面临高风险并在纯数字领域运营的组织,例如计算机安全和许多金融服务,必须满足两个相互矛盾的目标:他们需要大规模和快速地识别数字威胁,同时避免自动化处理导致的错误。对高可靠性组织的研究发现,同时实现这些目标面临多重挑战,因为自动化往往使组织的运营“盲目”,无法从容应对高风险领域不断变化的复杂情况。在数字运营中,一个特殊的挑战来自“框架问题”,即算法无法适应其开发人员最初的认知框架中未确定的环境。在一家计算机安全公司 (F-Secure) 内进行了一项探索性、理论生成案例研究,以研究在数字领域行动的组织如何通过缓解框架问题来实现高可靠性。本文探讨了数字化组织操作的认知和实用特征,以及这些特征如何应对框架问题。集体正念被认为是在这样的社会技术环境中出现的,通过精心分层的系统组合(人类)有意识和(数字)无意识的操作,而组织的核心操作仍然是数字化和算法化的。研究结果指出了迄今为止与数字化组织相关的未探索的可靠性挑战,以及克服和/或缓解这些挑战的几种相关方法。
电子设备的尺寸正在接近原子大小,这迫使人们制定新的指导方针来应对 22 纳米以下设计的挑战。随着芯片制造深入纳米领域,工艺变异缓解和辐射硬度成为相关的可靠性要求。受工艺变异影响的集成电路可能无法满足某些性能或功率标准,从而导致参数产量损失并需要重新设计几个步骤 [1]。传统上,软错误 (SE) 是由来自太空或地面辐射的高能粒子与硅之间的相互作用引起的 [2]。然而,技术缩放引入了电荷共享现象和脉冲猝灭 [3]。此外,工艺变异会改变线性能量传输 (LET),从而引发软错误。其后果是暂时的数据丢失,甚至在地面层面也会导致系统行为出现严重故障。
氮化物材料中的氮掺杂是改善材料特性的一种有希望的方法。的确,GESBTE相位变化合金中的N掺杂已证明可以极大地提高其无定形相的热稳定性,这是确保最终相变存储设备的数据保留所必需的。尽管建议这种合金中的N掺杂导致GE-N键的优先形成,但有关键的进一步问题,尤其是SB-N和TE-N,并且结构排列尚不清楚。在本文中,我们介绍了使用大量的N含量从0到50 at at 50 at,我们介绍了沉积的元素GE,SB和TE系统及其氮化物(即Gen,SBN和10合金)的研究。%。通过傅立叶变换红外和拉曼光谱法研究了AS沉积合金。我们确定与GE-N,SB-N和TE-N键形成相关的主动振动模式,强调了N融合对这些元素系统结构的影响。我们进一步定性地将Gen,SBN和十个实验光谱与相关理想氮化物结构的“从头开始”进行了比较。最后,对氮化元素层的分析扩展到N掺杂的GESBTE合金,从而在记忆技术中采用的此类三元系统中对氮键有更深入的了解。
摘要 - 我们介绍了基于N掺杂SBSE和GE层的堆叠的卵子阈值开关(OTS)多层(ML)选择器设备的工程。通过调整单个层厚度和ML堆栈的N含量,我们证明了在集成后端(BEOL)(BEOL)期间可高度提高选择器稳定性的可能性,并降低设备对设备的变化。我们展示了OTS ML如何呈现基本的电气特性,这些特性与通过共同输入技术实现的标准散装OT兼容,但可以实现可靠的切换操作,最高可变可变异性的160°C。我们通过FTIR和拉曼光谱研究了层结构,即使在400°C下3小时后,在OTS/EDX分析中,在循环和退火的设备上进行了ots ml wrt buld ots的高稳定性,我们突出了OTS ML WRT量的无链结构的保留完整性。最后,由于对层结构和性能的更高控制,OTS ML解决方案允许可靠的耐力超过10个9周期,并提高了缩放设备的产量。
摘要 — 本文讨论了一种新的 MRAM 技术,其写入方案依赖于自旋轨道力矩 (SOT)。与自旋转移力矩 (STT) MRAM 相比,它提供了非常快速的切换、准无限的耐久性,并通过解决“读取干扰”问题提高了可靠性,这要归功于独立的读写路径。这些特性允许在系统内存层次结构的所有级别引入 SOT,并解决 STT-MRAM 无法轻松实现的应用程序。我们介绍了这项新兴技术和完整的设计框架,允许在任何抽象级别(从设备到系统)设计和模拟混合 CMOS/SOT 复杂电路。获得的结果非常有希望,表明该技术可以降低电路的功耗,而不会明显影响性能。
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NHIC新加坡执行董事Tina Wong,Technology Cheong Wei Yang副部长和临床研究与创新联盟新加坡主席John Lim在发布会上。
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