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CIRA 结冰风洞中的云表征 - fedOA
8.1 STS 结冰云特性描述 ......................................................................................................129 8.1.1 液滴大小校准 ..............................................................................................................132 8.1.2 SBS 温度评估 ..............................................................................................................140 8.1.3 结冰云均匀性和覆盖面积 .............................................................................................143 8.1.4 液态水含量测量 .............................................................................................................149 8.1.5 结冰云操作包络线 .............................................................................................................155 8.2 ATS 结冰云特性描述 .............................................................................................................156 8.2.1 液滴大小校准 .............................................................................................................156 8.2.2 SBS 温度评估 .............................................................................................................163 8.2.3 结冰云均匀性和覆盖面积 .............................................................................................164 8.2.4 液态水含量测量 .............................................................................................................170 8.2.5 结冰云8.3 数据比较................................................................................................................177 8.3.1 MVD 数据比较：基本分析....................................................................................177 8.3.1 MVD 数据比较：热力学效应...............................................................................181 8.3.2 MVD 数据比较：流体动力学效应.......................................................................183 8.3.3 SBS 温度包络线比较....................................................................................186 8.3.4 均匀性测量比较....................................................................................................187 8.3.5 LWC 数据比较....................................................................................................191
确保3D印刷药的质量
半固体挤出（SSE）3D打印具有巨大的潜力，可以通过使用预填充和一次性的药物墨水注射器来满足监管良好的制造实践（GMP）重新质量。质量测试的均匀性是一个关键的质量属性，可以通过在单批批次中称量特定量的剂量单元并找到平均质量来评估任何偏差来执行。但是，对一小部分3D印刷药物的测试可能需要权衡整个制造的批次。为了克服这一限制，在GMP Pharmaceutical 3D打印机内实施了在线分析平衡，并具有专门的软件控制权重系统，用于整个印刷批次的自动质量均匀性测试。氢化软管药物INK的三个不同剂量批次（n = 28）打印并进行内部质量均匀性测试。开发的软件能够记录所有单个打印线的权重，并准确地检测到可接受的限制内的任何偏差。只有一个打印线位于公认的重量范围之外，这是由于药物的半固定性质而经常不完美的结果。将重量结果与外部分析平衡进行了比较，没有发现显着差异。这项研究是第一个在药品打印机内整合分析平衡的研究，使剂型形成质量均匀性测试自动化，该测试可以节省时间，人工和资源，同时改善了3D印刷药物的质量控制测试。
优化电镀工艺参数及Sn-...
由于封装设计的复杂性，镀层表面镀层厚度分布不均匀已成为电镀行业的一大挑战。在大多数情况下，根据所需的封装设计规范将镀层厚度均匀性控制在特定区域对于制造商来说是一项艰巨的任务，会导致高损失。镀层厚度均匀性与电镀工艺参数和阳极到阴极之间的电流通过密切相关。为了处理电流通过，控制阳极和阴极之间布置区域的屏蔽技术可能是一种有效的方法。因此，本文的目的是研究使用改进的机械屏蔽来改善锡镀层厚度均匀性的电镀工艺参数（电流和速度）。采用田口方法来缩小实验规模并同时优化工艺参数。结果，建立了新的参数，该参数提供理想的镀层厚度，变化较少，Cpk稳定。从所进行的实验工作表明，通过采用正确的物理电阻屏蔽孔径，能够选择性地改变或调节实施例中阳极和电镀表面之间的电场，从而控制整个电镀表面区域的电沉积速率。
估计各种Rebco磁带的物理和电气特性，用于建造非常高的Rebco磁铁
摘要 - 评估了四个Rebco CC的物理和电气特性：1）theva； 2）上海超越。技术； 3）日本法拉第工厂； 4）藤库拉。为了估算其物理特性，通过删除粘贴在胶带上的聚酰亚胺色带并在预锡后切割胶带来检查每个胶带的分层强度。还通过我们的金属悬挂过程研究了其厚度的均匀性和厚度的均匀性。用于评估其电气性能，在垂直于AB平面的各种外部磁场下在4.2 K下测量其临界电流。在自田77 K的液体氮浴中制造每条胶带的关节样品。在本文中为四个磁带描述了结果。
用于粘合剂、涂料和油墨的高剂量、大面积 UV LED 固化系统
OmniCure ® AC8-HD 系列产品将空气冷却 UV LED 固化提升到新的水平。这些系统可提供出色的高光剂量，并采用专利技术设计，可在整个照射区域实现无与伦比的输出均匀性。这些装置提供三种标准固化宽度 - 6 英寸 (150 毫米)、9 英寸 (225 毫米) 和 12 英寸 (300 毫米)，可以连接起来定制并实现无数固化尺寸，而不会影响均匀性。Excelitas Technologies 的专利工艺用于处理单个 UV LED 模块输出，不仅可以在整个固化区域实现出色的均匀性，而且还使客户能够定制输出并受益于更严格的过程控制。AC8-HD 系统可提供超过 15W/cm 2 的峰值辐照度，剂量是标准 AC8 系列产品的两倍，使这些系统成为需要高剂量应用的理想选择。凭借高 UV LED 输出，AC8-HD 系列可以支持更广泛的应用，并提高处理速度。 AC8150P-HD、AC8225P-HD 和 AC8300P-HD 具有 385nm、395nm 和 405nm 波长，还提供 RS485 功能，以实现更大的灵活性和易于集成。
农业和灌溉能源解决方案
滴灌和低压喷嘴微灌系统取代洪水和高压系统可以提高作物产量。当用水得到优化时，需要的抽水量就减少了。其他好处包括增加产量和单产、提高作物生产的质量和均匀性、加速作物成熟、提高边际土地的耕作能力以及大量节水。低压 用滴灌和低压喷嘴微灌系统取代洪水和高压系统可以提高作物产量。当用水得到优化时，需要的抽水量就减少了。其他好处包括增加产量和单产、提高作物生产的质量和均匀性、加速作物成熟、提高边际土地的耕作能力以及大量节水。喷水喷嘴 用滴灌和低压喷嘴微灌系统取代洪水和高压系统可以提高作物产量。当用水得到优化时，需要的抽水量就减少了。其他好处包括提高产量和单产、提高作物生产的质量和均匀性、加速作物成熟、提高边际土地耕种能力并大量节约用水。
通过圆形平面磁控管上的动态等离子体运动实现“清洁”溅射靶材的工艺优势
• 大致分为小FFE（3”-8”靶材）和大FFE（10”-17”靶材） • 靶材利用率高，镀膜均匀性好 • 半导体、研发、贵金属溅射、光学