裂伸长率则反之亦然 (从 4.9 mm 增加到 1.6 mm)。XRD 显示，铁屑颗粒和聚苯乙烯基树脂 (PBR) 基质之间存在良好的结构相互作用。该复合材料分别结合了聚苯乙烯和铁屑的无定形和晶体性质。也没有观察到化学反应，但聚苯乙烯基体中形成了协同结构增强。微观结构分析表明，铁屑颗粒在聚苯乙烯基体中分散性良好，分布均匀；填料质量分数为15%的复合材料界面黏附性最好，颗粒-基体体系的混合比例适宜。
nicomn-mofs-for-...
抽象的水污染已成为一个全球问题。废水的来源主要包括工业和商业领域。为了满足清洁水的指数增加，需要有效的技术来处理废水。已经采用了几种技术，例如氧化还原反应，膜过滤，机械过程，化学处理和吸附技术。但是它们的成本和有效性仍然是一个主要问题。在这项研究中，我们通过使用简单的热液技术合成NICOMN MOF来采用有效的废水处理技术，并使用XRD和SEM来表征其可能的特性。XRD分析证实了NICOMN MOF的成功合成。通过SEM分析给出了有关表面形态和拓扑的足够信息，SEM分析证明是一种纳米多孔结构，具有高表面积有效的污染物中污染物的吸附和氧化催化。此外，观察到MOF之间的高静电吸引力，可能会吸引相对充满电的污染物。结果表明，用于废水处理应用中合成的NICOMN MOF具有很高的潜力。
结构，机械和热性能-RUA
摘要：在这项研究中，评估了桉树（EO），茶树（TT）和玫瑰玛丽（Ro）精油和chiriyuyo提取物（CE）的影响对从土豆淀粉，甘油，甘油和水获得的热塑性淀粉（TPS）的结构和特性的影响。所有油和提取物的浓度为0.5 g/100 g的TPS，而对于TT，还研究了浓度的效果。通过挤出和热压缩成型处理获得的混合物。纸张以XRD，FTIR，TGA，SEM的特征以及其机械性能，抗菌特性和生物降解性的分析。结果表明，在70TPS中，在70TPS中使用小浓度不会根据XRD，FTIR和TGA的结果诱导TPS结构的变化，尽管在所有情况下，每种精油和CE都会不均匀地影响机械性能，尽管在所有情况下，都不会获得TPS的抗菌活性，并且均不适用于TPS的生物降解性。60TPS中TT浓度的增加导致TPS结晶度的明显变化，从而提供了更大的模量，其TT浓度较高。不管TT的量如何，所有床单都保持抗菌特性，并且其在土壤中的生物降解被延迟的油含量较高。
Al2O3纳米结构的结构和光学特性...
氧化铝（Al 2 O 3）纳米结构通过绿色合成方法在铝箔底物上合成，使用热水处理方法在75°C下持续1、7、15和30分钟。在这项研究中，增长时间有所不同，以研究其对Al 2 O 3纳米结构的大小和密度的影响。使用SEM成像和XRD分析研究了准备准备的Al 2 O 3纳米结构的形态和结构特性，并通过UV-VIS光谱研究了光学特性。扫描电子显微镜（SEM）研究显示，随着80 nm-35 nm范围内的多孔纳米结构粒径随着合成反应时间从1增加到1分钟，多孔纳米结构粒径在80 nm-35 nm范围内降低。X射线衍射（XRD）分析表明，晶体行为随时间的增加而增加。光学性质结果表明，Al 2 O 3纳米结构在紫外线区域显示出相对较宽的吸收光谱。此外，当浸入时间分别从1分钟增加到30分钟时，能量差距（例如）从3.44增加到3.78 eV。这些结果对基于HWT Al 2 O 3纳米结构的Al 2 O 3辅助电子应用有重大影响。
研究CD+2掺杂的结构和电性能...
x cd x x fe 2 o 4（x = 0.00，0.01，0.01，0.03，0.05，0.07，0.09）由共同途径准备。准备后，样品在温度900°C下烧结6小时。不同的表征技术，例如XRD（X射线划分），FTIR（傅立叶转换 - 红外 - 光镜检查），UV-VIS。和IV-特征术用于探索掺杂元件（CD）对纳米粒子的电，结构和光学特性的影响。XRD数据证实了Fe2O3的第二阶段的材料的单相，平均晶体大小在38.09-45.15 nm的范围内。在8.4471Å到8.4763Å中发现的准备材料的平均晶格常数值。在FTIR数据中，在所有样本中都发现了一个突出的频段，在某些样品中，在400-4000cm-1的范围内发现了第二个频段。IV观察性揭示了DC抗药性对温度的依赖性以及在0.1365到0.4332 EV/1000K的范围内的活化能值（∆𝐸𝐸）的依赖性。紫外线。分析证实了平均波长286 nm的所有样品的吸收峰。在此波长吸收下，所有样品的吸收范围为2.8722-3.2956（A.U）。CD浓度负责减少饱和磁性和损耗的降低。由于合适的特性，这些材料在录制媒体，高频应用和电子工程等许多分支等不同领域都有用。（2024年10月16日收到； 2024年12月11日接受）关键词：纳米结构，共凝结法，XRD，晶体大小，电阻率，激活能量1.引言尖晶石铁氧体是一类带有通用式AB 2 O 4的磁性材料，其中A和B代表不同的金属阳离子，O是氧。它们具有称为尖晶石结构的立方晶体结构，以矿物尖晶石的名字命名。尖晶石铁氧体表现出磁性，电气和结构特性的组合，使其在广泛的应用中有用，包括磁性存储，变压器，电感器和生物医学设备[1]。
1 原子级构成稳定界面以改善...
图 1. (a) 未涂层和 Al 2 O 3 涂层 NMC 电极的 SEM 图像：(i, v) ALD-0、(ii, vi) ALD- 10、(iii, vii) ALD-20 和 (iv, viii) ALD-40。(i)-(iv) 和 (v)-(viii) 分别放大 ×25000 和 ×50000。(b) ALD-20 电极的 EDS 映射，(c) 基于同步加速器的未涂层和 ALD Al 2 O 3 涂层 NMC 的 XRD 图案。
厚度对Ni/GaAs体系固相反应的影响
摘要：为研究 Ni 与 GaAs 衬底之间的固相反应，利用磁控溅射技术在 GaAs 衬底上生长不同厚度的 Ni 薄膜，并进行原位 X 射线衍射 (XRD) 退火。利用原位和非原位 XRD、极图和原子探针层析成像 (APT) 研究了厚度对金属间化合物形成的影响。结果表明，20 nm 厚的 Ni 薄膜与 GaAs 衬底呈现外延关系，沉积后为 (001) Ni//(001) GaAs 和 [111] Ni//[110] GaAs。增加薄膜厚度会导致 Ni 薄膜织构的变化。这种差异对 Ni 3 GaAs 的形成温度有影响。该温度随着厚度的增加而降低。这是由于初始 Ni/GaAs 界面的相干/非相干性质所致。Ni 3 GaAs 相在约 400 ◦ C 时分解为二元和三元化合物 xNiAs 和 Ni 3 − x GaAs 1 − x。与 Ni 3 GaAs 类似，第二相的分解温度也取决于 Ni 层的初始厚度。