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World File Search System电子束
用于紫外、激光和电子束光刻的负性光刻胶
主要应用 • 通过 DLW 和 2PP 进行快速非接触式原型制作 • 微系统技术中的光学应用 • 用于湿法和干法蚀刻工艺的蚀刻掩模 • 用于电镀的模具 • 用于印章制造/模板制造的模具
三菱电机电子束金属 3D 打印机
EZ300 2203B <IP> 创建于 2022 年 3 月 本出版物截至 2022 年 3 月为最新版本。请注意，外观和规格可能会发生变化，恕不另行通知。
Ti-6al-4V晶格结构的电子束熔化
表2。晶格和相对密度的平均值。结构I II II III III尺寸[mm] 4 7 10 4 7 10 4 7 10 M Latt [G] 5.832 3.139 2.018 12.016 7.512 6.806 10.298 9.697 9.697 8.887 8.887 /S 24.615 V * [mm 3] 1319.532 710.180 456.661 2718.602 1699.622 1539.869 2329.839 2193.841 2010.583
电子束的改进（e- ...
尘埃危害被认为是未来月球勘探的技术挑战之一。在我们过去的工作中，通过电子束从各种表面清除灰尘颗粒引入了一种新的粉尘缓解技术。这项技术是基于修补电荷模型开发的，该模型表明，电子束在灰尘颗粒之间的微腔内的电子束诱导的二次电子的发射和重新吸收会导致灰尘颗粒上的足够大电荷，从而导致由于强力排斥力而导致其从表面释放。在本文中，通过将样品相对于梁旋转，通过在灰尘覆盖的样品表面上的光束入射角改变了该技术的有效性。由于微腔的随机排列，将会以各种入射角将其暴露于光束，从而导致表面上更多的灰尘释放。对三个样本进行了清洁性能：玻璃，太空服和光伏（PV）面板。月球模拟物（直径<25μm）沉积在样品表面上，以使样品的初始清洁度为0％（全灰尘覆盖率）和40％。除了用固定的光束角度达到的清洁度外，还显示出梁入射角的整体表面清洁度增加了10-20％。玻璃和太空服样品的最终清洁度达到83 - 92％。涂有MGF 2的PV面板显示出对灰尘的更粘性，最大清洁度为50 - 63％。
通过使用一步的所有电子束光刻升降过程
超导量子计算是由于其出色的性能，可伸缩性和可靠性而实现量子至上的最有希望的平台之一[1，2]。为了推动量子计算机的计算能力，一个最终目标是增强超导电路量子电动力学（CQED）的某些特性特性，例如分解和倾向时间（分别为t 1和t 2）。在包括材料[3-5]，电路设计[6-8]和制造技术[9-11]在内的不同方面的改进是必不可少的，所有这些实践都依赖于大量和及时的设备制造。因此，一种适当的制造方法，可以迅速生产设备，同时简化以避免降解，这对于开发超导量子计算技术是重要的。
利用电子束进行月球探测的除尘技术
由于自然过程和/或人类活动而堆积在月球表面的灰尘很容易粘附在宇航服、光学设备和机械部件等物体上。这可能导致灰尘危害，而灰尘危害已被视为未来月球探索的技术挑战之一。过去几年，人们研究了几种除尘技术。这里我们介绍了一种利用电子束清除表面灰尘的新方法。最近关于静电除尘的研究表明，灰尘颗粒之间形成的微腔内二次电子或光电子的发射和吸收会导致周围颗粒上积聚大量负电荷。这些颗粒之间随后产生的排斥力会导致它们从表面释放。我们在实验中使用了细小的月球模拟颗粒（JSC-1A，直径 < 25 μ m）。清洁性能是根据电子束能量和电流密度、表面材料以及初始灰尘层厚度进行测试的。结果表明，使用优化的电子束参数（~230 eV 和 1.5 至 3 μ A/cm 2 之间的最小电流密度），在 ~100 秒的时间内，整体清洁度可达到 75 – 85%，具体取决于初始灰尘层的厚度。发现宇航服样品和玻璃表面的最大清洁度相似。未来的工作将侧重于去除最后一层灰尘颗粒以及使用紫外线 (UV) 光的替代方法。
文章 使用电子束技术进行 Ti-6Al-4V 线材增材制造
摘要：电子束自由曲面制造是一种送丝直接能量沉积增材制造工艺，其中真空条件可确保对大气进行出色的屏蔽并能够加工高反应性材料。在本文中，该技术应用于 α + β 钛合金 Ti-6Al-4V，以确定适合坚固构建的工艺参数。基于所选工艺参数，单个焊珠的尺寸和稀释度之间的相关性导致重叠距离在焊珠宽度的 70-75% 范围内，从而产生具有均匀高度和线性堆积速率的多焊珠层。此外，使用交替对称焊接序列堆叠具有不同数量轨道的层允许制造墙壁和块等简单结构。显微镜研究表明，主要结构由外延生长的柱状前 β 晶粒组成，具有一些随机分散的宏观和微观孔隙。所开发的微观结构由马氏体和细小的 α 层状结构混合而成，硬度适中且均匀，为 334 HV，极限抗拉强度为 953 MPa，断裂伸长率较低，为 4.5%。随后的应力消除热处理可使硬度分布均匀，断裂伸长率延长至 9.5%，但由于热处理过程中产生了细小的 α 层状结构，极限强度降至 881 MPa。通过能量色散 X 射线衍射测量的残余应力表明，沉积后纵向拉伸应力为 200-450 MPa，而进行应力消除处理后应力几乎为零。
使用电子束和聚焦激光快速制造方法生产的NITI合金中的超弹性效应
使用两种不同的快速制造方法 - 电子束添加剂制造（EBAM）和激光净成型（镜头） - 用于制造NITI元素。以电线或球形粉末形式的初始材料的微观结构和马氏体转化温度。使用镜头技术制造的样品在2 26 C（以DSC中的最大Martensite峰值为最大值表示）时显示了马氏体转化温度（MTT），与原粉相比较低。在使用EBAM制造的样品的情况下，MMT达到2 19 C. Martensite和反向转化的峰弥漫，这是由于样品中晶粒尺寸和组成的差异。在500°C下的衰老2小时不仅在两个样品冷却过程中不仅导致R相分离，还导致了更敏锐和更高转化峰的形成，以及MTT向更高温度的转移。微观结构研究显示，柱状晶粒，靠近沉积元件和底板的界面，垂直于板表面生长。谷物沿着生长方向显示轴向纤维纹理。茎显微照片揭示了富含Ti中的细长细胞的存在。在此过程中形成富含Ti的颗粒导致基质中Ti的耗竭，并与初始NITI粉末相比有助于MTT的增加。透镜沉积样品在奥氏体中还包含较高的位错密度。压缩应力/应变样品样品的应变曲线仅显示马氏体的变形，而透镜沉积的变形在压缩模式下显示出几乎完全的超弹性效应，最高3％。