表1显示了HS-8005系列阵容。为了减少划痕,日立化学化学已经开发了各种具有优化粒径和分布的产品。使用HS-8005-X3,抛光划痕可以减少到HS-8005的1/10或更少。我们建立了生产技术,以精心控制粒度和陶瓷颗粒的分布,以提供稳定的优质产品,并拥有陶瓷泥浆市场的全球最高份额。为了满足进一步减少刮擦的要求,Hitachi Chemical以NC系列形式开发了超细颗粒,以进行下一代浆液。虽然将常规的陶瓷颗粒粉碎以进行微插曲,但NC系列颗粒的大小是通过晶体生长法的泥浆,由于大尺寸颗粒而导致的划痕最小化。图3显示了HS-NC和HS-8005的外观。HS-NC是一种超细,透明的纳米级粒子。
图 2:典型球/月牙互连的简化表示 自动引线键合机于 20 世纪 80 年代初推出。当时,大多数互连都是使用铝线制作的。随着对高可靠性需求的增加,金线变得更加普遍。随着封装密度的增加,引线互连键合间距减小。细间距的初始解决方案是楔形键合,因为楔形工具设计允许将引线紧密键合(并排)。 细间距互连 在更小的空间内封装更多元件的需求导致 ASIC 设计变得更加密集。人们曾认为,互连细间距封装的最佳方法是通过楔形键合。在 20 世纪 90 年代后期,典型的键合间距从约 110µm 减小到约 90µm。在此期间,平均楔形工具尖端大约是球键合毛细管工具尖端宽度的三分之一。毛细管材料缺乏支持细间距工艺的稳健性。从那时起,改进的材料使细间距设计成为可能,其中尖端尺寸小于 70µm 的情况并不罕见。更小的特征、更高的密度和更多的 I/O 需要细间距。在当今的细间距环境中,任何使用楔形键合机键合的设备都可以使用球焊设备更快地键合。图 3 和图 4 描绘了使用 1.0 mil 导线通过球焊互连的 55µm 细间距架构。
除了使用有机基板封装外,为了克服尺寸限制,人们还提出了新的封装技术并将其应用于半导体产品。晶圆级封装 (WLP) 和扇出型晶圆级封装 (FOWLP) 的开发是为了通过采用晶圆工艺而不是基于层压的工艺来进一步缩小封装尺寸。对于亚微米互连,还提出了通过 Si 中介层 (TSI) 进行互连,并用于高密度 2.5D/3D 封装,其中 Cu BEOL 互连可用作再分布层 (RDL)。热压键合 (TCB) 目前用于 2.5D/3D 组装,然而,混合键合将是进一步缩小芯片连接尺寸的关键推动因素,这将在后面讨论。英飞凌于 2006 年提出了一种称为嵌入式晶圆级球栅阵列 (eWLB) 的 FOWLP [1],该技术于 2009 年转让给 STATS ChipPAC 进行批量生产。台积电开发了另一种类型的 FOWLP,称为
摘要:外延和晶圆键合系统界面的研究借鉴了材料科学、电气工程和机械工程,涉及先进的材料表征技术。低温晶圆键合已被用来生产各种各样的材料组合,最显著的是绝缘体上硅结构。然而,对外延和键合界面的修改会影响这些界面上的电或热传输。在本演讲中,我们提供了几个半导体和金属基系统的例子,以解决研究和修改不同、技术上重要的界面组合作为处理(如退火)的功能的能力。材料组合范围从 Si|Si 和 Si|Ge 到宽带隙材料组合,包括 GaN|Si 到 b-Ga 2 O 3 | SiC 以及金属|金属热压键合。我们的主要目标是能够研究和设计界面以优化属性并最终优化设备性能。这些研究是 MURI 项目“利用新的理论范式增强宽带隙电力电子中的界面热传输”的一部分。
我们的模块化构造PFA工艺增强晶圆载体和传统模制PFA工艺晶圆载体是为200 mM Fabs的湿化学加工应用而设计的。开放式流动器允许解决方案均匀,快速地通过。它们也由耐化学的PFA材料构成,因此您的过程仍未受到污染。
有效地需要用能量转换器覆盖较大的表面。这是太阳能电池,也称为光伏的地方。光伏设备,首先是由法国科学家Henri Becquerel于1839年发现的,它通过产生电子对 - 在光伏材料中的孔对直接转化为电子。这些对创建了电流流,该电流遵循材料的内置势坡。太阳能电池已成为重要的替代电源,尤其是自1970年代的石油座舱以来。此外,太阳能电池是一种有希望的无碳能源,可以帮助减轻全球变暖。实现高效率太阳能转化对于使太阳能成为满足世界能源需求的可行选择至关重要。太阳能电池的能量转化效率是指电池产生的电力与电池每单位时间接收到的入射阳光能量的比率。
