1材料部的化学和物理单位,贾瓦哈拉尔·尼赫鲁(Jawaharlal Nehru)高级科学研究中心,班加拉罗尔560064,印度2,印度2国际材料科学中心,Jawaharlal Nehru先进科学研究中心,班加拉罗尔560064,印度560064,印度360064,印度材料3次高级材料学院。 IMN-CSIC,C/ISAAC NEWTON 8,TRES CANTOS,TRES CANTOS,28760 MADRID,MADRID 5澳大利亚州5澳大利亚州Microscopy and Microanalysis中心,NEW,新南威尔士州Camperdown,2006弗吉尼亚大学,夏洛茨维尔,弗吉尼亚22904,美国8物理系,弗吉尼亚大学夏洛茨维尔,弗吉尼亚州22904,美国
通过分子束在低温下(171-258 c)在分子束外延(171-258 c)上,通过分子束外延(171-258 c)在GAAS底物上生长了通过分子束外延在GAAS底物上生长。 高分辨率X射线衍射揭示了所有样品中的良好结晶度。 原子力显微镜显示出原子光滑的表面,最大粗糙度为1.9 nm。 530.5 cm 1在拉曼光谱中的碳的局部振动模式在ge 1 – x – y sn x c y样品中的替代c掺入。 X射线光电子光谱验证与SN和GE的碳键合碳键合,而没有SP 2或SP 3碳形成的证据。 未检测到与替代碳相相对应的常见的拉曼特征。 此外,在扫描电子显微镜中看不到Sn液滴,说明了C和SN掺入中的协同作用以及GE 1-X-X-YN X C Y活性区域对基于硅的激光的潜力。通过分子束外延在GAAS底物上生长。 高分辨率X射线衍射揭示了所有样品中的良好结晶度。 原子力显微镜显示出原子光滑的表面,最大粗糙度为1.9 nm。 530.5 cm 1在拉曼光谱中的碳的局部振动模式在ge 1 – x – y sn x c y样品中的替代c掺入。 X射线光电子光谱验证与SN和GE的碳键合碳键合,而没有SP 2或SP 3碳形成的证据。 未检测到与替代碳相相对应的常见的拉曼特征。 此外,在扫描电子显微镜中看不到Sn液滴,说明了C和SN掺入中的协同作用以及GE 1-X-X-YN X C Y活性区域对基于硅的激光的潜力。。高分辨率X射线衍射揭示了所有样品中的良好结晶度。原子力显微镜显示出原子光滑的表面,最大粗糙度为1.9 nm。530.5 cm 1在拉曼光谱中的碳的局部振动模式在ge 1 – x – y sn x c y样品中的替代c掺入。X射线光电子光谱验证与SN和GE的碳键合碳键合,而没有SP 2或SP 3碳形成的证据。未检测到与替代碳相相对应的常见的拉曼特征。此外,在扫描电子显微镜中看不到Sn液滴,说明了C和SN掺入中的协同作用以及GE 1-X-X-YN X C Y活性区域对基于硅的激光的潜力。
完整作者列表:Lee, Byungjun;密歇根大学,EECS Fan, Dejiu;密歇根大学,EECS Forrest, Stephen;密歇根大学,EECS
从缓冲液冷却源中提取冷分子束,然后进行2光片Ramsey询问。探针激光源被锁定到光学频率梳子(OFC),最终通过国家光纤链路传递的时钟激光器引用了CS主要标准。
3 G. Calabrese,P。Corfdir,A。Laha,T。Auzelle,L。Geelhaar,O。Brandt,S。Fernández-Garrido,“监视通过极化光学反射反射仪的分子束相邻的GAN纳米线的形成,以分子束相关的形成。4 V. Kaganer*,D。VanTreeck,G。Calabrese,J。K。Zettler,S.Fernández-Garrido,O。Konovalov,“从自我组装的Gan Nanowires中的小角X射线散射”,2018年MRS Spring会议,文档编号28775524。5 S. Fernández-Garrido, G. Calabrese , G. Gao, P. Corfdir, C. Pfüller, M. Ramsteiner, L. A. Galves, B. Sharma, S. V. Pettersen, J. K. Grepstad, Z. S. Schiaber, A. Trampert, J. M. J. Lopes, O. Brandt, Lutz Geelhaar, “Molecular beam epitaxy of GaN石墨烯和柔性金属箔上的纳米线”,被邀请的谈话,Spie Photonics West,Opto,Opto,San Francisco,(美国),27/01-01/02/2018。
必须按照以下技术配置中给出的顺序列出技术要求。第二列应以“是”或“否”的回答描述您的合规性。如果“否”,第三列应提供偏差程度(请提供定量回答)。第四列应说明偏差的原因(如果有)。第四列可用于将您的工具与竞争对手的工具进行比较,或提供以下技术要求表中要求的详细信息。3. 作为一种选择,请提供可能的任何建议附件/附加组件的分项成本
由GAAS底物上的分子束外延生长的外延结构由6个周期Al 0组成。8 GA 0。 2 as/al 0。 25 GA 0。 75作为Bragg反射器(下视镜),A 350 nm Al 0。 45 GA 0。 55作为核心和4个周期Al 0。 8 GA 0。 2 as/al 0。 25 GA 0。 75作为Bragg反射器(上镜)。 两个Bragg镜子在NIR范围内为泵梁提供了光子带隙垂直限制,也为电信范围内生成的SPDC光子的总内部反射覆盖提供了。 因此,泵和SPDC模式的特征是不同的分散曲线,允许单波导相匹配条件Δβ(0)= 0(等式 (s6)下面)要在关注的光谱范围内满足。 外延结构是通过分子束外延生长的,样品通过电子光刻(使用高分辨率HSQ抗性)处理,然后是ICP干蚀刻。 SPDC电信模式的模拟耦合常数为C TE = 2。 7 mm -1在TE极化中,C TM = 2。 48 GA 0。2 as/al 0。25 GA 0。 75作为Bragg反射器(下视镜),A 350 nm Al 0。 45 GA 0。 55作为核心和4个周期Al 0。 8 GA 0。 2 as/al 0。 25 GA 0。 75作为Bragg反射器(上镜)。 两个Bragg镜子在NIR范围内为泵梁提供了光子带隙垂直限制,也为电信范围内生成的SPDC光子的总内部反射覆盖提供了。 因此,泵和SPDC模式的特征是不同的分散曲线,允许单波导相匹配条件Δβ(0)= 0(等式 (s6)下面)要在关注的光谱范围内满足。 外延结构是通过分子束外延生长的,样品通过电子光刻(使用高分辨率HSQ抗性)处理,然后是ICP干蚀刻。 SPDC电信模式的模拟耦合常数为C TE = 2。 7 mm -1在TE极化中,C TM = 2。 425 GA 0。75作为Bragg反射器(下视镜),A 350 nm Al 0。45 GA 0。 55作为核心和4个周期Al 0。 8 GA 0。 2 as/al 0。 25 GA 0。 75作为Bragg反射器(上镜)。 两个Bragg镜子在NIR范围内为泵梁提供了光子带隙垂直限制,也为电信范围内生成的SPDC光子的总内部反射覆盖提供了。 因此,泵和SPDC模式的特征是不同的分散曲线,允许单波导相匹配条件Δβ(0)= 0(等式 (s6)下面)要在关注的光谱范围内满足。 外延结构是通过分子束外延生长的,样品通过电子光刻(使用高分辨率HSQ抗性)处理,然后是ICP干蚀刻。 SPDC电信模式的模拟耦合常数为C TE = 2。 7 mm -1在TE极化中,C TM = 2。 445 GA 0。55作为核心和4个周期Al 0。8 GA 0。 2 as/al 0。 25 GA 0。 75作为Bragg反射器(上镜)。 两个Bragg镜子在NIR范围内为泵梁提供了光子带隙垂直限制,也为电信范围内生成的SPDC光子的总内部反射覆盖提供了。 因此,泵和SPDC模式的特征是不同的分散曲线,允许单波导相匹配条件Δβ(0)= 0(等式 (s6)下面)要在关注的光谱范围内满足。 外延结构是通过分子束外延生长的,样品通过电子光刻(使用高分辨率HSQ抗性)处理,然后是ICP干蚀刻。 SPDC电信模式的模拟耦合常数为C TE = 2。 7 mm -1在TE极化中,C TM = 2。 48 GA 0。2 as/al 0。25 GA 0。 75作为Bragg反射器(上镜)。 两个Bragg镜子在NIR范围内为泵梁提供了光子带隙垂直限制,也为电信范围内生成的SPDC光子的总内部反射覆盖提供了。 因此,泵和SPDC模式的特征是不同的分散曲线,允许单波导相匹配条件Δβ(0)= 0(等式 (s6)下面)要在关注的光谱范围内满足。 外延结构是通过分子束外延生长的,样品通过电子光刻(使用高分辨率HSQ抗性)处理,然后是ICP干蚀刻。 SPDC电信模式的模拟耦合常数为C TE = 2。 7 mm -1在TE极化中,C TM = 2。 425 GA 0。75作为Bragg反射器(上镜)。 两个Bragg镜子在NIR范围内为泵梁提供了光子带隙垂直限制,也为电信范围内生成的SPDC光子的总内部反射覆盖提供了。 因此,泵和SPDC模式的特征是不同的分散曲线,允许单波导相匹配条件Δβ(0)= 0(等式 (s6)下面)要在关注的光谱范围内满足。 外延结构是通过分子束外延生长的,样品通过电子光刻(使用高分辨率HSQ抗性)处理,然后是ICP干蚀刻。 SPDC电信模式的模拟耦合常数为C TE = 2。 7 mm -1在TE极化中,C TM = 2。 475作为Bragg反射器(上镜)。两个Bragg镜子在NIR范围内为泵梁提供了光子带隙垂直限制,也为电信范围内生成的SPDC光子的总内部反射覆盖提供了。因此,泵和SPDC模式的特征是不同的分散曲线,允许单波导相匹配条件Δβ(0)= 0(等式(s6)下面)要在关注的光谱范围内满足。外延结构是通过分子束外延生长的,样品通过电子光刻(使用高分辨率HSQ抗性)处理,然后是ICP干蚀刻。SPDC电信模式的模拟耦合常数为C TE = 2。7 mm -1在TE极化中,C TM = 2。4
2012 年至今 德克萨斯大学奥斯汀分校 Seth R. Bank 教授 研究生助理 先进半导体外延实验室 – 研究和开发使用分子束外延的高应变 III-V 和稀释双胺 III-V 半导体中红外(3-5 µm)光电材料和器件的晶体生长技术。 – 演示了具有无铝有源区的 GaSb 基 I 型二极管激光器的最长波长发射(>3.6 µm)。 – 演示了 GaInAsSbBi 合金的首次外延生长和首次室温光致发光。 – 开发了基于 III-V 的半导体激光器的器件生长和制造工艺。 – 设计和实施工具和技术来维护、修理和操作两个分子束外延系统,同时避免耗时的真空系统烘烤。 – 设计并建造了具有亚皮秒分辨率的泵浦探测传输测试台,用于测量半导体中的载流子复合寿命。 – 通过添加自动测试功能改进了多个实验测试站。 – 将未充分利用的实验室空间改造成傅里叶变换红外 (FTIR) 光谱和红外显微镜分析站。 – 监督和指导参加夏季和学期研究体验的八个人的工作。