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连续膜表面微加工硅变形镜
表面微加工的一个成功光学应用是开发静电驱动微机械镜阵列（由可移动的反射或折射元件组成的大规模并行阵列），用于投影显示系统。1 每个元件都是一个镜面部分，可用作大型显示器中的一个像素，元件的驱动通过二进制数字控制信号并行协调。在这种系统中，已证明简单微机械致动器的制造成品率可以接近 100%。此外，已证实可以实现电子器件与微机电系统（MEMS）阵列结构的大规模集成。这种集成是通过在平面化 CMOS 电子器件阵列上构建 MEMS 结构来实现的。已提出了这些基本概念的几种扩展，以便开发用于自适应光学系统的表面微加工连续膜可变形镜。在自适应光学中，重要的是可变形镜既要连续又要精确可调。本文描述的装置是使用表面微加工技术制造的第一种连续镜。~ 体微加工连续镜之前已经展示过。2 ! 波士顿大学设计、制造和测试了表面微加工镜。该装置由单个柔性光学膜组成，该膜由多个附件支撑，这些附件位于表面法向静电致动器的底层阵列上。该装置有两个特点与以前的表面微加工镜系统不同。首先，镜面是连续的，而不是分段的。因此，致动器的局部变形会导致镜面平滑偏转，表面轮廓没有不连续性，没有由于分段边缘而导致的衍射干扰，也没有由于填充因子低于 1 而导致的光强度损失。此外，新的可变形镜装置允许精确、连续地控制镜面膜。
使用一维su-schrieffer-Heeger模型中的高级带镜
周期性晶格中的拓扑界面状态已成为电子，光子学和语音原理中的宝贵资产，这是由于它们固有的鲁棒性对障碍的固有性。与电子和光子学不同，Hypersound的线性分散关系为研究高阶带盖提供了理想的框架。在这项工作中，我们提出了一种设计策略，用于在GAAS / ALAS多层结构的高阶频带中生成和操纵拓扑纳米式界面状态。这些状态来自两个串联超晶格的频带反转，它们在带隙周围表现出倒置的空间模式对称性。通过调整这些超晶格中的单位单元的厚度比，我们能够在不同的带盖中设计界面状态，从而使能够开发跨越频率范围的多功能拓扑设备。此外，我们证明了此类界面状态也可以在混合结构中生成，这些结构将两个超晶格与以相同频率为中心的不同订单的带盖相结合。这些结构为探索高阶带盖中拓扑结构的途径开辟了途径，为揭幕和更好地理解复杂的拓扑系统提供了一个平台。
在光电流纳米镜检查中等离子体和极化效应的模型
扫描光电流显微镜传统上是使用聚焦光束进行的。1 - 4在这项技术的现代变体中，事件光的聚焦是通过尖锐的金属尖端实现的，如图1。这样的尖端充当光天线，将局部增强的近场增强到自由空间辐射。在实验中，扫描尖端，并使用位于样品外围的某个位置的电动触点来测量样品中产生的直流光电流。下面，我们将此技术称为扫描近场光电流显微镜或光电流纳米镜检查。也可以利用参与此类测量的仪器进行散射型扫描近场光学显微镜（S-SNOM）。在s-snom中，一个人检测到尖端而不是光电流的光片。实际上，一起执行S-SNOM和光电流纳米镜检查，提供了有关系统的互补信息。这种技术的组合已成功地应用于探针石墨烯和其他二维（2D）材料5 - 9的空间分辨率为≏20nm，这比衍射受限的传统方法好。最近的光电流纳米镜检查实验显示出区别的光谱共振和周期性干扰模式
基于不同微结构的反射特性可调微镜阵列及其应用
摘要：传统的反射特性可调的反射式光学表面需要复杂的外部电源，电源系统结构和制备工艺复杂，导致反射特性的调制有限，难以大规模应用。受生物复眼的启发，利用不同的微结构来调制光学性能。凸非球面微镜阵列（MMA）可以在扩大视场角的同时提高亮度增益，亮度增益广角>90°，视场广角接近180°，具有大增益广角和大视场广角的反射特性。凹非球面微镜阵列可以使亮度增益增加较大量，最高可达2.66，具有高增益的反射特性。并进行了工业级生产和在投影显示领域实际应用。结果证实，凸面MMA能够在宽光谱和宽角度范围内实现亮度增益，而凹面MMA能够显著提高亮度增益，这可能为开发先进的反射光学表面提供新的机遇。
人工智能辅助诊断在胃肠内镜领域的现状及未来挑战
注：NBI，窄带成像；FICE，富士智能彩色增强；BLI，蓝激光成像；LCI，联动彩色成像；SM2，黏膜下侵犯局限于500μm的胃癌；AUC，受试者工作特征曲线下面积。
低功率翻转电压追随者电流镜具有改进的输入输出阻抗
摘要。高性能子伏电流镜被广泛用于构建混合模式低功率VLSI系统。电流镜的性能取决于其关键参数，其中包括较大的操作范围，低输入合规性电压，宽秋千，大带宽以及非常低的输入和非常高的输出电阻。在本文中，显示了高性能低功率电流镜的设计。所提出的电流镜基于电压跟随器，使电流镜在低压下工作。为改善输入输出电阻，提出的电流镜由超级晶体管和超级cascode阶段使用。在微电瓦范围内的功率耗散时，直到1mA达到了最小误差的当前镜像。所达到的带宽为2.1 GHz，低输入和高输出电阻分别为0.407 ohm和50 giga ohm。在本文中还显示了过程角，温度分析和提议的电流镜的噪声分析。使用0.18 UM技术的HSPICE以0.5 V的双电源电压进行完整分析。
