机构名称：
¥ 1.0
五片晶圆以 4000RPM 的旋转速度手工涂覆 AZ 1512。将晶圆在 100C 的加热板上预烘烤 45 秒。使用 Nanospec 测量 1.lum 厚的层。曝光量以 15m3/cm2 为增量从 7OmJ/cm2 变化到 130m3/cm2。移动 ETM 掩模，使掩模上的箭头与中间行中心单元的标记对齐。在 AZ312 MIF（1:1.2）显影剂中手工显影 1mm。用载物台测微计测量 3.Oum 线/间距对。绘制线宽与曝光量的关系图。确定与实际值 3.Oum 相差 0.lum 是可以接受的。记录产生可接受线宽的最大和最小曝光量。使用以下公式计算曝光宽容度：
染色光刻胶特性研究
主要关键词
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