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光电子学与先进材料 - 快速通讯 第 16 卷，第 5-6 期，2022 年 5 月至 6 月，第 193 - 199 页 关于性能改进
1 印度阿姆利则 GNDU 电子技术系 2 印度帕蒂亚拉旁遮普大学 ECE 系 本文介绍了 FSO 链路的 2×2 多输入多输出 (MIMO) 和 4×4 MIMO 架构，并将其与传统 FSO 链路进行了比较。从 Q 因子和 BER 方面分析了性能。所有系统配置的参数值和环境条件保持不变。这项工作的主要目标是使用 MIMO 技术来提高自由空间光通信 (FSO) 中的系统性能。MIMO 通过在接收器处接收同一信号的多个独立副本来利用接收器的空间分集。在本文中，特别关注设计合适的 MIMO FSO 系统和分析自由空间光学系统的性能。只有 4×4 MIMO 配置才能在 670 m 范围内产生可接受的 Q 因子 (>6) 和 BER(<10 -9)。而 2×2 MIMO 系统能够提供高达 630 米范围的可接受 BER 和 Q 因子。这两种 MIMO 技术都比没有 MIMO 的 FSO 系统提供了显着的范围扩展，后者的最大允许范围为 580 米。（2021 年 11 月 23 日收到；2022 年 6 月 6 日接受）关键词：MIMO、FSO、调制、Q 因子、BER
硅基光电子学
近半个世纪以来，硅基微电子技术与光纤通信引发了一场影响深远的信息技术革命，将人类社会带入了高速信息时代，对通信容量和速率的需求呈指数级增长，而数据中心和高性能计算则面临着电互连速度、带宽、能耗等瓶颈制约，硅基光电子技术成为突破这些瓶颈的关键技术。硅凭借折射率高、可容纳小型有源元件、与CMOS兼容工艺等优势，可以在微芯片上以低成本、低能耗实现大规模光电集成，成为芯片产业的热门选择。此外，硅基光电子技术还催生了中红外通信、微波光电子学、片上实验室、量子通信、光电计算、芯片级激光雷达等一系列新的研究领域。本期特刊“硅光子学的最新进展”涵盖了该领域器件和应用的最新发展。本期特刊包含五篇评论文章和四篇原创研究文章，重点关注数据中心相干互连、光电计算、集成量子电路和硅基光电混合集成中的关键器件及其应用。
《光电子学与先进材料杂志》第 24 卷，第 1-2 期，2022 年 1 月 - 2 月，第 69-73 页研究
光电子学与先进材料杂志 第 24 卷，第 1-2 期，2022 年 1 月 - 2 月，第 69-73 页 传统固相法合成的 Zn 掺杂钛酸钡陶瓷的结构和电学性能研究 EHSAN UL HAQ 1、MUHAMMAD RAMZAN ABDUL KARIM 2,*、KHURRAM IMRAN KHAN 2,*、WASEEM AKRAM 1、SYED SHABBAR HASSAN 1、FAHAD KASHIF 1 1 巴基斯坦拉合尔工程技术大学冶金与材料工程系，邮编 54890 2 巴基斯坦托皮-23640 GIK 工程科学与技术研究所材料与化学工程学院 钛酸钡 (BaTiO 3 ) 是一种具有压电和铁电性能的突出陶瓷材料。尽管在执行器、光电子器件和电容器中有着广泛的应用，但 BaTiO 3 的高响应时间和介电损耗限制了它的有效利用。氧化锌 (ZnO) 已成为多项研究中控制压电材料晶粒生长行为和介电性能的首选掺杂剂。在本研究中，通过常规固态方法将 0.02 wt.% 至 0.08 wt.% 的各种 ZnO 浓度添加到钛酸钡 (BaTiO 3 ) 中，然后在 1150 o C 下烧结 2 小时。在 X 射线衍射 (XRD) 分析中，所有掺杂剂浓度均未检测到第二相，表明所有添加的 ZnO 都已融入 BaTiO 3 中形成化学配方为 BaZn x Ti 1-
光电子风险因素
我们几乎将所有光掩模都销售给半导体或 FPD 设计师、制造商和代工厂，以及其他高性能电子产品制造商。我们认为，对光掩模的需求主要取决于设计活动，而不是使用光掩模技术的产品的销售量。因此，半导体或 FPD 销售额的增加不一定会导致光掩模销售额的相应增加。此外，定制 IC 的使用减少、设计复杂性的降低、制造或设计半导体或 FPD 的技术或方法的其他变化，或新半导体或 FPD 设计的推出放缓，都可能减少对光掩模的需求 —— 即使对半导体和 FPD 的需求增加。从历史上看，微电子行业一直动荡不安，周期性出现急剧的衰退和放缓。这些负面趋势的特点包括产品需求减少、生产能力过剩以及销售价格加速下降等，从而对收入和盈利能力产生影响。
硬X射线光电子光谱 - UCL Discovery
1伦敦大学学院化学系，伦敦戈登街20号，WC1H 0AJ，英国2物理与天文学系，乌普萨拉大学，乌普萨拉大学，邮箱516，75120 Uppsala，瑞典3号，瑞典3化学系 - Ångström实验室，Uppsala Universiti联邦材料科学技术实验室，加入技术和腐蚀的实验室，瑞士，瑞士5号，基尔大学实验和应用物理研究所，基尔大学，德国24098，德国6 Ruprecht Haensel实验室，Deutsches，Elektronen-synchrotron desy，226607 Hamburg，Elektronen-synchrotron desy，德国Mainz，55128InstitutFürPhysikInstitutfürphysik Institut f-75005 sorbonne Universit'E，CNRS，CNRS，CNRS，CNRS，Laboratoire de Chimie体格 - Mati eRe et rayonnement，LCPMR，F-75005 Paris，Paris，Paris，Paris，France 9 France of Thressics of Thressics of Temple University，Paradelofia伯克利，加利福尼亚州94720，美利坚合众国11德国埃莱克特伦 - 同步性Desy，22607汉堡，德国
铁卤化物钙钛矿光电子学
注意：本稿件由 UT-Battelle, LLC 撰写，合同编号为 DE-AC0500OR22725，与美国能源部签订。出版商接受发表本文，即承认美国政府保留非独占、已付费、不可撤销的全球许可，可出于美国政府目的出版或复制本稿件的已出版形式，或允许他人这样做。能源部将根据 DOE 公共访问计划 (http://energy.gov/downloads/doe-public-access-plan) 向公众提供这些联邦资助研究的成果。
铁卤化物钙钛矿光电子学
注意：本稿件由 UT-Battelle, LLC 撰写，合同编号为 DE-AC0500OR22725，与美国能源部签订。出版商接受发表本文，即承认美国政府保留非独占、已付费、不可撤销的全球许可，可出于美国政府目的出版或复制本稿件的已出版形式，或允许他人这样做。能源部将根据 DOE 公共访问计划 (http://energy.gov/downloads/doe-public-access-plan) 向公众提供这些联邦资助研究的成果。
高温近环境压力 X 射线光电子能谱
在国家氢能和燃料电池技术创新的背景下，弗劳恩霍夫 ISE 扩大了其研发基础设施，运营着全球为数不多的高温近常压 X 射线光电子能谱 (HT-NAP-XPS) 设施之一，从而为电解和燃料电池系统以及基于氢的 Power to X 概念的发展树立了另一个里程碑。EnviroESCA 设备为化学和加工工业等合作伙伴提供了更广泛的特性分析范围。该系统能够在近常压条件下研究几乎所有表面的化学状态。
versailles项目对X射线光电子光谱仪的强度校准的高级材料和标准性研究使用低密度聚乙烯
Benjamen P. Reed* 1 , David J. H. Cant 1 , Steve J. Spencer 1 , Abraham Jorge Carmona-Carmona 2 , Adam Bushell 3 , Alberto Herrera-Gómez 2 , Akira Kurokawa 4 , Andreas Thissen 5 , Andrew G. Thomas 6 , Andrew J. Britton 7 , Andrzej Bernasik 8 , Anne Fuchs 9 , Arthur P. Baddorf 10 , Bernd Bock 11 , Bill Theilacker 12 , Bin Cheng 13 , David G. Castner 14 , David J. Morgan 15 , David Valley 16 , Elizabeth A. Willneff 17 , Emily F. Smith 18 , Emmanuel Nolot 19 , Fangyan Xie 20 , Gilad Zorn 21 , Graham C. Smith 22 , Hideyuki Yasufuku 23 , Jeffery Fenton 24 , Jian Chen 20 , Jonathan D. P. Counsell 25 , Jörg Radnik 26 , Karen J. Gaskell 27 , Kateryna Artyushkova 16 , Li Yang 28 , Lulu Zhang 4 , Makiho Eguchi 29 , Marc Walker 30 , Mariusz Hajdyła 8 , Mateusz M. Marzec 8 , Matthew R. Linford 31 , Naoyoshi Kubota 29 , Orlando Cortazar- Martínez2，Paul Dietrich 5，Riki Satoh 29，Sven L. M. Schroeder 7，Tahereh G. Avval 31，Takaharu Nagatomi 32，Vincent Fernandez 33，Wayne Lake 34，Wayne Lake 34，Yasushi Azuma 4，Yasushi Azuma 4，Yusuke Yusuke Yoshikawa 355,36，and Alexander G./alexander G.
