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World File Search System光学器件
用于光刻的 EUV 光学系统，分辨率低于 10 纳米
一直遵循摩尔定律，根据该定律，通过光刻生产的集成电路的集成度会翻倍。到目前为止，这些微芯片主要采用波长为 193 nm 的光学光刻技术制造。为了实现 10 纳米以下的结构尺寸，必须使用极紫外光 (EUV)：这可以实现更好的光学分辨率。然而，EUV 光刻面临着许多挑战。EUV 光被强烈吸收，因此必须在真空中进行曝光，并且在照明和成像系统中，必须将带透镜的折射光学器件替换为带镜子的反射光学器件。对要开发的光学器件的要求很高：它们需要高水平的研究和开发，以显著改善表面质量、材料成分、尺寸和形状。
Víctor Villalba、Hans Kuiper、Eberhard Gill，“可部署空间光学器件开发中的热学和机械挑战回顾”，J. Astron。
摘要。与传统光学器件相比，可展开光学器件有望通过大幅降低质量和体积需求来达到所需的性能水平，从而彻底改变宇宙观测能力。然而，这对新望远镜的机械和热设计提出了新的要求，本质上是用质量和体积来换取结构和控制的复杂性。我们汇编了设计光学空间系统时应考虑的热机械挑战，并总结了 14 个解决这些挑战的项目。严格的部署重复性要求需要低滞后，而稳定性要求需要高刚度、适当的热管理和主动光学元件。© 2020 光学仪器工程师协会 (SPIE) [DOI: 10.1117/1.JATIS.6.1 .010902 ]
量子密钥分发系统的通用模拟框架
摘要 量子密钥分发 (QKD) 提供了一种基于物理的方法来安全地协调远程用户之间的密钥。模拟是设计和优化 QKD 系统的重要方法。我们开发了一个基于光子信号和光学器件的量子算子描述的通用模拟框架。光学器件可以自由组合并由光子激发事件驱动，这使其原则上适用于任意 QKD 系统。我们的框架侧重于光学器件和系统结构的实际特性。建模时考虑了器件的缺陷和量子系统的非局部特性。我们模拟了单光子和 Hong-Ou-Mandel (HOM) 干涉光学单元，它们是 QKD 系统的基础。使用该事件驱动框架的结果与理论结果一致，表明其用于 QKD 的可行性。
QUANTEP 提案
• [2001] Knill、Laflamme 和 Milburn 展示了如何利用线性光学器件（使用分束器、移相器、单光子源和探测器）进行量子信息处理。特别是，利用这些元素可以构建 CNOT（受控非）门，它是所有量子算法的基本组成部分。
激光安全手册 - ehs.uci.edu
包围激光器或激光系统的外壳，用于防止接触超过适用 mpe 水平的激光辐射。有用光束发射的孔径不是保护外壳的一部分。保护外壳可以封闭相关光学器件和工作站，并限制接触其他相关辐射能发射以及与组件和端子相关的电气危险。
稳定的高功率深伏脉增强腔，用氟化物涂料在超高真空中
我们证明了在高功率深度硫化物增强腔的长期真空操作中，氟化物涂层与氧化物涂层镜的出色性能。在高真空度（10 - 8 MBAR）中，液化光学器件可以在一个小时的时间尺度上保持高达稳定的腔内功率的10 W创纪录的10 W，而对于氧化物光学元件，我们观察到在较低的室内功率下的快速降解，速度会随着功率而增加。观察到高真空中的降解后，我们可以用氧气回收氟化物和氧化物光学物质。但是，经过多次应用程序，这种恢复过程变得无效。对于氟化物涂层，我们看到氧气中的初始紫外线条件有助于改善光学元件的性能。在富含10-4 MBAR到1 MBAR的氧气环境中，氟化物光学器件可以在几个小时的时间尺度上稳定地保持高达20 W的腔内功率，而对于氧化物光学元件，氧化物的速度可以立即降解，速率随降低氧气压力而增加。
Bernd Richter、Philipp Wartenberg、Stephan Brenner、Johannes Zeltner、Christian Schmidt、Judith Baumgarten、Andreas Fritscher、Martin Rolle、Uwe Vogel
Bernd Richter、Philipp Wartenberg、Stephan Brenner、Johannes Zeltner、Christian Schmidt、Judith Baumgarten、Andreas Fritscher、Martin Rolle、Uwe Vogel 德国德累斯顿 Fraunhofer IPMS 一种新型半透明硅基 OLED 微显示技术，为纤薄近眼光学器件提供了新的光学设计机会