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World File Search System反射光学
基于不同微结构的反射特性可调微镜阵列及其应用
摘要：传统的反射特性可调的反射式光学表面需要复杂的外部电源，电源系统结构和制备工艺复杂，导致反射特性的调制有限，难以大规模应用。受生物复眼的启发，利用不同的微结构来调制光学性能。凸非球面微镜阵列（MMA）可以在扩大视场角的同时提高亮度增益，亮度增益广角>90°，视场广角接近180°，具有大增益广角和大视场广角的反射特性。凹非球面微镜阵列可以使亮度增益增加较大量，最高可达2.66，具有高增益的反射特性。并进行了工业级生产和在投影显示领域实际应用。结果证实，凸面MMA能够在宽光谱和宽角度范围内实现亮度增益，而凹面MMA能够显著提高亮度增益，这可能为开发先进的反射光学表面提供新的机遇。
先进光源的校准和标准光束线 6.3.2
该弯曲磁体光束线自 1995 年 2 月开始运行，用于表征光学元件（镜子、光栅、多层、探测器等）能量范围为 50-1000 eV。虽然它主要用于 EUV 投影光刻的多层反射光学元件的精密反射测量，但它具有广泛的测量能力。光学元件由单色仪、反射计和重新聚焦镜组成，以在样品上提供一个小点。单色仪是一种非常紧凑、无入口狭缝、变线距平面光栅设计，其中机械刻划光栅在高放大倍数工作的球面镜的会聚光中运行。镜子的像差通过线间距变化进行校正，因此光谱分辨力 λ / ∆λ 受 ALS 光源尺寸限制，约为 7000。波长通过简单旋转具有固定出口狭缝的光栅进行扫描。反射计能够将样品定位在 10 µ m 以内，并将其角位置设置为 0.002 °。基于 LABVIEW™ 的软件为用户提供了方便的界面。反射计通过差动泵与光束线分开，可在半小时内抽空。辅助实验站可以安装在反射计后面。结果证明了光束线的性能和操作便利性。© 1996 美国物理学会。
使用锯齿折射透镜在高能 X 射线光束线上聚焦
1-ID X 射线光束线利用先进光子源 (APS) 储存环电子束的高能量 (7 GeV)、其低发射率、短周期波荡器源和针对高能 X 射线优化的光学系统，提供 40-140 keV 光子能量范围内的高亮度光束，用于材料散射研究。这种 X 射线与物质相互作用的特点是衰减低、散射角小、相互空间访问大，使其非常适合用作体探测器以及几何限制或极端样品环境。光束线范围的很大一部分涉及以高空间分辨率研究工程材料的微观结构和演变，例如获得多晶材料的三维晶粒图，给出位置、形状、晶体取向和应变状态，并通常跟踪在施加的刺激下发生微观机械变化的数千个晶粒的这些参数。高空间分辨率研究通常通过结合多种互补技术进行，即在同一样本上使用聚焦和非聚焦光束。聚焦光束技术包括近场高能衍射显微镜 (nf-HEDM；Suter 等人，2006 年)、衍射断层扫描 (Birkbak 等人，2017 年) 和相干衍射成像 (CDI)。非聚焦光束用于传统断层扫描和远场高能衍射显微镜 (ff-HEDM；Lienert 等人，2011 年)。实现这样一套技术使得同轴聚焦光学系统变得可取，从而使线 (1D) 聚焦、点 (2D) 聚焦和非聚焦配置的光束位置保持不变。主要出于这个原因，不使用 Kirkpatrick–Baez 反射光学器件，尽管它们是消色差的，因此很容易适应能量可调性（如果基于全外部反射，而不是多层）。此外，与同轴光学器件不同，小焦点位置容易受到反射光学器件的角度稳定性的影响。基于菲涅尔区的光学器件（例如区域板和多层劳厄透镜）以同轴方式运行，但具有其他衍射级晕，其消除