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多光子光刻 (MPL) 是制造具有纳米级特征的自由曲面三维结构最有前途的技术之一 [1]。尽管其对光子学和生物学产生了深远影响 [2],但它在电子学中的应用需要重新评估材料处理工作流程中的许多步骤,但它为未来开辟了一条具有高度影响力的设备和发现的道路 [3,4]。

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