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本书旨在概述与半导体材料中的纳米科学和纳米技术相关的基本物理概念和设备应用。如书中所示,当固体的尺寸缩小到材料中电子的特征长度(德布罗意波长、相干长度、局域长度等)的大小时,由于量子效应而产生的新物理特性就会显现出来。这些新特性以各种方式表现出来:量子电导振荡、量子霍尔效应、共振隧穿、单电子传输等。它们可以在正确构建的纳米结构中观察到,例如半导体异质结、量子阱、超晶格等,这些在文中详细描述。这些量子结构所表现出的效应不仅从纯科学的角度来看意义重大——过去几十年来它们的发现者获得了数项诺贝尔奖——而且在大多数上一代微电子和光电子设备中也有重要的实际应用。 20 世纪 70 年代初,IBM 的 Esaki、Tsu 和 Chang 开创性地开展工作,为后来在量子阱和超晶格中观察到的许多新效应奠定了基础,从那以后,仅仅过去了 30 年左右。为了观察这些效应,20 世纪 80 年代,许多先进的研究实验室定期采用分子束外延、逐层生长和半导体纳米结构掺杂等先进技术。由于所有这些新发展都发生在相对较短的时间内,因此很难及时将它们纳入大学课程。然而,最近大多数一流大学都更新了课程,并在研究生和本科生阶段开设了以下课程:纳米科学与工程、纳米结构与设备、量子设备和纳米结构等。甚至还开设了纳米科学与工程硕士学位。物理学院、材料科学学院和各种工程学院(电气、材料等)经常开设这些课程。我们认为,在普通本科阶段,缺乏关于纳米科学和纳米技术的综合教科书。一些关于固体物理学的一般教科书开始包括几个部分,在某些情况下,甚至包括一整章,来介绍纳米科学。这些材料经常被添加为这些著名教科书新版本的最后一章,有时并没有真正将其整合到书的其余部分中。然而,对于可以部分用于研究生课程的专业书籍来说,情况要好一些,因为在过去的十五年里,一系列关于纳米科学的优秀教科书
我们几乎将所有光掩模都销售给半导体或 FPD 设计师、制造商和代工厂,以及其他高性能电子产品制造商。我们认为,对光掩模的需求主要取决于设计活动,而不是使用光掩模技术的产品的销售量。因此,半导体或 FPD 销售额的增加不一定会导致光掩模销售额的相应增加。此外,定制 IC 的使用减少、设计复杂性的降低、制造或设计半导体或 FPD 的技术或方法的其他变化,或新半导体或 FPD 设计的推出放缓,都可能减少对光掩模的需求 —— 即使对半导体和 FPD 的需求增加。从历史上看,微电子行业一直动荡不安,周期性出现急剧的衰退和放缓。这些负面趋势的特点包括产品需求减少、生产能力过剩以及销售价格加速下降等,从而对收入和盈利能力产生影响。
摘要。本文采用计算机建模方法,考虑优化基于热管和冷却环的被动空气系统设计,以冷却大功率 LED 灯具。研究了冷却系统的热特性和质量特性,设计参数包括环间距离、环材料厚度和热负荷。结果表明,为了使 LED 光源外壳温度最小,冷却环之间的最佳距离应为 6 毫米,但在这种情况下,冷却系统的质量并不最小。为了降低灯具质量,选择冷却环之间的距离等于 8 毫米是合理的。这样,光源温度仅增加 1.8°С,即 2.2%,而冷却系统的质量减少 1357 克,即 20.5%。同时,将环厚度从 2 毫米降低到 0.8 毫米,还可以将质量减少 2700 克,即 48.6%。然而,这样做时 LED 光源外壳的温度会升高 5.9°С 。所提供的基于热管的冷却系统在 LED 光源晶体最高温度 135.5°С 下分散 500W 热功率时能够提供 0.131°С/W 的热阻。已经制定了开发冷却系统的应用建议。
了解 Si(001) 上替代高 K 电介质的外延生长:应用于氧化镨。《真空科学与技术杂志》美国真空学会 B 官方杂志,微电子处理与现象,2003 年,21,1765。
1伦敦大学学院化学系,伦敦戈登街20号,WC1H 0AJ,英国2物理与天文学系,乌普萨拉大学,乌普萨拉大学,邮箱516,75120 Uppsala,瑞典3号,瑞典3化学系 - Ångström实验室,Uppsala Universiti联邦材料科学技术实验室,加入技术和腐蚀的实验室,瑞士,瑞士5号,基尔大学实验和应用物理研究所,基尔大学,德国24098,德国6 Ruprecht Haensel实验室,Deutsches,Elektronen-synchrotron desy,226607 Hamburg,Elektronen-synchrotron desy,德国Mainz,55128InstitutFürPhysikInstitutfürphysik Institut f-75005 sorbonne Universit'E,CNRS,CNRS,CNRS,CNRS,Laboratoire de Chimie体格 - Mati eRe et rayonnement,LCPMR,F-75005 Paris,Paris,Paris,Paris,France 9 France of Thressics of Thressics of Temple University,Paradelofia伯克利,加利福尼亚州94720,美利坚合众国11德国埃莱克特伦 - 同步性Desy,22607汉堡,德国
摘要:在技术渗透到我们生活的各个方面的时代,保护重要的基础设施免受网络威胁至关重要。本文探讨了机器学习和网络安全如何相互作用,并详细概述了这种动态协同作用如何增强关键系统和服务的防御。网络攻击对包括电网,运输网络和医疗保健系统在内的重要基础设施的公共安全和国家安全的危害非常重要。传统的安全方法未能跟上日益复杂的网络威胁。机器学习提供了改变游戏规则的答案,因为它可以实时分析大数据集并发现异常情况。这项研究的目的是通过应用机器学习算法(例如CNN,LSTM和深层增强算法)来增强关键基础架构的防御能力。这些算法可以通过使用历史数据并不断适应新威胁来预测弱点并减少可能的破坏。该研究还关注数据隐私,算法透明度和将机器学习应用于网络安全时出现的对抗性威胁的问题。要成功部署机器学习技术,必须消除这些障碍。保护重要的基础设施至关重要,因为我们每天都在连通性无处不在。这项研究提供了一个路线图,用于利用机器学习来维护我们当代社会的基础,并确保面对改变网络威胁,我们的重要基础设施是强大的。更安全,更安全的未来的秘诀是尖端技术与网络安全知识的结合。
X射线光电子光谱(XPS)数据的解释依赖于依赖几个参数的测量模型,包括光电衰减长度和X射线光子量。但是,其中一些参数尚不清楚,因为它们没有或无法测量。未知的几何参数可以在多弹性因子(对齐参数)中汇总在一起。此参数表征了令人兴奋的光与样品相互作用的能力。不幸的是,对齐参数的绝对值不能直接测量,部分原因是它取决于测量模型。相反,通常估计实验对准的代理,这与对齐参数密切相关。在此,一种基于原始XPS光谱的对齐参数的绝对值的方法(即未加工的光电子计数),显示样品的几何形状和光电子衰减长度。提出的参数估计方法可以使用简化的测量模型对XPS光谱进行定量分析。所有计算都可以在开放和免费的Julia语言框架预言中执行。为了证明可行性,对对齐参数估计方法进行了首次测试,并在模拟数据上使用已知的采集参数进行测试。然后将该方法应用于实验XPS数据,并显示了估计比对参数与典型使用的对齐代理之间的强相关性。
视频:液体喷射光电光谱(LJ-PES)在对液体水,水溶液和挥发性液体的电子结构的实验研究中取得了突破。这种技术的新颖性可以追溯到25年以上,其中在于在真空环境中稳定连续的微米直径LJ,以实现PES研究。PES中的关键数量是与电子垂直促进到真空中的最可能的能量:垂直电离能量,vie,for中性和阳离子,或垂直脱离能量VDE,用于阴离子。这些数量可用于鉴定物种,其化学状态和粘结环境及其在溶液中的结构特性。准确测量VIE和VDE的能力至关重要。相关的主要挑战是针对明确定义的能源参考的确定这些数量。仅采用最近开发的方法是通常的测量,通常对液体可行。实际上,这些方法涉及将凝结的概念应用于从液体样品中获取光电子(PE)光谱中,而不是仅依赖自第一个LJ-PES实验以来通常实施的分子 - 物理处理。这包括在自由电子检测之前明确考虑电子遍及液体表面的遍历。与精确的电离光子能量一起,此功能可以直接确定VIE或VDE,相对于液相真空水平,从任何感兴趣的PE特征中都可以直接确定。我们相对于液态真空水平的测量VIE和VDE的方法特别涉及检测样品中发出的最低能量电子,这些电子的能量勉强能够克服表面电势并积聚在液态光谱的低能尾巴中。通过将足够的偏置电位应用于液体样品,通常可以暴露出这种低能的光谱尾部,其尖锐,低的能量截止均显示出在测得的光谱中揭示真正的动力学零,而与实验中的任何扰动固有或外部电位无关。此外,通过还确定凝结物质中常见平衡能级的溶液 - 相VIE和VDE,费米水平可以量化固态PES溶液溶液工作功能,Eφ和液体可效应表面偶极效应中普遍实现的参考能。使用LJS,只能通过控制不良的表面充电和所有其他外部电势来正确访问费米水平,从而导致所有PE特征的能量移动,并排除准确的电子能量访问。更具体地说,必须设计条件以最大程度地减少所有不良电位,同时保持样品和设备之间的平衡,内在的(接触)的电位差。建立这些液相准确的能量引用方案,重要的是,可以从近偏差溶液中确定VIE和VDE,以及批量电子结构和界面效应之间的定量区别。■密钥参考我们将在此处审查和示例这些方案,并在此处审查这些方案,并在此处进行几种示例性水溶液,重点关注最低的离子化或最低能源 - 能源PE峰,这与水相种类的氧化稳定性有关。
程序委员会:Craig B. Arnold,普林斯顿大学(美国);马丁纳斯·贝雷斯纳大学南安普敦(英国); Laura Gemini,ALPhANOV(法国);长谷川聪,宇都宫大学中心。光学研究与教育(日本); Guido Hennig,Daetwyler Graphics AG(瑞士); Jürgen Ihlemann,哥廷根纳米光子研究所(德国);伊藤佑介,大学。东京(日本);牧村哲也,大学筑波(日本); Inka B. Manek-Hönninger 中心激光强度与应用(法国);卡洛斯·莫尔佩塞雷斯大学马德里理工大学(西班牙);米格尔·莫拉莱斯,大学。马德里理工大学(西班牙);中田芳树,大阪大学(日本); Aiko Narazaki,日本产业技术综合研究所 (日本);Beat Neuenschwander,伯尔尼高等技术学院 (瑞士);Jie Qiao,罗彻斯特理工学院 (美国);Gediminas Raciukaitis,物理科学与技术中心 (立陶宛);Joel Schrauben,MKS 仪器公司 (美国);Felix Sima,罗马尼亚国立激光、等离子体和辐射研究所 (罗马尼亚);Paul Somers,卡尔斯鲁厄理工学院 (德国);Koji Sugioka,日本理化学研究所先进光子学中心 (日本);Mitsuhiro Terakawa,庆应义塾大学 (日本);Onur Tokel,比尔肯特大学 (土耳其);Xianfan Xu,普渡大学 (美国)