1。ST Microelectronics completes acquisition of Norstel AB, a SiC wafer manufacturer, ST Microelectronics, 2019/12/2: https://www.st.com/content/st_com/ja/about/ media-center/press-item.html/c2930.html 2.ROHM集团Sicrystal和St Microelectronics同意提供碳化硅(SIC)Wafers多年来,ST Microelectronics,2020/1/15:https://newsroom.st.com/ja/ja/ja/media-ia-center/media-center/press-center/press-item/press-item.html/c2936.html,3。3.cree |。ST Microelectronics在意大利建立了新的集成SIC WAFER工厂,ST Microelectronics,2022/10/5:https://newsroom.st.com/ja/ja/media-center/media-center/press-item.htm.html/ c3124.html 5。Stmicro在意大利建立新的SIC WAFER工厂,在欧洲首次,Nikkei Crosstech,2022/10/18:https://xtps://xtech.nikkei.com/atcl/news/news/news/news/news/13938/13938/ 6.Infineon和Cree同意长期供应Sic Wafers,Infineon,2018/3/16:https://www.infineon.com/cmms/cmms/jp/jp/jp/jp/about-infineon/press/press/press/press/press/press/press/press-releases/2018/2018/Wolfspeed builds a new large-scale SiC factory in Germany, production begins in 2017, Nikkei Crosstech, 2023/2/28: https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/news/18/14642/ 8.Infineon收购了硅碳化物专家Siltechtra,Infineon,2018/12/7:https://www.infineon.com/cms/cms/cms/jp/jp/about-infineon/press/press/press/press/press-releases/2018/2018/2018/Infineon通过GT Advanced Technologies,Infineon,2020/11/9:https://wwwww.infineon.com/cms/cms/cms/jp/jp/about-infineon/ press/press/press/press/press/2020/infxx20202011-2011-2011-2011-014.html 10。有关电力半导体的SIC外延晶片:与Infineon Technologies签署的销售和联合开发协议,Showa Denko,2021年5月6日:https://wwwwww.resonac.com/jp/
氮气容易获得散装化学物质,可以用作一系列合成反应的多功能起始材料。然而,由于c ar – no 2键的惰性,直接否定的替代反应与未激活的硝化苯子仍然具有挑战性。化学家依赖于顺序还原和重氮化,然后是砂光剂反应或活化氮气的亲核芳族取代,以实现硝基群体转化。在这里,我们在可见光照射下开发了一种普遍的硝化氯化反应,其中氯自由基通过c ar –no 2键的裂解取代了硝基部分。这种实用的方法可与多种未活化的硝基(Hetero)领域和硝基烷烃一起使用,对空气或水分不敏感,并且可以在Decagram量表上顺利进行。这种转化与在合成和机制中的热条件下与先前的亲核芳族取代反应有所不同。密度功能理论计算揭示了取代反应的可能途径。
参考•Blue N,Pearson TS,Curian MA,SH Elsea。芳香族l-氨基酸脱接。2023年10月12日。in:亚当议员,弗莱姆曼J,米尔扎·总经理,潘德·RA,华莱士,阿米米亚A,编辑。generews(r)[嫁接]西雅图(WA):西雅图Washings University; 1993-2 •Brun L,Brun L,Ngu LH,GS,Choy YS,Hwu WL,Lee Wilemsen MA,MA,Verbeek MM,Wassenberg T,Regal L,Orcesi S,Tonduti D,Accartion P,Testard H,Testard H,Abdenur JE,Tay S,Tay S,Kern I,Kern I,Kato M,Kato M,Kato M,Burlina A,Manegold C,Manegold C,Hoffmann GF,Hoffmann GF,Blau N. Clinical N.芳香学L- Aminoe-Asscarnation Refiance。 神经病学。 2010年6月6日; 75:64-71。 doi:10 1212/wnl。 EPUB 2010年5月26日。 勘误:神经病学。 2010年8月10日; 75:576。 文章中的剂量错误。 •Hyland K. Hyland K. Hyland K. j nut。 Jun; 137(6 Suppl1):1568S-1572; 1573S-1575S讨论。 doi:10.1093/137.6.1568s。 •Lee HC,Lai CK,Yau KC,Su TS,CM,YP,YP,Channel KY,Tam S,Lam CW,Chanay。 -Amino-Arinariary无效西雅图(WA):西雅图Washings University; 1993-2•Brun L,Brun L,Ngu LH,GS,Choy YS,Hwu WL,Lee Wilemsen MA,MA,Verbeek MM,Wassenberg T,Regal L,Orcesi S,Tonduti D,Accartion P,Testard H,Testard H,Abdenur JE,Tay S,Tay S,Kern I,Kern I,Kato M,Kato M,Kato M,Burlina A,Manegold C,Manegold C,Hoffmann GF,Hoffmann GF,Blau N. Clinical N.芳香学L- Aminoe-Asscarnation Refiance。神经病学。2010年6月6日; 75:64-71。 doi:101212/wnl。EPUB 2010年5月26日。勘误:神经病学。2010年8月10日; 75:576。文章中的剂量错误。•Hyland K. Hyland K. Hyland K.j nut。Jun; 137(6 Suppl1):1568S-1572; 1573S-1575S讨论。doi:10.1093/137.6.1568s。•Lee HC,Lai CK,Yau KC,Su TS,CM,YP,YP,Channel KY,Tam S,Lam CW,Chanay。
微波最近已被用于聚合物的加工以加速固化或反应,高加热效率导致反应速率显著提高和反应时间急剧缩短。1最近的研究包括丙烯酸单体的聚合,2•3各种聚合物(如环氧树脂、4-8聚氨酯、9•10和功能化芳香族聚醚酮)的交联,11以及聚酰胺酸的酰亚胺化。12使用商用家用微波炉进行微波辐射也因比传统反应有显著效果而在有机合成中引起越来越多的关注。13-19然而,目前还没有任何关于这些微波辅助有机反应在缩合聚合物合成中的利用的报道。在本文中,我们报道了首次成功利用微波辐射快速合成芳香族聚酰胺的例子,该合成是在家用微波炉中,以亚磷酸三苯酯和吡啶的组合作为缩合剂,通过芳香族二胺与芳香族二羧酸在 N-甲基-2-吡咯烷酮 (NMP) 中直接缩聚而成的。20
摘要:采用化学酰亚胺化法制备了具有刚性聚合物主链的氟化芳香族聚酰亚胺 (FAPI) 薄膜。聚酰亚胺薄膜表现出优异的力学性能,包括高达 8.4 GPa 的弹性模量和高达 326.7 MPa 的拉伸强度,以及突出的热稳定性,包括玻璃化转变温度 (T g ) 为 346.3–351.6 ◦ C 和空气中的热分解温度 (T d5 ) 为 544.1–612.3 ◦ C,以及在 500 nm 处>81.2% 的高无色透过率。此外,聚酰亚胺薄膜在 10–60 GHz 下表现出稳定的介电常数和低介电损耗,这归因于刚性聚合物主链的紧密堆积限制了电场中偶极子的偏转。还建立了分子动力学模拟来描述分子结构和介电损耗的关系。
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通过仅使用蛋白质和化合物的一维结构进行分析,可以极快地进行计算(比对接模拟快 2,000 倍以上),同时达到与使用现有三维结构进行分析相同的精度。