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接触蚀刻停止 a-SixNy：H 层：单多晶硅闪存数据保留的关键因素
氮化硅 a-Si x N y :H 接触蚀刻停止层通过作用于初始电荷损失现象，强烈影响单多晶硅非挥发性存储器中的数据保留性能。其改进需要通过实验设计方法分析流入等离子体增强化学气相沉积工艺参数。a-Si x N y :H 物理电学分析指出，必须避免富含硅的成分，尤其是其界面层，以减少 a-Si x N y :H 电荷量，从而提高数据保留率。事实上，a-Si x N y :H 靠近浮栅，其电荷调制可以充当寄生存储器，通过电容效应屏蔽浮栅中存储的电荷。© 2009 美国真空学会。DOI：10.1116/1.3071846
大面积多晶-MOO_3薄膜IR光子学
摘要近年来，范德华（Van der Waals）材料中表面声子极地（SPHP）的激发受到了纳米光子学界的广泛关注。alpha相钼三氧化物（α-MOO 3），一种天然存在的双轴双曲晶体，由于其在不同波长带的三个正交指导下支持SPHP的能力（范围10-20 µM），因此出现是一种有前途的极性材料。在这里，我们报告了大面积（超过1 cm 2尺寸）的制造，结构，形态和光学IR表征，α -moo 3多晶膜通过脉冲激光沉积沉积在熔融二氧化硅底物上。由于随机晶粒分布，薄膜在正常发生率下未显示任何光学各向异性。但是，提出的制造方法使我们能够实现单个α相，从而保留与α -moo 3片的语音响应相关的典型强分散体。报告了IR光子学应用的显着光谱特性。例如，在1006 cm -1处具有极化的反射峰，动态范围为∆ r = 0.3，共振Q因子在45°的入射角下观察到高达53的共振Q。此外，我们报告了SIO 2底物的阻抗匹配条件的实现，从而导致独立于极化的几乎完全完美的吸收条件（R <0.01）在972 cm-1处，该条件可维持以较大的入射角维持。在此框架中，我们的发现似乎非常有前途的，对于使用远场检测设置，用于有效和大规模的传感器，滤镜，过滤器，热发射器和无标签的生物化学传感设备，用于进一步开发无IR线印刷膜，可扩展的膜，用于高效和大规模的传感器，过滤器，热发射器和无标签的生化感应设备。
LI3SB的应力/压力稳定的立方多晶型物具有改善的热电性能
全球对化石燃料以外替代能源资源的需求由于其消耗的耗竭和环境影响而被放大。最近的评估发现，在能源转化步骤中，全球72％的全球能源消耗损失。1，重大损失被指定为废热，需要回收以提高全球能源可持续性。因此，热电（TE）材料通过将废热转换为电力并作为无噪声和无噪声的固态冷却器来使其成为一种可持续和可靠的能源引起了极大的兴趣。2热电效率取决于功绩的无量纲热电图，ZT = A2σT /κ，其中a，σ，T和κ分别是Seebeck系数，分别是电导率，绝对温度和总导电性。3材料的热电效率可以通过
对多晶硅垂直薄膜晶体管的电特性的深入分析
hal是一个多学科的开放访问档案，用于存款和传播科学研究文件，无论它们是否已发表。这些文件可能来自法国或国外的教学和研究机构，也可能来自公共或私人研究中心。
多晶体的人皮肤微生物组模型为疾病建模提供了测试床
皮肤微生物组在人类表皮与环境之间的界面上起着至关重要的作用，从而提供了针对致病性菌株，训练宿主免疫和支持上皮周转的抗定殖抗性。成反比的是，不相反的皮肤微生物组状态与皮肤病有关，尤其是炎症性疾病，例如特应性皮炎和牛皮癣。当前对人类宿主和微生物组相互作用的评估依赖于疾病后的事后研究。这限制了评估疾病进展过程中宿主和微生物的因果作用的能力。在受控且可重复的背景下表征微生物和宿主生物学的一种方法是在体外模型中具有足够的复杂性和稳定性来支持扰动和反应。当前研究这些过程的工具集中于在短期（小时至几天）培养持续时间内测试两个或多个菌株之间的拮抗或协同关系，从而排除了对相关复杂性和慢性疾病状态的研究。在这里，我们提出了人类皮肤微生物组的体外模型，该模型包括一个六菌株联盟，在空气界面中定位了原代人角质形成细胞衍生的组织，长达7天。我们评估了组织健康的读数，包括组织学，基因表达和thransepithelial电阻（TEER），以及相对应变丰度，以表征随着时间的推移微生物组稳定性。皮肤细胞在两周内形成复杂的组织结构，并在与微生物联盟共培养7天后保持稳定或增加的TEER。在第7天的六个菌株中，在皮肤组织表面上是可行的，证明了用于微生物组研究的稳健稳定的测试床。该模型的一个显着特征是在有氧组织培养环境中cutibacterium痤疮的持久性，因为通常在厌氧条件下证明了痤疮藻的生长，这表明皮肤组织模型有利于天然皮肤菌株的自然生长状态。与健康对照组相比，与特应性皮炎的细胞因子代表相比，在第7天，组织屏障显着降低，而与微生物组的存在无关。此外，在患病模型组织中观察到相对应变丰度的改变，证明了研究疾病状态对
有机材料结晶多晶型之间的固-固相变
摘要 本综述讨论了有机分子结晶多晶型之间的固-固相变分析。虽然活性药物成分 (API) 是综述的范围，但无论有机分子是否具有生物活性，都没有特别定义其在结晶状态下的相互作用。因此，其他小有机分子也已纳入本分析，在某些情况下也讨论了聚合物。本综述的重点是实验分析；但是，增加了计算和理论方法部分，因为这些方法变得越来越重要，并且显然有助于理解例如转变机制，因为结果可以很容易地可视化。讨论了晶体结构之间固-固相变的以下方面。讨论了涉及热力学平衡的多晶型之间的相变热力学以及与吉布斯自由能密切相关的变量温度和压力。讨论了有机结晶固体中的两种主要转变机制，即置换和协同转变。回顾了用于理解 API 不同多晶型之间的机制和热力学平衡的实验方法。本文讨论了多晶型物性的转换，并回顾了热存储和释放，因为这是固态相变的主要应用之一。限制相变对于药物产品的控制很有吸引力，本文对其进行了回顾，因为它可能有助于通过使用亚稳态相来提高 API 的生物利用度。最后，本文讨论了有机材料的二级相变，这种相变似乎很少见。可以得出的结论是，尽管人们对多晶型和相变的一般理论有了很好的理解，但它对特定分子的作用仍然难以预测。
氯化钠促进了细菌土壤分离物的生长和多晶蛋白B
。cc-by 4.0国际许可（未经Peer Review尚未获得认证）是作者/资助者，他已授予Biorxiv的许可证，以永久显示预印本。它是制作
多晶硅，一项分子动力学研究
我们如何利用经典的分子动力学模拟来模拟和分析控制多晶硅沉积参数对沉积多晶硅膜结构的影响的现象和机制。多晶硅膜的晶粒形状和大小、结晶度、晶粒边界结构和应力取决于生长温度、生长膜中的温度分布、沉积通量、通量变化以及由于沉积通量而传递到膜表面的能量。主要结果包括：（i）沉积的多晶硅薄膜的结晶度分布对应力、温度和沉积流不同参数的依赖性，（ii）沉积初期的生长模式，（iii）多晶硅薄膜沉积初期种子晶粒的相互作用和稳定性以及从孤立晶粒生长到多晶硅生长的过渡，（iv）不同硅相的温度、结晶度、晶体形状和热导率的相互作用，（v）描述了晶粒生长的四个不同阶段：成核、生长、消失和延迟。
X射线张量层析成像，用于具有强纹理的小颗粒多晶
小角度X射线张量层析成像和相关的广角X射线张量扫描仪是X射线成像技术，可以通过断层扫描重建扩展样品的各向异性散射密度。在以前的研究中，这些方法已用于成像样品，其中散射密度缓慢地取决于散射方向，通常对方向性进行建模，即质地，球形谐波扩展到'= 8或更低为止。这项研究研究了几种已建立的算法从小角度X射线张量断层扫描上的样品上的性能，其变化速度更快，这是散射方向的函数，并比较了它们的预期和达到的性能。使用具有已知纹理的AS绘制钢丝中的广角散射数据对各种算法进行了测试，以确定用于此类样品的张量断层扫描方法的可行性，并比较现有算法的性能。
通过脉冲激光软沉积 TCO 以获得高质量的超薄多晶硅钝化接触
本文探讨了脉冲激光沉积 (PLD) 透明导电氧化物 (TCO) 在高质量超薄多晶硅基钝化接触上的适用性。通过减小多晶硅层厚度，可以最大限度地减少多晶硅层引起的寄生吸收。然而，多晶硅触点上的 TCO 沉积（通常通过溅射）会导致严重的沉积损伤，并进一步加剧较薄多晶硅层（<20 纳米）的表面钝化。虽然可以使用高温（约 350 摄氏度）热处理来部分修复表面钝化质量，但由于在多晶硅/ITO 界面形成了寄生氧化层，接触电阻率严重增加。或者，我们表明 PLD TCO 可用于减轻超薄（约 10 纳米）多晶硅层的损伤。通过增加沉积压力可以进一步改善多晶硅触点钝化，同时通过在高质量超薄多晶硅（n+）触点上使用 PLD 掺杂铟的氧化锡 (ITO) 层可实现低触点电阻率（约 45 m Ω cm 2）和良好的热稳定性（高达 350 °C）。通过将 PLD ITO 膜的出色光电特性与 10 nm 薄多晶硅触点相结合，可以实现高度透明的正面触点。