图 1. (4,4-DFPD) 2 PbI 4 薄膜的制备和通过 XRD 和 AFM 进行表征。a) 通过滴铸、旋涂和旋涂并伴有真空极化处理沉积 (4,4-DFPD) 2 PbI 4 2D 钙钛矿薄膜的示意图。b) 制备的薄膜的 XRD 图案。插图显示了 Williamson-Hall 图,用于分析薄膜中的应变无序性。通过 c) 滴铸、d) 旋涂和 e) 旋涂并伴有真空极化处理沉积的薄膜的 3D 表面形貌 AFM 图像。
二维拓扑超导体(TSC)代表一种外来的量子材料,在边界处具有分散性主要模式(DMMS),在边界上表现出quasiparti-cle激发。一个域壁DMM可以在两个TSC域之间的边界上出现,其配对缝隙中的两个TSC域或具有π相移的边界,只能通过磁场来调节。在这里,我们提出了铁电(Fe)TSC的概念,该概念不仅丰富了域壁DMM,而且显着使它们具有电气调节。表明,配对隙的π相移位于相反的Fe极化的两个TSC域之间,并通过反向Fe极化来切换。与铁磁(FM)极化结合使用,域壁可以容纳螺旋,手性的两倍和融合的DMM,可以通过更改电气和/或磁性磁场的方向来彼此转移。此外,基于第一个原理的计算,我们证明了α -In 2 Se 3是具有FM层和超导体底物的邻近性Fe TSC候选者。我们设想Fe TSC将通过电气场显着轻松地操纵DMM,以实现容忍故障的量子计算。
关于贾坎德邦中央大学,兰奇尼中央大学(CUJ)是根据2009年《中央大学法》建立的,其明确的愿景是先驱当代教育计划,并提高了最先进技术的研究。提供各种计划,包括5年综合(UG/PG),研究生和博士学位。各个学校和部门的课程,Cuj仍然处于教育创新的最前沿。Cuj的教职员工在课程中拥有灵活性并促进了强大的研究合作,获得了国家和国际认可,获得了享有声望的奖学金,项目资金和荣誉。他们通过教学和咨询公司积极为政府,公共和私营部门做出贡献,并丰富了学术界和工业。cuj对卓越的承诺反映了印度政府MHRD NIRF的印度前300家学院的一致排名。在2020年,泰晤士报高等教育在全球前1000个机构中承认了Cuj,强调了其国际地位和学术实力。位于兰奇(Ranchi)蓬勃发展的Smart City中,Cuj的New Campus在坎克(Kanke)的Cheri-Manatu占地510英亩,提供了一种有利于学习和研究的环境。最初的校园坐落在兰奇(Ranchi)郊区Brambe的CTI校园的宁静45英亩的景观中,无缝地将教室和旅馆与自然环境整合在一起。有关Cuj,Ranchi的更多信息,包括录取和学术课程,请访问其网站http://cuj.ac.in/。
摘要 - 我们研究使用TIN/HF X ZR 1-X O 2/Interlayer/Si(MFIS)GATE堆栈的Si Fefet耐力疲劳期间,不同的层中和铁电材料对电荷捕获的影响。我们拥有具有不同层间(SIO 2或SION)和HF X ZR 1-X O 2材料(X = 0.75、0.6、0.5)的FeFET设备,并在耐力疲劳期间直接提取了电荷捕获。我们发现:1)层间中N元素的引入抑制了电荷捕获和缺陷的产生,并改善了耐力特征。2) As the spontaneous polarization ( P s ) of the Hf x Zr 1-x O 2 decreases from 25.9 μC/cm 2 (Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 ) to 20.3 μC/cm 2 (Hf 0.6 Zr 0.4 O 2 ), the charge trapping behavior decreases, resulting in the slow degradation rate of memory window (MW) during program/erase cycling;另外,当P S进一步降低至8.1μc/cm 2(HF 0.75 ZR 0.25 O 2)时,初始MW几乎消失(仅〜0.02 V)。因此,P s的减少可以改善耐力特征。合同中,它也可以减少MW。我们的工作有助于设计MFIS Gate堆栈以提高耐力特征。
波纹现象和曲率效应可提高稳定性并产生各向异性,以及增强的机械、光学和电子响应。双层石墨烯中的霍尔效应[1]和 MoS 2 中形成的人造原子晶体[2]就是很好的例子,它们表明电导率与偏离完美平坦结构之间存在很强的相关性。最近,铁电畴壁作为一种全新类型的二维系统出现,其形貌和电响应之间具有特别强的相关性。[3–6] 畴壁表现出 1-10 Å 数量级的有限厚度,因此通常被称为准二维系统。除了有限的厚度和与波纹二维材料类似之外,这些壁并不是严格意义上的二维,因为它们不会形成完全平坦的结构。弯曲和曲率自然发生,以尽量减少静电杂散场,确保机械兼容性,或由于导致畴壁粗糙的点缺陷。[7–10] 重要的是,相对于主体材料电极化的任何方向变化都会直接导致电荷状态的改变,从而导致局部载流子
快速、可逆、低功耗操控自旋纹理对于下一代自旋电子器件(如非易失性双极存储器、可切换自旋电流注入器或自旋场效应晶体管)至关重要。铁电拉什巴半导体 (FERSC) 是实现此类器件的理想材料。它们的铁电特性使得能够通过可逆和可切换的极化对拉什巴型自旋纹理进行电子控制。然而,只有极少数材料被确定属于此类多功能材料。这里,Pb 1 − x Ge x Te 被揭示为一种新型的纳米级 FERSC 系统。通过温度相关的 X 射线衍射证明了铁电相变和伴随的晶格畸变,并通过角分辨光电子能谱测量了它们对电子特性的影响。在少数纳米厚的外延异质结构中,较大的 Rashba 自旋分裂表现出随温度和 Ge 含量变化的宽调谐范围。本研究将 Pb 1 − x Ge x Te 定义为用于自旋电子学应用的高电位 FERSC 系统。
Chunrui Han 2,3* , Kenji Watanabe 4 , Takashi Taniguchi 4 , Kaihui Liu 1 , Jinhai Mao 5 , Wu Shi 6,7 , Bo Peng 8 ,
STO 在室温下是一种具有钙钛矿立方体结构的能带绝缘体。在 ≈ 105 K 时,氧八面体围绕其一个主轴发生反铁畸变旋转。[19] 原始的 STO 是一种量子顺电体。[20] 然而,在掺杂少量 Ca 或用 O 18 取代 O 16 后,铁电转变会恢复,其铁电居里温度取决于 Ca [21] 或 O 18 的浓度。[22,23] 产生氧空位,或用 La 取代 Sr 或用 Nb 取代 Ti,可以将 STO 变成导体,甚至是超导体,其转变温度非单调地取决于掺杂。已经证明,超导性可以存在于掺杂的 STO 的类铁电体中,甚至可以通过引入铁电性来增强。[24–30]
Niobate(LN)由于其丰富的材料特性,包括二阶非线性光学,电光和压电性特性,因此一直处于学术研究和工业应用的最前沿。LN多功能性的另一个方面源于在LN中使用微型甚至纳米规模的精度来设计铁电域的能力,这为设计具有改进性能的设计声学和光学设备提供了额外的自由度,并且只有在其他材料中才有可能。在这篇评论论文中,我们提供了针对LN开发的域工程技术的概述,其原理以及它们提供的典型域大小和模式均匀性,这对于需要具有良好可重复性的高分辨率域模式的设备很重要。它还强调了每种技术对应用程序的好处,局限性和适应性,以及可能的改进和未来的进步前景。此外,审查提供了域可视化方法的简要概述,这对于获得域质量/形状至关重要,并探讨了拟议的域工程方法的适应性,用于新兴的薄膜尼型乳核酸杆菌在绝缘剂平台上的薄膜,从而创造了下一个构成稳定范围和范围的集成范围和范围范围的范围和范围范围的范围。