材料测试对于在生产周期的各个阶段鉴定陶瓷至关重要——从原材料验证到成品成型部件的特性分析。在本文中,我们重点介绍了几种用于陶瓷化学和结构分析的关键仪器方法:体相和微尺度应用中的 X 射线荧光(分别为 XRF 和 µXRF)、粉末 X 射线衍射 (XRD) 和 X 射线显微镜 (XRM)。XRF 测量提供有关化学和元素组成的信息,可用于定性和定量实验。体相 XRF 方法用于测试原始原料,以验证试剂纯度以及中间产品和最终产品中所需的比例。µXRF 在受限的物理区域内提供类似的信息,允许对零件和表面进行元素映射。XRD 可以识别
本报告基于 FAA 数字系统验证手册(帮助 FAA 认证专家解决高级技术问题的指南)的一章。其目的是解释在软件和硬件要求、设计和实施的规范和验证中使用形式化方法,确定将这些方法应用于关键应用中使用的数字系统的优点、弱点和困难,并提出在提供形式化方法支持认证时需要考虑的因素。本演示集中于形式化方法的基本原理及其对关键应用保证的贡献,例如在 DO-178B(民用飞机上使用的软件指南)2 提供的环境中;它旨在为那些不熟悉这些主题的人提供入门。配套报告提供了关于形式化方法的更技术性的讨论。~
如何开发和使用新型人工智能技术?本文结合数据和图书馆学的方法,重点介绍自然语言处理技术,尤其是国家图书馆中的自然语言处理技术。文章介绍了瑞典国家图书馆的藏书如何促成瑞典语新 BERT 语言模型的开发。文章还概述了该模型在学术图书馆中的具体用例,详细介绍了该模型如何使数字藏书可用于新形式的研究,从自动分类到增强搜索能力和改进 OCR 凝聚力。文章的结论强调了人工智能与图书馆相互影响的潜力,并指出,虽然人工智能可能会改变图书馆的运作方式,但图书馆也可以在人工智能的未来发展中发挥关键作用。
量子理论已显示出在增强机器学习方面的优势。然而,利用量子理论来增强图学习还处于起步阶段。本综述从基础理论、方法和前景三个角度研究了量子图学习 (QGL) 的最新进展。我们首先研究 QGL,分别讨论量子理论和图学习的互利关系、图结构数据的特殊性以及图学习的瓶颈。提出了一种新的 QGL 分类法,即图上的量子计算、量子图表示和图神经网络的量子电路。然后强调并解释其中的陷阱。本综述旨在对这一新兴领域进行简短而有见地的介绍,并详细讨论尚待研究的前沿和前景。
总结在多代理系统中,重要的是要考虑一种合作行动的方法,以实现共同的目标。在本文中,我们提出了两个新型的多代理增强学习方法,其中控制指定是由线性时间逻辑公式描述的,这代表了一个共同的目标。首先,我们提出了一种简单的解决方法,该方法直接从单格情况下延伸。在这种方法中,由于代理数量的增加引起了一些技术问题。接下来,为了克服这些技术问题,我们提出了一种新方法,其中引入了聚合器。最后,通过数值模拟比较这两种方法,并以监视问题为例。关键词:多代理系统,增强学习,线性时间逻辑,聚合器,监视
数据敏感度量自然出现在机器学习中,并且在一些著名方法中起着核心作用,例如 k-NN 图方法、流形学习、水平集方法、单链接聚类和基于欧氏 MST 的聚类(详情见第 5 节和附录 A)。构建合适的数据敏感度量是一个活跃的研究领域。我们考虑一个简单的数据敏感度量,它有一个底层流形结构,称为最近邻度量。该度量最早在 [CFM + 15] 中引入。它及其近似变体在过去已被多位研究人员研究过 [HDHI16、CFM + 15、SO05、BRS11、VB03]。在本文中,我们展示了如何精确计算任意维度的最近邻度量,这解决了任何基于流形的度量最重要和最具挑战性的问题之一。
我们正在举办一项机器学习竞赛,以吸引专注于开发用于识别Cero-Electon层析成像(Cryoet)获得的粒子位置的研究人员。冰冻是一种可视蛋白质组学的强大技术,可以在分子水平上详细探索生物系统。然而,它在大规模实验中的应用受到低吞吐量的约束,特别是在识别蛋白质的3D坐标或断层图内的大分子复合物的3D坐标 - 对于实现近特征图平均的接近原子分辨率至关重要。这一识别粒子位置的步骤称为粒子拾取,这是鉴定和标记断层图中各个颗粒的过程。我们的竞争重点是支持模型开发和评估冷冻数据中的粒子采摘,重点是识别实验数据中多种粒子类型的不同粒子。
药理学化合物中的有机,无机和残留溶剂杂质来源已被国际协调理事会分为类别。药物部门面临调节障碍,因为有机污染物可能是基因毒素。检测和方法开发也验证了teriflunomide色谱分离过程中产生的有机污染物的验证是这项工作的主要目标。使用二极管阵列检测器和反相高性能液相色谱进行杂质研究。在25°C的色谱柱温度下,通过梯度分离成功实现了C18 ymc-pack ODS柱。用作流动相,乙腈和0.015 M磷酸钾磷酸钾,pH为3.5。采用了210 nm检测器波长和1.0 mL/分钟的流量。使用经过验证的分析方法成功分离了六种相关的杂质,分辨率和保留时间在35分钟以下。teriflunomide,Teriflunomide阶段1和杂质D已建立了分析技术,范围分别为0.066–3.262、0.035–1.880和0.025-1.255 µg/ml。teriflunomide,Teriflunomide阶段1和杂质-D具有不同的检测限制,定量值的限制为0.0037和0.0096、0.0016和0.0016和0.0051,以及0.0011和0.0033 µg/ml。确认的分析方法可以有效地识别任何制造过程杂质。