图1。A)在PT/INGA/N -SI/SIO/SIO X/PT下,AO-ECL发射(AO-ECL)的方案是由EXC光子吸收触发的。b)电荷传输机制的方案,导致可见的440-nm光子在固体界面处产生。c)在PT/INGA/INGA/N -SI/SIO X/PT(CYAN曲线)和电解质吸收(灰色曲线)时,在PT/INGA/N -SI/N-SIO/SIO X/PT(灰色曲线)时,在PT/INGA/N -SI/N-SI/N-SIO/SIO X/PT(灰色曲线)处的IR 850 nm LED(棕色曲线)的归一化光谱。si bandGap由虚线的黑线表示,由AO-ECL诱导的波长的移位由红色箭头表示。d)N -Si/Sio X的XPS调查光谱,在涂层之前(橙色曲线)和N -SI/SIO X/PT的N -Si/Sio X/PT,在溅射2 nm厚的PT膜(粉红色曲线)后。
在750℃下烧成6小时以上,成为单斜晶WO 3 相。 P-2、P-3在烧成前为单斜晶系WO 3 、三斜晶系WO 3 、单斜晶系W 0.71 Mo 0.29 O 3 (PDF 01-076-1297),但在750℃下烧成6小时以上,变为单斜晶系W 0.71 钼 0.29 O 3 (PDF 01-076-1297) 和矩形 W 0.4 Mo 0.6 O 3 (PDF 01-076-1280)。 P-4在750℃下烧制24小时之前,单斜晶系W 0.71 Mo 0.29 O 3 (PDF 01-076-1297)、矩形W 0.4 Mo 0.6 O 3 和单斜晶系MoO 3 混合,但经过100小时后。煅烧后,MoO 3 峰消失,单斜晶系W 0.71 Mo形成了0.29 O 3 和矩形晶体W 0.4 Mo 0.6 O 3 。 P-5在烧成前为单斜MoO 3 (PDF PDF 00-047-1081),但烧成6小时以上后,变为具有层状结构的矩形MoO 3 (PDF 03-065-2421)。
据称,Sapphire 激光粉末床熔融 (LPBF) 金属 AM 系统专为大批量生产而设计。它包括一个直径 315 毫米、高 400 毫米的构建包络,配备双 1 kW 激光器操作。为了实现卓越的部件间一致性,Velo3D 报告称,Sapphire 的集成原位工艺计量技术可实现闭环熔池控制,据称这是同类产品中的首创。据称,该系统能够构建复杂的几何形状,并允许设计出无支撑的悬垂度低至五度,以及高达 40 毫米的大型无支撑内径。据报道,最小特征尺寸和壁厚低于 250 µm。为了最大限度地提高生产率,Sapphire 系统包含一个可实现自动切换的模块,使新的打印能够在 15 分钟内无需操作员参与即可开始。