这项研究展示了暗场 X 射线显微镜 (DFXM)(一种纳米结构的 3D 成像技术)在表征 GaN/AlN/Si/SiO 2 纳米柱顶部的新型氮化镓 (GaN) 外延结构以用于光电应用方面的潜力。纳米柱旨在使独立的 GaN 纳米结构聚结成高度取向的薄膜,因为 SiO 2 层在 GaN 生长温度下变软。在纳米级的不同类型的样品上展示了 DFXM,结果表明,通过这种生长方法可以实现取向极好的 GaN 线(标准偏差为 0.04)以及面积高达 10 10 平方毫米的区域的高度取向材料。在宏观尺度上,高强度 X 射线衍射表明 GaN 金字塔的聚结会导致纳米柱中硅的方向错误,这意味着生长按预期进行(即柱在聚结过程中旋转)。这两种衍射方法证明了这种生长方法对于微型显示器和微型 LED 的巨大前景,这些显示器和 LED 需要小岛状的高质量 GaN 材料,并提供了一种新方法来丰富对最高空间分辨率下光电相关材料的基本理解。
图1:所选接口的干涉4D-STEM暗场成像。(a)4D-STEM方法的示意图,其中光束干扰用于提取堆叠顺序。(b)示意图说明了用于标记石墨烯三层的扭曲角,θ和层编号约定。(c)在扭曲的三层Moir'ES中实现的各种高对称堆叠配置的插图。(d,e)具有θ13≈0°(d)和θ13= 0的三角形的平均收敛束电子衍射图。22◦(e)。插图中突出显示了重叠的ttlg bragg磁盘。每个bragg磁盘归因于一层,在SI第6节中进行了主动。(f,h)虚拟暗场图像对应于1&3的重叠。(g,i)与所有三层重叠相对应的虚拟暗场图像。比例尺分别为1 nm -1和25 nm(d,e)和真实空间(F – i)。
摘要:基于斑点的成像(SBI)是一种先进的X射线成像技术,除了吸收信号外,还测量相位和暗场信号。SBI使用随机波前调节器生成斑点,需要两个图像:一个单独具有斑点模式,另一个具有样品和斑点。SBI重建算法通过比较这两个图像来检索三个信号(传输,折射和暗场)。在SBI中,斑点可见性在检索三个信号中起着至关重要的作用。将技术从同步加速器源转化为紧凑的实验室设置时,源源的连贯性和可用分辨率中的局限性降低会产生较低的斑点可见性,从而阻碍了相位和暗场信号的检索。在这种情况下,直接检测CDTE X射线光子计数检测器(XPCD)提供了一个有吸引力的解决方案,因为它们允许高检测效率和最佳的空间分辨率增强斑点可见性。在这项工作中,我们介绍了新建立的最佳成像(最佳成像和断层扫描)实验室,用于托管在Elettra Synchrotron(意大利Trieste)的X射线成像。SBI的设置具有高达15 µm的分辨率,包括XPCD和电荷整合平面面板检测器(FPD)来获取SBI数据。总结了将SBI应用程序从同步器设施转移到紧凑的实验室设置时的主要限制因素。通过比较使用两个检测器获得的SBI图像来讨论XPCD比FPD的优点。简要介绍了通过使用XPCD的多阈值获取的光谱分解方法的潜力。本工作中显示的结果代表了实现多模式和多分辨率X射线设施的第一步。
粗体:血氧水平依赖性 SDF:侧流暗场 CLE:共聚焦激光显微内镜 DSA:数字减影血管造影 ICG-VA:吲哚菁绿视频血管造影 MDU:微血管多普勒超声 FUS:功能性超声 CEU:造影增强超声 声明:所有作者均已阅读并批准稿件,并同意以下要求:
术语 TiN:氮化钛 MgO:氧化镁 TMN:过渡金属氮化物 FCC:面心立方 B1:岩盐结构 UHV:超高真空 TEM:透射电子显微镜 STEM:扫描透射电子显微镜 HAADF:高角度环形暗场 DFT:密度泛函理论 MEAM:改进的嵌入原子方法 XRD:X 射线衍射 ToF-ERDA:飞行时间弹性反冲检测分析 BF:明场 FIB:聚焦离子束 SEM:扫描电子显微镜 FFT:快速傅里叶变换 DOS:态密度 FWHM:半峰全宽 GSFE:广义堆垛层错能 OP:重叠布居
血清学血清学的血液;血液进行伤寒,瘫痪,起伏热,t骨,斑疹伤寒,落基山斑点发烧和魏尔病的血液;血液涂抹疟疾和复发性发烧;毛细管中的几个材料,用于可疑的梅毒(暗场);伤寒 - 副肌肌甲状腺的尿液和粪便检查;肠道寄生虫的粪便(包括阿米巴病);结节芽孢杆菌的痰(涂片,浓度,培养和coccidiodes有机体;淋球菌和Vincent的生物的涂片,化脓性眼科培养物;芽孢杆菌的培养物和病毒性测试;放线症;放线症的疾病和培养物,smear和培养,动物,smearax:Smear,smear smear,smear smear inculty;可疑的,可疑的狂欢症(人类的尸体);
图 1 . (a) 以 PS- b -PEO 为模板的介孔 ZIF-8 (M- ZIF-8) 合成过程示意图。(b、c) M-ZIF-8 的 SEM 图像。(b) 中的插图显示了基于图 S1a 的粒径统计分布。(d) TEM 图像、(e) SAED 图像、(f) 暗场 TEM 图像和 EDS 映射、(g) XRD 图案、(h) SAXS 图案和 (i) M-ZIF-8 的 N 2 吸附-解吸等温线。(i) 中的插图显示孔径分布。以 (j) PS 3800 - b -PEO 5000 和 (l) PS 9500 - b -PEO 5000 为模板的 M-ZIF-8 的 SEM 图像。由 (k) PS 3800 - b -PEO 5000 和 (m) PS 9500 - b -PEO 5000 模板化的 M-ZIF-8 的 TEM 图像。比例尺:200 nm (b、c、d、f、jm);2 nm -1 (e)。
1。了解微生物学作为科学学科的范围和相关性。2。确定正确类型的显微镜和染色。3。获得有关微生物的各种分类的知识。4。研究微生物的形态和结构。5。熟悉各种灭菌技术。单元1:微生物学历史 - 微生物学的定义和范围;微生物学史;微生物生命的起源 - 自发产生的理论;安东·范·莱恩霍克(Anton Van Leewenhoek),路易·巴斯德(Louis Pasteur),罗伯特·科赫(Robert Koch),约瑟夫·李斯特(Joseph Lister),托马斯·J·伯里尔(Thomas J.内共生理论;微生物学与未来。单元2:显微镜和染色 - 显微镜 - 简单,化合物,暗场,相对比,荧光和电子显微镜;染色方法和原理 - 简单,差异(克染色)和特殊的染色技术(酸快速染色,孢子染色,胶囊染色,鞭毛染色,阴性染色,染色,代码颗粒的染色)。
研究了高反射率相移掩模 (HR-PSM) 对 36nm 间距逻辑接触孔进行图案化的方法,并在成像性能 (ILS、LCDU、MEEF 等) 和曝光剂量方面与其他掩模吸收器进行了比较。为此,使用了晶圆数据校准的 CAR 和 MOR EUV 光刻胶模型。我们的模拟结果表明,HR-PSM 在较大的掩模 CD 下会产生暗场图像。但是,随着掩模 CD 的减小,图像的色调会发生反转,并且可以生成具有良好对比度的明场图像。基于这一观察,提出了一种 HR-PSM 加 MOR 图案化方法,用于最小间距等于 36nm 的全间距逻辑接触孔应用。我们表明,这种方法在全间距性能方面表现出多种增强,并且使我们能够使用 0.33NA EUV 扫描仪将逻辑接触孔的实际分辨率扩展到 40nm 间距以下。
摘要:对于胶体纳米量结构,转移电子显微镜(TEM)网格已被广泛用作暗场显微镜的底物,因为纳米尺度的特征可以通过在暗场显微镜研究后通过TEM成像有效地确定。但是,在常规TEM网格中实现了光学上有损的碳层。从TEM网格边缘的宽带散射进一步限制了可访问的信噪比。在这里,我们认为自由悬浮,超薄和广泛的透明纳米膜可以应对此类挑战。我们开发了1 mm x600μm的比例和20 nm厚的聚(乙烯基形式)纳米膜,其面积比传统的TEM网格宽约180倍,因此有效排除了网格边缘的可能的宽带散射。另外,可以在没有碳支持的情况下形成这种纳米膜;使我们能够达到其他基材中散射的最高信噪比。关键字:暗场光谱,纳米光学,等离子体,MIE散射,纳米粒子