Kayaku Advanced Materials, Inc. 产品文献中包含的所有信息均反映了我们目前对该主题的了解,我们认为这些信息是可靠的。这些信息仅用于为客户自己的实验提供可能的建议,不能替代客户为确定 Kayaku Advanced Materials, Inc. 产品是否适用于任何特定用途而进行的任何测试。随着新知识和新经验的出现,这些信息可能会进行修订,但 Kayaku Advanced Materials, Inc. 不承担更新或修订任何先前提供给客户的数据的义务;如果数据时效性成为问题,客户应联系 Kayaku Advanced Materials, Inc. 要求更新。由于 Kayaku Advanced Materials, Inc. 无法预测实际最终用途或实际最终使用条件的所有变化,因此它不作任何明示或暗示的索赔、陈述或保证,包括但不限于任何适销性或特定适用性的保证
尊敬的客户,此信函旨在通知您,您所购买产品的原材料发生了变化。Kayaku Advanced Materials, Inc (KAM) 收到通知,我们的表面活性剂原材料制造商宣布其制造工厂因不可抗力而关闭。受影响的产品如下:MicroChem 101A 开发人员 KAM 确定了一种替代原材料,并已将其认定为替代品。所有样品均符合 CoA 规范。数据包作为本信函的附录包含。此变更预计将于 2022 年 9 月生效,因为 KAM 无法再获得当前的表面活性剂原材料。请注意,此日期可能会根据订单量而更改。KAM 致力于在尽可能不干扰客户流程的情况下进行更改。因此,应尽快将此通知的副本转发给贵组织内受此变更影响的所有人员。如果您有任何其他问题或疑虑,请随时联系您的销售代表,电话:+1 (617) 965-5511,电子邮件:sales@kayakuAM.com。感谢您的理解,我们非常重视您的业务。问候—Russell J Blake Russ Blake,高级质量工程师
1英寸测试过滤器特别推荐用于研发实验室应用。它们可广泛用于各种类型的流体,例如墨水、抗蚀剂和显影剂,应用范围广泛,从半导体、大电子和化学工业到一般工业应用。
图像质量、患者剂量和职业暴露。5. 增感屏:发光、荧光和磷光、结构和功能、常用的荧光粉类型、屏幕安装、胶片屏幕接触的保养和维护。增强因子、速度和细节-交叉效应、分辨率、量子斑点、互易律失效、屏幕不对称、清洁。新型荧光粉技术-千伏的影响。光刺激荧光粉成像。6. 暗盒(传统和基于 CR):结构和功能-类型-单个、网格、胶片支架-设计特点和装载/卸载考虑-保养和维护(清洁)。7. 光化学:原理:酸度、碱度、pH、处理周期、显影、显影液。定影、定影液、洗涤、干燥补充、检查和调整-潜像形成-显影性质-显影剂的构成-显影时间-使用显影剂的因素。定影剂-定影液的组成-影响定影剂的因素-定影剂的补充-银的保存-干燥-自动胶片处理机的显影剂和定影剂-漂洗-清洗和干燥。手动和自动处理中的补充率-银的回收-自动和手动化学品。通过加热和恒温器、浸入式加热器以及冷却方法控制化学品的温度。
作为纳米加工的主要工艺,DUV 光刻通常需要在光刻胶配方、溶剂和显影剂中使用大量有毒化学品。在此背景下,提出了替代当前石油衍生光刻胶的化学品,以减少对环境的影响。壳聚糖是一种生物源光刻胶,通过用绿色溶剂(去离子 (DI) 水)替代,可实现不含有机溶剂和碱性显影剂的水基图案化工艺。本文介绍了使用壳聚糖基光刻胶进行图案化集成的最后一个分步过程。使用 CEA-Leti 的 300 毫米中试线规模的初步结果显示,图案分辨率低至 800 nm,同时等离子蚀刻转移到 Si 基板中。最后,通过生命周期分析 (LCA) 对基于壳聚糖光刻胶的整个工艺的环境影响进行了评估,并将其与传统的基于溶剂的工艺进行了比较。关键词:光刻、光刻胶、生物源、壳聚糖、水基、半导体、可持续性、LCA
我们介绍了一种使用三层光刻胶工艺和电子束光刻技术,通过一次曝光制造出大量微观空气桥的技术。该技术能够形成具有牢固的金属-金属或金属-基板连接的空气桥。该技术已在由 400 个相同的表面栅极组成的电子隧道装置中得到应用,用于定义量子线,其中空气桥用作表面栅极的悬浮连接。该技术使我们能够创建大量两端均开放的均匀一维通道。在本文中,我们概述了制造工艺的细节,以及该技术开发中存在的挑战的研究和解决方案,其中包括使用水-IPA(异丙醇)显影剂、校准光刻胶厚度和对开发进行数值模拟。
使用时,采用 Gemini 即时双面技术的 Océ VarioPrint 6000+ 系列系统比传统电子照相双程打印系统能耗低 40%,有助于降低您的冷却和空调需求。这种节能性能与 Océ CopyPress 技术相结合,有助于使臭氧排放量明显低于主要竞争对手。而且由于 Océ VarioPrint 6000+ 系列的碳粉中不使用溶剂,因此无需复杂的空气过滤器或特别通风的工作区域。100% 碳粉使用率消除了浪费,因此无需内部清洁系统或碳粉废液瓶,也无需处理显影剂。总而言之,减少热量、能源使用和臭氧排放可基于可持续印刷技术打造更清洁、更安静、更健康的工作环境。
五片晶圆以 4000RPM 的旋转速度手工涂覆 AZ 1512。将晶圆在 100C 的加热板上预烘烤 45 秒。使用 Nanospec 测量 1.lum 厚的层。曝光量以 15m3/cm2 为增量从 7OmJ/cm2 变化到 130m3/cm2。移动 ETM 掩模,使掩模上的箭头与中间行中心单元的标记对齐。在 AZ312 MIF(1:1.2)显影剂中手工显影 1mm。用载物台测微计测量 3.Oum 线/间距对。绘制线宽与曝光量的关系图。确定与实际值 3.Oum 相差 0.lum 是可以接受的。记录产生可接受线宽的最大和最小曝光量。使用以下公式计算曝光宽容度:
摘要:TMAH 是一种季铵盐,由甲基化氮分子组成,在电子工业中广泛用作显影剂和硅蚀刻剂。这种物质有毒,摄入后会致命。它还会导致皮肤灼伤、眼部损伤和器官损伤。此外,TMAH 对水生系统具有长期毒性。尽管已知其毒性,但欧盟法规目前并未规定废水的排放限值(即排放浓度)。当前的情况需要研究含 TMAH 的工业废水处理工艺。这项工作旨在介绍电子和半导体行业 TMAH 废液降解处理工艺的成功案例。研究以中试规模进行,并证明了工艺可行性(技术和经济性)及其环境可持续性。该工艺处理三种高浓度有毒物质废液,被认为是创新的。