(li 2.5 y 0.5 Zr 0.5 Cl 6:1.40 ms cm -1,li 2.7 in 0.3 Zr 0.7 Cl 6:2.07 ms cm -1和li 2.25 Zr 0.75 Zr 0.75 Fe 0.25 Cl 6:1 ms
基于AFNIA(HfO 2 )的硅通道铁电场效应晶体管(HfO 2 Si-FeFET)在非挥发性存储器领域得到了广泛的研究[1-7],这得益于掺杂HfO 2 中铁电性的发现[8]。文献报道中HfO 2 Si-FeFET的存储窗口(MW)大多在1-2 V左右[9-12],不能满足其在多位存储单元应用的要求。为了提高MW,当前的措施主要通过降低掺杂HfO 2 铁电体与Si通道之间底部SiO x 夹层的电场,从而抑制掺杂HfO 2 /SiO x 界面处的电荷捕获[13-16],同时增加SiO x 的数量。最近,有报道称MIFIS结构可以有效提高MW,并使用SiO 2 作为顶部夹层[17-21]。然而,Al 2 O 3 作为顶层尚未见报道。因此,我们报道 Al 2 O 3 层作为顶层中间层,以及 MW 对 Al 2 O 3 厚度的依赖性。
Yogendar Singh实验室编号:115,物理科学学院,Jawaharlal Nehru大学,新德里110067 110067 Yogendarsingh7878@gmail.com监视辐射中的结晶阶段的恢复GD 2 Ti 2 ti 2-y Zr y o 7 Zr y O 7 pyrochlore Post Pp-105 pp-105Yogendar Singh实验室编号:115,物理科学学院,Jawaharlal Nehru大学,新德里110067 110067 Yogendarsingh7878@gmail.com监视辐射中的结晶阶段的恢复GD 2 Ti 2 ti 2-y Zr y o 7 Zr y O 7 pyrochlore Post Pp-105 pp-105
Pb(Zr·Ti·1-x)O3[41]、(Pb,La)(Zr,Ti)O3[42]、(Bi·1/2·Na·1/2)TiO3-BaTiO3[43]、(1-x)(Bi·1/2
和锆酸盐(例如,Bace 0.6 Zr 0.3 Y 0.1 O 3-δ39,Bace 0.2 Zr 0.7 Y 0.1 O 3-δ40),Ytterbium和Ytterbium and yttrium co-
摘要:在本文中,详细研究了由高电流脉冲电子束处理的ZR-17NB合金的微观结构和磨损固定性。使用X射线衍射(XRD)分析后的脉冲处理后的相位变化,显示了由β(ZR,NB)相的一部分形成的β(nb)相和α(ZR)相。另外,还发现了β(ZR,NB)衍射峰的变窄和移动。扫描电子显微镜(SEM)和金相分析结果表明,高电流脉冲电子束(HCPEB)治疗之前合金表面的显微结构是由等上晶体组成的。但是,在15和30脉冲处理后,陨石坑结构得到了显着造成的。此外,还发现合金表面在30脉冲处理后经历了共菌体转化,并且发生了β(ZR,NB)的反应→αZR +βNB。显微硬度测试结果表明,随着脉冲数量的增加,微标志的值会出现向下趋势,这主要是由于谷物的块状和较软的β(nb)相变的形成。磨损耐药性测试结果表明,摩擦系数首先增加,然后降低,然后随脉冲数的增加而增加。
摘要 - 我们研究使用TIN/HF X ZR 1-X O 2/Interlayer/Si(MFIS)GATE堆栈的Si Fefet耐力疲劳期间,不同的层中和铁电材料对电荷捕获的影响。我们拥有具有不同层间(SIO 2或SION)和HF X ZR 1-X O 2材料(X = 0.75、0.6、0.5)的FeFET设备,并在耐力疲劳期间直接提取了电荷捕获。我们发现:1)层间中N元素的引入抑制了电荷捕获和缺陷的产生,并改善了耐力特征。2) As the spontaneous polarization ( P s ) of the Hf x Zr 1-x O 2 decreases from 25.9 μC/cm 2 (Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 ) to 20.3 μC/cm 2 (Hf 0.6 Zr 0.4 O 2 ), the charge trapping behavior decreases, resulting in the slow degradation rate of memory window (MW) during program/erase cycling;另外,当P S进一步降低至8.1μc/cm 2(HF 0.75 ZR 0.25 O 2)时,初始MW几乎消失(仅〜0.02 V)。因此,P s的减少可以改善耐力特征。合同中,它也可以减少MW。我们的工作有助于设计MFIS Gate堆栈以提高耐力特征。
摘要。Batio 3是钙钛矿结构的最重要功能材料之一,广泛用于电子工业中。但是,Batio 3的介电介电常数仍然相对较低,这极大地限制了其在具有巨大介电介电常数的超材料中的实际应用。在这项工作中,(Ba 100 x Sr X)(Ti 100 Y Zr Y)O 3复合陶瓷是通过实心烧结方法制造的。令人惊讶的是,(ba 100 x Sr x)(ti 100 y zr y)o 3复合陶瓷材料的介电性能分别依赖于A位置和B位置的Sr 2+和Zr 4+的占用。因此,通过调整SRTIO 3和BAZRO 3的掺杂量,介电介电常数为28287(65°C,1 kHz),以及在(ba 90 sr 10)(ba 90 sr 10)中的高分子分解强度为84.47 kV/cm,是在214%的范围内,是214%的13%and 13%,是214%的13%。 (BA 99 SR 1)(Ti 99 Zr 1)O 3复合陶瓷。此外,通过有限的元素模拟确定了介电介电常数显着增加的原因,并探索了复合陶瓷材料的分解机制。这项工作提供了一种构建高介电介电常数复合陶瓷的简便方法,即(BA 100 X SR X)(Ti 100 Y Zr Y)O 3复合陶瓷在电子和静电储能存储电容器方面具有广泛的应用前景。
生物相容性材料是体内保存的天然或人造物质,用于将活细胞转变为功能器官。骨组织和生物相容性正成为再生骨的替代方法,因为它比自体移植和同种异体移植具有一些明显的优势。本研究旨在制造一种可用作骨替代品的新型多孔支架 Ti-Nb-Zr-Sn 合金。选择不同重量比的 Ti-Nb-Sn-Zr,并使用粉末冶金法合成。加入锆 (Zr) 以增强生物性能。Ti、Nb 与 Zr 和 Sn 元素因其与人体具有出色的生物相容性而被利用。通过增加Zr和Nb的重量比,Ti-35Nb-7Zr-4Sn合金具有1042至1603 MPa之间的高抗拉强度。此外,35%Nb/7%Zr与4%Sn复合材料表现出更高的硬度,这有利于在汽车应用中模拟骨组织和压铸配件。进行疲劳和磨损分析有助于我们了解Ti-Nb-Zr-Sn合金的行为。关键词:铌合金;生物相容性;力学性能;形态特征;骨科应用
摘要HFO 2基于基于HF 0.5 Zr 0.5 O 2的铁电极,由于其CMOS的兼容性和强大的纳米级铁电性,近年来引起了极大的关注。但是,疲劳是铁电应用中最棘手的问题之一。基于HFO 2的铁电特性的疲劳机制不同于常规的铁电材料,并且很少报道了基于HFO 2的基于HFO 2的疲劳机制的研究。在这项工作中,我们制造了10 nm HF 0.5 Zr 0.5 O 2外延膜并研究疲劳机制。实验数据表明,在10 8个周期后,Remanent铁电化值降低了50%。值得注意的是,疲劳的HF 0.5 ZR 0.5 O 2外延膜可以通过施加电刺激来恢复。结合了温度依赖性的耐力分析,我们提出,HF 0.5 ZR 0.5 O 2膜的疲劳来自铁电PCA2 1与抗纤维自由PBCA之间的相变,以及固定的缺陷和抑制了偶极子。此结果提供了对基于HFO 2的胶片系统的基本理解,并可以为随后的研究和未来应用提供重要的指南。