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低 K 介电材料的纳米机械性能测试
机构名称：

低 K 介电材料的纳米机械性能测试

¥ 3.0
热度

孔隙的引入会降低低 k 薄膜的机械强度，并导致 ULSI 互连严重损坏，例如 CMP 期间的薄膜分层和/或由于封装模具树脂的热应力导致的开裂。

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