机制[3,4]。炎症在动脉粥样硬化中起着核心作用,并与动脉壁中最小氧化的低密度脂蛋白(OX-LDL)同时发展。在内膜中,LDL通过活性氧(ROS)进行氧化修饰,从而促进脂质摄入巨噬细胞[5]。巨噬细胞代表早期动脉粥样硬化病变中的主要细胞类型,并在病变进展的各个阶段起重要作用。动脉粥样硬化病变中巨噬细胞的表型可能会受到谱系承诺和表型变化的影响。然而,动脉粥样硬化动脉中的巨噬细胞最终通过由摄取改良的LDL和胆固醇外排和
石墨烯量子点(GQD)的荧光性能,即小型单层或多层石墨烯含量[1,2,2,2,3,4,5,6,6,7,7,7,8,9,10,11,12]光伏[3,10],传感[5,9]或光催化[2,5,10]设备。在这些特性的核心上,发射状态的性质受到了多种自上而下和自下而上的可用合成技术的阻碍。可能的候选物可能范围从固有的π -π∗转变(在固定的SP 2系统中)到包括e在内的边缘状态。 g。富含氧气的官能团或碳样锯齿形位点。结果,影响发射波长的主要因素仍在争论。原始的GQD特性已在密度功能理论(DFT)和时间依赖性的TD-DFT水平上探索,并清楚地强调了通过量子结合的量子和降低GQD大小的量子的开放和光学间隙[13,14]。进一步的工作证明了功能化[15、8、14、16、17、18]和/或掺杂[14、19、20、21、22]可以显着影响GQD的电子和光学特性。这些研究阐明了可以在经过实验上观察到的各种光致发光特性,鉴于所选的合成途径和边缘处理,但据报道了原始GQD的一些有趣的特性[23,24,25,26,27,28]。特别是发现最低激发的光学过渡偶极子。这可以在吸收峰和发光峰之间的较大的stokes移动中表现出来,或者,如果存在有效的非辐射衰减通道,则在光致发光的淬灭中。这些特性与所考虑的理想拟光的高几何对称性相关[24,26,28]。在本研究中,我们表明,原始GQD中的低谎言深度激发的存在是植根于基础石墨烯格子和电子孔手性对称性的六边形对称性的一般特性。此外,此属性也保留给与高对称形状显着偏离的结构。这些结论是由从头算在现实的GQD上进行的多体绿色功能计算来确认的。我们认为,手性对称性施加了一定的能量量表,即使空间对称为
摘要 量子点细胞自动机 (QCA) 代表着一种新兴的纳米技术,有望取代当前的互补金属氧化物半导体数字集成电路技术。QCA 是一种极具前景的无晶体管范式,可以缩小到分子级,从而促进万亿级器件集成和极低的能量耗散。可逆 QCA 电路具有从逻辑级到物理级的可逆性,可以执行计算操作,耗散的能量低于 Landauer 能量极限 (kBTln2)。逻辑门的时间同步是一项必不可少的附加要求,尤其是在涉及复杂电路的情况下,以确保准确的计算结果。本文报告了八个新的逻辑和物理可逆时间同步 QCA 组合逻辑电路的设计和仿真。这里介绍的新电路设计通过使用本质上更对称的电路配置来缓解由逻辑门信息不同步引起的时钟延迟问题。模拟结果证实了所提出的可逆时间同步 QCA 组合逻辑电路的行为,该电路表现出超低能量耗散并同时提供准确的计算结果。
手稿于2022年12月16日收到;修订了2023年2月3日; 2023年2月7日接受。出版日期2023年2月20日;当前版本的日期2023年3月24日。这项工作得到了加拿大自然科学和工程研究委员会(NSERC)的部分支持;在加拿大第一研究卓越基金的一部分;在加拿大第一研究卓越基金的一部分是由Laboratoire纳米技术纳米纳斯特梅斯(LN2),该基金是法国 - 加拿大 - 加拿大联合国际研究实验室(IRL-3463),由中心由国家de la Recherche Scorentifique(CNRS),Universitedesitédesherbrooke,Unigabrooke,Comecomeitififique(CNR)中心资助和合作。 ÉcoleCentrale Lyon(ECL)和国家科学研究所(Institut National des Sciences)贴花(INSA)LYON;并部分由魁北克人的自然与技术(FRQNT)。本文的评论由编辑F. Bonani安排。(通讯作者:Pierre-Antoine Mouny。)Pierre-Antoine Mouny, Yann Beilliard, and Dominique Drouin are with the Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique (3IT) and the Institut Quantique (IQ), Université de Sherbrooke, Sherbrooke, QC J1K 0A5, Canada, and also with the Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2), CNRS UMI-3463,3IT,Sherbrooke,QC J1K 0A5,加拿大(电子邮件:Pierre-antoine.mouny.mouny@usherbrooke.ca)。SébastienGraveine,Abdelouadoud El Mesoudy,RaphaëlDawant,Pierre Gliech和Serge Ecoffey与Interdistut Interdisci-Plinaire d'innovation D'innovation D'Innovation Technologique(3IT),Sherbrooke,Sherbrooke,Sherbrooke,Sherbrooke,Sherbrooke,QC J1K 0A 5,CANCALAINE,CANCALAITIE,以及CANCALATO,CANCARAITAN,以及CANCACATAINIIS Nanosystèmes(LN2),CNRS UMI-3463,3IT,Sherbrooke,QC J1K 0A5,加拿大。Marc-Antoine Roux与加拿大QC J1K 2R1的Sherbrooke大学量子研究所(IQ)一起。Fabien Alibart与加拿大Sherbrooke,Sherbrooke,Sherbrooke,Sherbrooke University Institute(3IT)的互助创新创新研究所,加拿大QC J1K 0A5,也与纳米技术实验室纳米系统(LN2)一起加拿大,还与法国59650 Villeneuve-d'ascq的电子,微电子学和纳米技术学院(IENN)一起。Michel Pior-Ladrière与纳米技术实验室纳米系统(LN2),CNRS UMI-3463,3IT,Sherbrooke,QC J1K 0A5,加拿大,以及与Sher-Brooke,Sherbrooke,Sherbrooke,Sherbrooke,QC j1 cancase cancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancancance of sherbrooke,QC J1K 0A5本文中一个或多个数字的颜色版本可在https://doi.org/10.1109/ted.2023.3244133上找到。<数字OBJET标识符10.1109/TED.2023.3244133
使用在低温下运行的先进互补金属氧化物半导体 (CMOS) 技术实现基于量子点的电子自旋量子比特,可以实现大规模自旋量子比特系统的可重复和高通量工业制造。采用纯工业 CMOS 制造技术制造的硅基量子点架构的开发是朝着这个方向迈出的重要一步。本论文研究了意法半导体公司(法国克罗尔)的 28 nm UTBB(超薄体和埋氧化物)全耗尽绝缘体上硅(FD-SOI)技术的潜力,以实现明确定义的量子点,能够实现自旋量子比特系统。在此背景下,在 4.2 K 下对 FD-SOI 微结构进行了霍尔效应测量,以确定量子点应用的技术节点的质量。此外,还介绍了一种针对量子设备实施而优化的集成工艺流程,该工艺流程仅使用硅铸造方法进行大规模生产,重点是降低制造风险和总体交货时间。最后,设计了两种不同几何形状的 28 nm FD-SOI 量子点器件,并研究了它们在 1.4 K 下的性能。作为 Nanoacademic Technologies、Institut quantique 和 STMicroelectronics 合作的一部分,开发了 3D QT-CAD(量子技术计算机辅助设计)模型,用于建模 FD-SOI 量子点器件。因此,除了通过传输测量和库仑阻塞光谱对测试结构进行实验表征之外,还使用 QTCAD 软件对其性能进行建模和分析。这里介绍的结果证明了 FD-SOI 技术相对于其他量子计算应用方法的优势,以及在此背景下 28 nm 节点的已知局限性。该工作为基于较低技术节点的新一代FD-SOI量子点器件的实现铺平了道路。
III-V材料在硅上的直接生长是开发单层积分激光器的关键推动剂,在重要通信和计算技术中为超密集的光子整合提供了巨大的潜力。但是,III-V/SI晶格和热膨胀不匹配构成了重大障碍,从而导致缺陷使激光性能降低。这项研究克服了这一挑战,证明了与天然GAAS底物上的顶级激光器相当的INAS/GAAS-SI激光器。这是通过新开发的外延方法来实现的,其中包括一系列严格优化的增长策略。原子分辨率扫描隧道显微镜和光谱实验揭示了活性区域的出色材料质量,并阐明了每种生长策略对缺陷动态的影响。优化的III-V-n-silicon脊脊 - 波导激光器显示出低至6 mA的连续波阈值电流,高温操作达到165°C。在80°C,对于数据中心应用至关重要,它们保持12 ma阈值和35 MW的输出功率。此外,使用相同过程在SI和GAAS底物上制造的激光均显示出几乎相同的平均阈值电流。通过消除与GAAS/SI不匹配相关的性能限制,这项研究为将广泛的III-V光子技术的广泛范围稳健而高密度整合到硅生态系统中铺平了道路。
𝐼𝐴=𝐼!+𝐾&𝐴-积分PL强度是吸光度的线性函数。通过样品浓度不同的斜率“ K”与参考染料atto390-测量的PLQY相比,均通过不同浓度的斜率“ k”测量,测量的PLQY低于公司值(〜50%),这表明相位转移损失了一些PLQY均通过不同浓度的斜率“ k”测量,测量的PLQY低于公司值(〜50%),这表明相位转移损失了一些PLQY,测量的PLQY低于公司值(〜50%),这表明相位转移损失了一些PLQY
量子点在 InSb 纳米线内以栅极定义,靠近 NbTiN 超导触点。随着点和超导体之间的耦合增加,传输中的奇宇称占据区域在诱导超导间隙上方和下方都变得不可辨别(被擦除)。在间隙上方,奇数库仑阻塞谷中的电导率增加,直到谷被抬起。在间隙下方,安德烈夫束缚态经历量子相变,变为奇数占有的 Kondo 屏蔽单重态基态。我们研究了在低偏置和高偏置下奇宇称状态的明显擦除在多大程度上一致。我们用数值重正化群模拟来补充实验。我们从 Kondo 屏蔽和超导之间的竞争的角度来解释结果。在擦除奇宇称机制中,量子点表现出类似于有限尺寸马约拉纳纳米线的传输特征,在偶奇点占据和偶奇一维子带占据之间形成相似性。
研究团队发现了一种通过使用“脉冲型”光来提高电导率的方法,这种光可以定期集中产生大量能量。这种方法可以取代热处理工艺,因为热处理工艺需要大量时间才能达到同样的效果。这种方法有望在未来促进 PbS 量子点太阳能电池的生产和商业化。