本文件所含试剂仅供检测及研究之用,不得作为“医药产品”、“食品”、“日用品”等。 ●建议配送价格及活动价格均不含消费税等。此活动仅适用于从富士胶片和光纯药株式会社代理商或授权经销商处购买。
本公司于 2023 年 1 月 18 日发布的公告及于 2023 年 2 月 24 日发布的通函载明,华虹制造将从事集成电路及 12 英寸(300 毫米)晶圆制造及销售业务,主要采用 65/55 纳米至 40 纳米工艺。其后,华虹制造订立华虹制造 EPC 合同,内容涉及(其中包括)建设生产厂房、电力设施及辅助设施,旨在发展其自有生产线以生产 12 英寸(300 毫米)集成电路芯片。有关详情,请参阅本公司于 2023 年 5 月 19 日发布的公告及于 2023 年 6 月 5 日发布的通函。
在2023年1月18日的公司宣布和2023年2月24日的公司通函中规定,Hua Hong Manufacturing将从事综合电路和12英寸(300mm)Wafers的制造和销售业务,主要采用65/55 Nm至40 nm的工艺。此后,Hua Hong Manufacturing进入了Hua Hong Manufacturing EPC合同,还与建造生产工厂,电力设施和辅助设施的建设有关,以期开发自己的生产线以制造12英寸(300mm)集成电路芯片。有关更多详细信息,请参阅2023年5月19日和2023年6月5日的公司的宣布。
摘要 —随着半导体设计和制造工艺的全球化,集成电路制造阶段的缺陷检测需求变得越来越重要,在提高半导体产品的产量方面发挥着重要作用。传统的晶圆图缺陷模式检测方法涉及使用电子显微镜进行手动检查以收集样本图像,然后由专家评估缺陷。这种方法劳动密集且效率低下。因此,迫切需要开发一种能够自动检测缺陷的模型来替代手动操作。在本文中,我们提出了一种方法,该方法首先采用预先训练的 VAE 模型来获取晶圆图的故障分布信息。该信息作为指导,结合原始图像集进行半监督模型训练。在半监督训练期间,我们利用师生网络进行迭代学习。本文提出的模型在基准数据集 WM-811K 晶圆数据集上进行了验证。实验结果表明,与最先进的模型相比,该模型具有更高的分类精度和检测性能,满足了工业应用的要求。与原始架构相比,我们取得了显着的性能提升。索引术语——缺陷检测;半监督学习;无监督学习;变异自动编码器
在偏远社区中,诊断G6PD缺乏症是具有挑战性的。我们评估了改进的测试程序的影响和延迟的测试诊断标准G6PD(SDBIOSENSOR,ROK)的影响,并评估了建议的临界值。我们测试了指纹(标准方法)和微晶剂(BD,美国;方法1),来自真空吸水剂的静脉血(BD,USA;方法2),不同的样品申请方法(方法3)和使用的微夹,而不是测试的单使用移液器(方法4)。通过比较配对度量之间的中位差异来评估可重复性。在实验室条件下对三名志愿者进行了20次测试。在印度尼西亚和尼泊尔测试了具有最佳重复性的标准方法和方法。在印度尼西亚,两种方法都以两种方式对60名参与者进行了测试,在尼泊尔120位参与者中,通过这两种方法都以两种方式进行了测试。生物传感器标准方法读数的调整后的男性中位数(AMM)定义为100%活性。在印度尼西亚,比较了标准方法和修改方法的配对读数之间的差异,以评估延迟测试的影响。在试点研究中的可重复性并没有显着差异(p = 0.381);方法3显示最低的变异性。一个尼泊尔参与者的活动<30%,一名印尼和10名尼泊尔参与者具有中间活动(30%至<70%的活动)。与标准方法相比,延迟5小时后,通过方法3进行的G6PD测量值为0.4U/GHB(IQR:-0.2至0.7,P = 0.005)。我们无法提高可重复性。可重复性在印度尼西亚没有显着差异(标准:0.2U/GHB [IQR:0.1-0.4];方法3:0.3U/GHB [IQR:0.1-0.5]; P = 0.425)或NEPAL(标准:0.4U/GHB [0.4U/GHB [IQR:0.2-0.6]; 0.2-0.6];方法3:0.3.3:0.3:0.3:0.B [iq]; p [iq]; 0.330)。通过标准方法对100%活动的定义与制造商推荐的截止值匹配70%的活动。最多5小时的延迟并未导致
1。ST Microelectronics completes acquisition of Norstel AB, a SiC wafer manufacturer, ST Microelectronics, 2019/12/2: https://www.st.com/content/st_com/ja/about/ media-center/press-item.html/c2930.html 2.ROHM集团Sicrystal和St Microelectronics同意提供碳化硅(SIC)Wafers多年来,ST Microelectronics,2020/1/15:https://newsroom.st.com/ja/ja/ja/media-ia-center/media-center/press-center/press-item/press-item.html/c2936.html,3。3.cree |。ST Microelectronics在意大利建立了新的集成SIC WAFER工厂,ST Microelectronics,2022/10/5:https://newsroom.st.com/ja/ja/media-center/media-center/press-item.htm.html/ c3124.html 5。Stmicro在意大利建立新的SIC WAFER工厂,在欧洲首次,Nikkei Crosstech,2022/10/18:https://xtps://xtech.nikkei.com/atcl/news/news/news/news/news/13938/13938/ 6.Infineon和Cree同意长期供应Sic Wafers,Infineon,2018/3/16:https://www.infineon.com/cmms/cmms/jp/jp/jp/jp/about-infineon/press/press/press/press/press/press/press/press-releases/2018/2018/Wolfspeed builds a new large-scale SiC factory in Germany, production begins in 2017, Nikkei Crosstech, 2023/2/28: https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/news/18/14642/ 8.Infineon收购了硅碳化物专家Siltechtra,Infineon,2018/12/7:https://www.infineon.com/cms/cms/cms/jp/jp/about-infineon/press/press/press/press/press-releases/2018/2018/2018/Infineon通过GT Advanced Technologies,Infineon,2020/11/9:https://wwwww.infineon.com/cms/cms/cms/jp/jp/about-infineon/ press/press/press/press/press/2020/infxx20202011-2011-2011-2011-014.html 10。有关电力半导体的SIC外延晶片:与Infineon Technologies签署的销售和联合开发协议,Showa Denko,2021年5月6日:https://wwwwww.resonac.com/jp/
【半导体工程学系的优势】【半导体工程学系的优势】,每学期定期举办全系导生活动,每学期定期举办全系导生活动,24 小时开放之教学实验室、学生读书室、学生图书室及研讨室。 小时开放之教学实验室、学生读书室、学生图书室及研讨室。※,(如台积电)暑期实习。(如台积电)3+2 uiuc电机所双联(uiuc电机所双联)(uiuc电机所双联)※※※※※※※※,补助出国奖学金至国外大学进行交换学生(一学期或一学年),补助出国奖学金至国外大学进行交换学生(一学期或一学年)欢迎与半导体工程学系联系(一学期或一学年)欢迎与半导体工程学系联系https://nano.nycu.edu.tw:(1)请务必于113/4/5(五)至113/5/5(2)至半导体工程学系官网填写出席调查回条。(2)5/17(2)5/17(2)5/17(五)
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水文模型已成为研究解决各种环境和水资源问题的复杂流域的水文过程的重要工具。本研究的重点是使用土壤和水评估工具(SWAT)在突尼斯中部的Merguellil流域进行建模。SWAT模型是一种物理建模工具,开发了用于预测水文过程的物理建模工具,并有充分记录是资源水管理的有效工具。这项研究的主要目的是评估SWAT模型在模拟中央半干旱突尼斯梅尔基利尔流域内的每月水文过程时的表现。该模型的校准是从2002年到2011年进行的,随后进行了2012年至2017年的验证。灵敏度分析确定了关键参数,包括曲线数,坡度长度和有效的水力传导率,是最敏感的。研究结果表明,该模型在校准和验证阶段期间根据拟合优度标准表现出令人满意的性能。在校准和验证期内,NASH – utcliffe效率(NSE)分别为0.65和0.41。确定系数(R²)和克林格 - 古普塔效率(KGE)均等于0.7,用于校准的标准偏差比(RSR)小于或等于0.6。偏差百分比(PBIA)表明该模型在校准期间高估了排放量 +23.5%。此外,Merguellil流域中的径流表现出显着的时空变异性,受到其环境的复杂性和异质性的显着影响。