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World File Search System极化器
纳米气轴复合材料，用于极化光学
来自2D纳米材料的复合材料显示出独特的高电气，热和机械性能1,2。在极端条件下，高光谱光学元件需要将其稳健性与极化旋转配对。然而，刚性纳米片具有随机的运动形状，它扰乱了具有可比波长的光子的圆形极化。在这里，我们表明，尽管纳米气门是纳米气门和部分混乱，但来自2D纳米材料的多层纳米复合材料强烈且可控制地旋转光偏振。纳米复合膜中强烈的圆二色性（CD）源自皱纹，凹槽或脊的对角线模式，导致线性双折射（LB）轴（LB）和线性二色性（LD）之间的角度偏移。逐层（LBL）组装的纳米复合材料的分层提供了从不精确的纳米片的精确工程，其光学不对称g因子为1.0，超过了典型的纳米材料的含量为1.0。复合光学元件的高热弹性可实现高达250°C的工作温度，并在光谱的近红外（NIR）部分的热发射器进行成像。将LBL工程的纳米复合材料与ACHIRAR染料相结合，导致各向异性因素接近理论极限。来自硫化钼（MOS 2），MXENE和氧化石墨烯（GO）的纳米复合极化器以及两种制造方法证明了观察到的现象的一般性。可以为坚固的光学元件进行计算设计和加性设计的大型LBL光学纳米组件。
定期调制的石墨烯中的横向电面等离子体偏振子
石墨烯中的表面等离子体极化子（SPP）是理论和实验研究的一个有趣领域，尤其是在石墨烯层中支持具有横向电动（TE）极化的SPP的可能性[1]。最近，使用复杂的频率方法在非零温度下[2]的扩展频率范围显示，显示了TE SPP在非零的频率范围中存在，该方法使用复杂的频率方法模拟具有时间衰减的开放系统。由于石墨烯的电导率很小，与细胞结构常数成正比[1]，TE SPP频率色散非常接近光线，但由于其分散曲线位于光线下方，因此无法通过外部入射的光激发TE SPP。石墨烯以其光导率的可调节性而闻名，它通过应用合适的栅极电压来诱导易于易于的化学电位[3]。这是因为电子过渡出现在k点附近[4]，其中电子色散是线性的，状态的密度消失。诸如光学调节剂[5]和极化器[6]等设备以及吸收增强设备[7，8]，从这种可调性中受益，该可调性与石墨烯中TE SPP的存在一起，为等离子应用提供了令人兴奋的前景[9]。此外，使用定期石墨烯的结构打开了应用磁场时产生拓扑等离子状态的可能性[10-13]。已经研究了石墨烯[14 - 17]的周期性等离子结构，甚至是周期性石墨烯条的多层堆栈[18-22]。堆叠石墨烯二级层对横向磁性（TM）SPPS性质的影响也具有
磁铁溅射的无定形硅– SIO2量化纳米胺
规格作为基于差异较小的材料的设计。除了折射指数外，材料还必须满足其他要求，其中的材料在波长范围内具有可忽略的损失。但是，在介电材料中，折射率和吸收边缘是连接的。[1]具有高折射率的材料在长波长下具有吸收边缘，而低折射率材料在短波长下具有吸收边缘。tio 2是具有最高折射率的介电材料，在频谱的可见范围（VIS）中，开始在≈400nm处发射。具有更高折射率的处置材料，而在VIS中保持透明，将具有广泛的实际相关性，因为它将允许使用层较低的层且整体厚度降低的干扰设计。如本文所示，纳米胺的沉积速率超过了TIO 2之一。预计厚度降低和高沉积速率都会导致涂料系统的生产率提高和制造成本降低。除了制造纳米酰胺外，一种将折叠指数与散装材料特性脱离的方法是扫视角度沉积，[2,3]中形成了柱状纤维结构，从而减少了有效的折射率。因此，将在散装层和具有相同材料的柱状结构的层面层之间发生干扰效应。[4,5]。在2016年[7]由于没有不同材料之间的接口，这打开了有趣的效果，例如板极化器或更高的激光损伤抗性。如参考文献所述，一种可比较的方法是由有机膜的离子蚀刻形成的自组织结构。再次，通过蚀刻降低了层的有效折射率，该蚀刻引入了局部和未定位的多孔结构。[6]如果将层用作抗反射设计中的最外层，则此效果是有益的。至于瞥见角度沉积，自组织层的缺点是对环境条件的敏感性提高。一个最近克服两个特征之间联系的概念是量化纳米胺（QNL）的，这是Willemsen，Jupé等人首次报道的。
光诱导的光学干扰涂层的热辐射提交给时空照明
光学干扰过滤器用于现代光学元件的大多数区域，因为它们允许修改高精度光学系统中光传播和运输的参数：反射，传输，吸收，吸收，相位和极化，脉冲持续时间，脉冲持续时间等[1-4]。因此，这些光学特性是由波长，入射角和极化的函数控制的。例如，今天，我们合成和制造了许多光学功能，例如抗反射器，极化器和束分式拆分器，二分色过滤器，镜像和窄带过滤器，多PIC过滤器，高和低通滤波器，高通滤波器，逆滤波器，逆滤波器，chir滤波器和其他滤镜。合成（或设计或反问题）技术从数学和算法的角度取得了很大发展，到现在可以将任何任意光学（强度）函数与多层合构成的点。同时，制造技术已经发生了很大的发展，因此现在可以生产几百个薄层不同材料的过滤器，每一层的厚度从几nm到几百nm不等。某些问题自然保持开放，例如（除其他）相位和宽带特性，大块和微材料以及非光学特性。用于旗舰应用，例如引力波[5，6]或陀螺仪的镜子，而空间光学器件，当前的挑战是打破PPM屏障，即确保通过吸收和散射造成的总损失少于入射通量的100万。尽管假想索引（几个10-6）和多层组件中的低粗糙度（nm的一部分），但尚未达到这种艺术状态。应注意，这些损失也与组件的激光通量抗性直接相关，具体取决于照明状态[7]。在最低的光学损失的最后背景下，这项工作已经进行了。在所需的精度水平上，我们需要分析吸收机制的细节，考虑到这种吸收被转移到热传导，对流和辐射的过程中。对这种光诱导的热辐射的分析[8-10]至关重要：首先，它使我们能够追踪非常低的吸收水平（目前难以测量10-6以下），这可以允许确定