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化学科学
超荧光 (HF) 是一种相对较新的现象，利用两种发光体之间的激子转移，需要仔细地成对调整分子能级，被认为是开发新型高效 OLED 系统的关键一步。迄今为止，报道的具有所需窄带发射但外部量子效率中等 (EQE <20%) 的 HF 黄光发射体寥寥无几。这是因为尚未提出一种系统性策略，将 Förster 共振能量转移 (FRET) 和三线态到单线态 (TTS) 跃迁作为有效激子转移的互补机制。在此，我们提出了一种合理的方法，通过细微的结构修改，可以获得一对由相同供体和受体亚基构建的化合物，但这些双极片段之间的通讯方式不同。 TADF 活性掺杂剂基于与咔唑部分的氮相连的萘酰亚胺支架，通过引入额外的键，不仅导致 π 云扩大，而且还使供体变硬并抑制其旋转。这种结构变化可防止 TADF，并引导带隙和激发态能量同时进行 FRET 和 TTS 过程。利用所提出的发射器的新型 OLED 设备表现出出色的外部量子效率（高达 27%）和较窄的半峰全宽（40nm），这是能级排列非常好的结果。所提出的设计原理证明，只需进行少量结构修改即可获得适用于 HF OLED 设备的商业染料。
Au@Pt 核壳纳米粒子生物共轭物用于治疗 HER2+ 乳腺癌和肝细胞癌。193mPt 和 195mPt 放射性核素在俄歇电子疗法中的适用性模型研究
摘要：193m Pt 和 195m Pt 放射性核素是具有治疗吸引力的俄歇电子发射体，每次衰变的俄歇电子产量非常高。本文总结了核壳 (Au@Pt) 纳米粒子用于 HER2+ (人表皮生长因子受体 2) 乳腺癌和肝细胞癌的电子俄歇治疗应用的第一步研究。合成了覆盖铂壳的金纳米粒子 (30 nm)，效率高 (>80%)，并进一步进行了体外研究，例如结合亲和力、内化和细胞毒性。为了找到导致铂在 HepG2 细胞中产生细胞毒性的机制，使用 ICP-MS (电感耦合等离子体质谱) 测定了分离的细胞核和细胞质中的铂浓度。细胞核中缺乏铂表明细胞毒性作用与活性氧 (ROS) 和活性氮 (RNS) 的产生有关。使用合成的靶向生物缀合物 (Au@Pt-PEG-曲妥珠单抗) 对 SKOV-3 细胞系进行的研究表明，该制剂对 HER2+ 细胞具有高亲和力、其内化、其位于核周区域和部分核内位置。对 HER2 阴性细胞 MDA-MB-231 的特异性结合可以忽略不计，Au@Pt-PEG-曲妥珠单抗没有进入这些细胞。获得的结果很有希望，值得未来研究使用 193m Pt 和 195m Pt 放射性药物的俄歇电子疗法。
新型 DA 生色团与缩合 1,2,4-三嗪体系同时显示热激活延迟荧光和结晶诱导
a. 巴黎萨克雷大学，ENS Paris-Saclay，CNRS，PPSM，91190 Gif-sur-Yvette，法国 b. CNR-NANOTEC – 纳米技术研究所，c/o Campus Ecoteckne，Via Monteroni，73100 Lecce，意大利 c. 考纳斯理工大学聚合物化学与技术系，Radvilenu plentas 19，LT50254 Kaunas，立陶宛 d. 杜伦大学物理系，杜伦 DH1 3LE，英国 * antonio.maggiore@ens-cachan.fr 摘要 光物理特性的控制对于电致发光器件和发光材料的持续发展至关重要。原始分子的制备和研究揭示了高效材料和器件的设计规则。在这里，我们基于热激活延迟荧光发射体中流行的供体-受体设计制备了 7 种新化合物。我们首次引入了苯并呋喃并[3,2-e]-1,2,4-三嗪和苯并噻吩并[3,2-e]-1,2,4-三嗪受体，它们与几种常见的供体相连：吩恶嗪、吩噻嗪、咔唑和 3,6-二叔丁基咔唑。在溶液和固态下进行了 DFT 计算和稳态和时间分辨光物理研究。虽然含有吖嗪部分的衍生物在任何形式下都是非发射性的，但包含 3,6-二叔丁基咔唑的化合物在所有情况下都显示 TADF。更有趣的是，用咔唑供体取代的两种衍生物在分散在聚合物基质中时具有 TADF 活性，在室温下以纯膜（微晶形式）的形式呈现磷光性。
靶向阿尔法疗法前景光明，但需要严谨的研究来推动该领域的发展
在放射性药物治疗的众多进展中，很少有创新比靶向阿尔法治疗 (TAT) 更有前景。通过诱导双链 DNA 断裂，高线性能量转移 (LET) 同位素（如 213 Bi、212 Pb 和 225 Ac）有可能产生比现有贝塔发射体（例如 177 Lu）高得多的细胞毒性。事实上，自从 223 Ra 获批用于治疗骨转移性去势抵抗性前列腺癌以来，阿尔法发射体的前瞻性试验数量增加了 6 倍。Ballal 博士及其同事在实验室用 225 Ac 对 DOTATATE 进行放射性标记，并以每周期 100-120 KBq/Kg 的剂量对患者进行多周期治疗（最多 10 次），积累了在神经内分泌肿瘤 (NET) 患者中使用 TAT 的最大实际经验。 1 在最近的数据分析时（截止日期为 2022 年 2 月），全印度医学科学研究所的 91 名患者接受了这种疗法：患者群体混合，包括肽受体放射性核素治疗 (PRRT) 初治患者（n=34）以及对 177 Lu-PRRT 有耐药性的患者（n=57）；疾病进展患者以及疾病稳定但可能由于症状负担或肿瘤体积而接受治疗的患者。报告的结果令人鼓舞。在分析时，整个患者群体的中位 PFS 尚未达到，据报道，接受过 177 Lu-PRRT 治疗的患者的中位 PFS 为 30 个月，这些患者在再次治疗时通常不会表现出较长的 PFS 间隔。客观反应率也令人印象深刻：据报道，接受过 PRRT 治疗的患者（25/57）和未接受过 PRRT 治疗的患者（15/34）的客观反应率均为 44%。目前尚未报告骨髓增生异常综合征或急性白血病病例，治疗总体上被描述为可以耐受的。尽管如此，仍有理由谨慎解释这些数据。作者有时将他们的工作描述为前瞻性 II 期研究。2 然而，“II 期研究”一词意味着某些先决条件，包括预先确定的样本量、严格的资格标准、明确的前瞻性治疗方案以及严格的反应解释标准。这些标准不适用于本分析，本分析最好被描述为对现实世界经验的回顾性研究。资格标准似乎在 2019 年对 32 名患者的初始分析 3 和当前分析之间发生了变化。例如，排除欧洲肿瘤合作组 (ECOG) 状态 >2 3 的患者似乎没有被注意到（31% 的患者被描述为具有 ECOG 状态 3 或 4，这本身就很了不起）。据报道，尽管许多患者缺乏对比解剖成像并且根据 PET 结果评估反应，但疾病反应和进展仍使用实体肿瘤反应评估标准 (RECIST 1.1) 进行评估。本文中一个值得注意的发现是患者同时接受了卡培他滨和 225 Ac-DOTATATE 治疗。据我们所知，此前发表的对同一患者群体的分析中没有报道过这种治疗成分。2,3 虽然卡培他滨的放射增敏剂量的贡献可能很小，但展示这一关键信息对于重现结果至关重要。虽然核医学的许多进步都是从内部放射性标记药物的同情给药开始的，但药物的批准取决于严格遵循的前瞻性试验。因此，幸运的是，此类试验正在迅速增多，包括对 NET 患者的 TAT 研究。例如，对 PRRT 初治患者和难治性患者进行的 212 Pb-DOTAMTATE 的 II 期研究
阿尔法放射性配体疗法的商业和业务方面
放射性配体疗法 (RLT) 作为一种安全有效的靶向治疗方法，正逐渐受到关注，可用于治疗多种癌症类型，这反映在庞大且不断增长的商业市场中（2021 年价值 77.8 亿美元，预计到 2030 年价值将达到 130.7 亿美元）。β 发射 RLT 具有悠久的临床成功历史，可追溯到 21 世纪初 Zevalin 和 Bexxar 的批准，随后是 Lutathera 和 Pluvicto。α 放射性配体疗法 (ART) 具有更大的成功潜力。受早期试验中突破性临床结果、同位素可用性提高以及对同位素和疾病特征的更好理解的推动，全球 α 发射体市场规模在 2020 年估计为 6.723 亿美元，预计到 2027 年将增长至 52 亿美元。新公司的成立、有希望的临床试验数据、许多放射性配体治疗产品的进展以及投资者资本的流入，都为这一不断扩大的领域做出了贡献。未来的增长将受到 ART 临床试验和真实世界结果的进一步有效性和安全性数据的推动，但挑战依然存在。放射性核素的供应、制造和分销是该领域增长的主要障碍。需要新的交付模式以及专业从业人员的跨学科培训，以确保患者能够获得药物，并避免 Zevalin 和 Bexxar 等早期 RLT 候选药物面临的挑战。了解放射医学的历史对于了解 ART 成功的关键因素至关重要——大多数过去的预测都不准确，因此分析其原因很重要。了解放射医学如何输送和管理的实际考虑因素对于了解未来的方法很重要。
通过在脉冲激光沉积在Si基板上的脉冲激光层中的稀土掺杂微发射器
稀土发射器已在集成的光学源中研究了一段时间，作为激光源[1]和带有眼镜[2，3]或聚合物[4]的波导放大器。最近，它们被整合到互补的金属氧化物半导体（CMOS）驱动或兼容的SI光子芯片中，作为激光源[5]，放大器[6，7]以及调节剂[8，9]。稀土发射器为开发新的主动光学功能的可能性提供了许多可能性，该功能最初集中于第四组[10]或III-V材料[11，12]。然而，需要在硅平台上的有效掺入（例如粘结[13]，掩盖沉积[5，14]，额外的层[15]或蚀刻[16，17]，需要复杂的处理，这对实际应用可能是昂贵且有害的。尤其是Y 2 O 3和Al 2 O 3矩阵的情况，它需要电感耦合等离子体优化的蚀刻[18-20]。在这项工作中，我们提出了稀土掺杂层微发射体的创新设计，而无需使用升降加工与脉冲激光沉积（PLD）结合使用。在通过掩模（例如g。photoresist）的升降过程中，通过蚀刻的经典结构进行了蚀刻的经典结构，但在升降过程中，将材料与沉积的材料一起清除。这种方法比蚀刻更容易，避免沿蚀刻的侧壁潜在损害。尽管非常有吸引力，但提升过程的主要缺点之一是沉积过程中的底物温度。pld允许克服这种限制。升降处理是薄层图案（例如金属）或较厚层的微电子中常规的，具有低温沉积（如溅射）[21]，原子层[22]或玻璃沉积[23]。的确，如果底物温度高于200°C（即光固定剂的硬烘烤温度），则提升处理不能成功。PLD是一种通常用于
辅助配体提高了异配体 Ir 的效率...
有机发光二极管 (OLED) 在过去二十年里彻底改变了显示器行业 1 。尽管被广泛应用，但这些设备仍有很大改进空间，例如，现有技术的能源效率。市场迫切需要更深的红色和更高的色纯度，而传统发射器很难满足这一需求 2、3 。需要一类具有更长波长的新型红色掺杂剂，但简单的能隙定律考虑可以解释，由于非辐射衰减增加导致的效率降低是不可避免的 4、5 。因此，发光效率是商用红色掺杂剂最关键的材料特性。由于发射特性的微小变化往往会加剧效率下降，可能的解决方案是考虑主体-掺杂剂组合以更好地取向过渡偶极矩 6、7 ，或用功能团装饰发射极而不会过度改变发色团支架 8 ，但迄今为止尚未取得决定性的进展。一种潜在的解决方案是采用带有三个双齿配体的杂配体 Ir 配合物，其中两个主要负责发光，一个是支持辅助配体，不直接参与磷光。目标是通过改变辅助配体来消除非生产性衰变途径，从而对发光特性产生最小的影响 9 。在各种红色掺杂剂中，携带双齿苯基吡啶 (ppy) 型配体的 Ir(III) 配合物成为一类重要的发射体 10 ，典型的辅助配体是乙酰丙酮 (acac) 衍生物 2 。尽管使用辅助配体来控制掺杂剂化学行为的前景很诱人，但成功实施涉及辅助配体的合理设计策略却极为罕见 11 。在此采用详细的计算模型，我们发现除了延长 Ir – N 键之外，涉及配位层角度的结构变化也会导致辐射态的不良失活。利用这些精确的计算机模型的见解，我们推导出并通过实验证实了一种通用的设计策略。虽然 DFT 模型不一定准确，但它们提供了易于解释和概念化的精确信息。
透射率测量的良好实践指南
4.1.3.2 伽马技术 ................................................................................................ 56 4.1.3.3 量热法 .......................................................................................................... 57 4.1.4 环境和电磁效应 ................................................................................................ 57 4.1.4.1 中子技术 ...................................................................................................... 58 4.1.4.2 伽马技术（包括 XRF） ...................................................................... 58 4.1.4.3 量热法 ...................................................................................................... 59 4.2 基质和均匀性效应 ................................................................................................ 59 4.2.1 中子技术 ...................................................................................................... 59 4.2.2 中子技术的基质校正方法 ................................................................................ 60 4.2.2.1 附加源（AAS） ............................................................................................. 60 4.2.2.2 通量探针 ............................................................................................................. 62 4.2.2.3环比 ................................................................................................................ 63 4.2.2.4 多重性技术 .............................................................................................. 63 4.2.2.5 成像算法 .............................................................................................. 64 4.2.2.6 实时射线照相术 (RTR) ............................................................................. 64 4.2.2.7 操作员选择的校准 ...................................................................................... 64 4.2.2.8 镉衬里 ...................................................................................................... 65 4.2.3 伽马技术 ...................................................................................................... 65 4.2.4 伽马技术的矩阵校正方法 ............................................................................. 66 4.2.5 量热法 ............................................................................................................. 67 4.2.6 μ 子探测 ............................................................................................................. 67 4.3 样品特定属性 ............................................................................................................. 67 4.3.1 中子技术 ............................................................................................................. 68 4.3.1.1 化学形式 ................................................................................................ 68 4.3.1.2 其他发射中子的放射性核素 .............................................................. 68 4.3.1.3 源分布的影响 ................................................................................ 68 4.3.1.4 中子自倍增效应 ...................................................................................... 68 4.3.1.5 自屏蔽效应 .............................................................................................. 69 4.3.2 伽马技术 ........................................................................................................ 70 4.3.2.1 源分布效应 ........................................................................................ 70 4.3.2.2 自屏蔽（自衰减）效应 ...................................................................... 70 4.3.2.3 非伽马发射体/弱伽马发射体 ............................................................. 71 4.3.3 量热法 ............................................................................................................. 71 4.4 统计约束 ............................................................................................................. 72 4.5 操作约束 ............................................................................................................. 72 5 特性和校准 ............................................................................................. 73 5.1 校准要求 ............................................................................................................. 76 5.2 校准程序 ............................................................................................................. 79 5.2.1 校准功能 ................................................................................................................ 79 5.2.2 位置依赖性 ................................................................................................................ 82 5.2.3 文档记录 ................................................................................................................ 83 5.3 参考标准 ................................................................................................................ 85 5.4 工作标准 ................................................................................................................ 86 5.5 不确定度 ...................................................................................................................... 87 6 不确定度的处理 ............................................................................................. 90 6.1 范围 ............................................................................................................................. 91 6.2 什么是测量不确定度？ ............................................................................................. 91 6.3 评估测量不确定度的步骤 ............................................................................................. 92 6.4 示例 ............................................................................................................................. 971 源分布的影响 ................................................................................................ 70 4.3.2.2 自屏蔽（自衰减）效应 .............................................................................. 70 4.3.2.3 非伽马辐射源/弱伽马辐射源 .............................................................. 71 4.3.3 量热法 ............................................................................................................. 71 4.4 统计约束 ............................................................................................................. 72 4.5 操作约束 ............................................................................................................. 72 5 特性和校准 ............................................................................................. 73 5.1 校准要求 ............................................................................................................. 76 5.2 校准程序 ............................................................................................................. 79 5.2.1 校准功能 ............................................................................................................. 79 5.2.2 位置依赖性 ............................................................................................................. 82 5.2.3 文档 ............................................................................................................. 83 5.3 参考标准................................................................................................................ 85 5.4 工作标准.............................................................................................................. 86 5.5 不确定度.............................................................................................................. 87 6 不确定度的处理........................................................................ 90 6.1 范围................................................................................................................ 91 6.2 什么是测量不确定度? ...................................................................................... 91 6.3 测量不确定度的估算步骤 ............................................................................. 92 6.4 示例............................................................................................................. 971 源分布的影响 ................................................................................................ 70 4.3.2.2 自屏蔽（自衰减）效应 .............................................................................. 70 4.3.2.3 非伽马辐射源/弱伽马辐射源 .............................................................. 71 4.3.3 量热法 ............................................................................................................. 71 4.4 统计约束 ............................................................................................................. 72 4.5 操作约束 ............................................................................................................. 72 5 特性和校准 ............................................................................................. 73 5.1 校准要求 ............................................................................................................. 76 5.2 校准程序 ............................................................................................................. 79 5.2.1 校准功能 ............................................................................................................. 79 5.2.2 位置依赖性 ............................................................................................................. 82 5.2.3 文档 ............................................................................................................. 83 5.3 参考标准................................................................................................................ 85 5.4 工作标准.............................................................................................................. 86 5.5 不确定度.............................................................................................................. 87 6 不确定度的处理........................................................................ 90 6.1 范围................................................................................................................ 91 6.2 什么是测量不确定度? ...................................................................................... 91 6.3 测量不确定度的估算步骤 ............................................................................. 92 6.4 示例............................................................................................................. 9772 5 特性和校准 ................................................................................ 73 5.1 校准要求 ...................................................................................................... 76 5.2 校准程序 ...................................................................................................... 79 5.2.1 校准功能 ................................................................................................ 79 5.2.2 位置依赖性 ................................................................................................ 82 5.2.3 文档 ............................................................................................................. 83 5.3 参考标准 ............................................................................................................. 85 5.4 工作标准 ............................................................................................................. 86 5.5 不确定性 ............................................................................................................. 87 6 不确定性的处理 ............................................................................. 90 6.1 范围 ............................................................................................................. 91 6.2 什么是测量不确定度？ ........................................................................... 91 6.3 测量不确定度评估步骤 .............................................................................. 92 6.4 示例 .............................................................................................................. 9772 5 特性和校准 ................................................................................ 73 5.1 校准要求 ...................................................................................................... 76 5.2 校准程序 ...................................................................................................... 79 5.2.1 校准功能 ................................................................................................ 79 5.2.2 位置依赖性 ................................................................................................ 82 5.2.3 文档 ............................................................................................................. 83 5.3 参考标准 ............................................................................................................. 85 5.4 工作标准 ............................................................................................................. 86 5.5 不确定性 ............................................................................................................. 87 6 不确定性的处理 ............................................................................. 90 6.1 范围 ............................................................................................................. 91 6.2 什么是测量不确定度？ ........................................................................... 91 6.3 测量不确定度评估步骤 .............................................................................. 92 6.4 示例 .............................................................................................................. 97........................................... 91 6.3 测量不确定度评估步骤 ...................................................................... 92 6.4 示例 .......................................................................................................... 97........................................... 91 6.3 测量不确定度评估步骤 ...................................................................... 92 6.4 示例 .......................................................................................................... 97
医学中的定量显微镜
1. F. Bray 等人，2018 年全球癌症统计：GLOBOCAN 对 185 个国家/地区 36 种癌症的发病率和死亡率的估计。CA：临床医生癌症杂志 68，394-424 (2018)。2. E. Francini 等人，基于医院登记的新型全身疗法对转移性去势抵抗性前列腺癌患者总体生存率的影响。前列腺癌与前列腺疾病 22，420-427 (2019)。3. M. De Santis 等人，对于 BRCA1/2 突变阳性转移性去势抵抗性前列腺癌患者，尼拉帕尼联合醋酸阿比特龙与其他一线聚 ADP-核糖聚合酶抑制剂治疗方案进行间接治疗比较的可行性。治疗进展 (2024)。 4. ST Tagawa 等，通过抗体递送前列腺特异性膜抗原靶向 Alpha 发射体治疗转移性去势抵抗性前列腺癌：(225)Ac-J591 的 I 期剂量递增研究。临床肿瘤学杂志：美国临床肿瘤学会官方杂志 42，842-851（2024 年）。5. DG Bostwick、A. Pacelli、M. Blute、P. Roche、GP Murphy，前列腺特异性膜抗原在前列腺上皮内瘤变和腺癌中的表达：184 例病例的研究。癌症 82，2256-2261（1998 年）。6. DA Silver、I. Pellicer、WR Fair、WD Heston、C. Cordon-Cardo，前列腺特异性膜抗原在正常和恶性人体组织中的表达。临床癌症研究：美国癌症研究协会官方杂志 3 , 81-85 (1997)。7. O. Sartor 等人，镥-177-PSMA-617 治疗转移性去势抵抗性前列腺癌。新英格兰医学杂志 385 , 1091-1103 (2021)。8. MS Hofman 等人，[(177)Lu]Lu-PSMA-617 与卡巴他赛在转移性去势抵抗性前列腺癌患者中的比较 (TheraP)：一项随机、开放标签、2 期试验。柳叶刀 (伦敦，英国) 397 , 797-804 (2021)。9. J.-C. Olivo-Marin，使用多尺度乘积提取生物图像中的斑点。模式识别 35 , 1989-1996 (2002)。 10. V. Caselles、R. Kimmel、G. Sapiro，《测地线活动轮廓》。《国际计算机视觉杂志》22，61-79（1997 年）。11. F. Meyer，《地形距离和分水岭线》。《信号处理》38，113-125（1994 年）。
紫外激发下 Ba{4}{3}{17}$:Yb$^{3+}$:Eu$^{3+}$ 纳米粒子的近红外下转换发光
根据国际能源署 (IEA) 和欧洲环境署 (EEA) 的数据，能源消耗量逐年增加。这刺激了人们对新能源的探索和现有能源效率的提高。据预测，到 2030 年，光伏设备将产生太瓦级能源，同时千瓦时成本也将降低 [1]。太阳能是最经济实惠的能源之一。硅基太阳能电池主要用于太阳能利用。大部分能源将由硅太阳能电池板产生。除了硅之外，还有各种多层复合材料，如 GaAs、CdTe、Cu(In,Ga)Se 2 和最近提出的钙钛矿结构 [2, 3]。后者价格昂贵，难以在工业规模上生产。此外，由于有毒成分，过期后处理也存在问题，使用此类复合材料违背了绿色化学的原则。硅的优势在于化学可用性、技术链的成熟度、电子元件（包括含有稀土元素的元件）的处理。同时，硅基太阳能电池的一个严重缺点是光电转换效率 (LECE) 相对较低，即最佳样品的转换效率不高于 25% [4,5]。硅的最高光敏性区域位于约 1 µ m，其 LECE 光谱与太阳发射光谱的对应性较差。通过将太阳辐射从紫外线和蓝色光谱范围向下转换为 1 µ m 光谱范围来提高硅太阳能电池板的效率是一项紧迫的任务，对于太空应用而言，这非常现实 [6– 9]。潜在的发射体是三价镱离子，因为它的近红外 (NIR) 发光带约为 1000 nm（ 2 F 5 / 2 – 2 F 7 / 2 跃迁）[9–13]，与硅电池的 LECE 光谱顶部高度重合。Ba 4 Y 3 F 17 [14–17] 是经过深入研究的新型发光基质之一，因为它表现出下转换发光的高量子产率 [14]。对于在这些光谱区域吸收的各种敏化阳离子，能量可以从紫外和蓝色光谱区域转移到镱。一种特别有效的能量转移机制是通过敏化剂离子的逐步弛豫，通过量子切割机制激发两个受体离子 [12, 13, 18, 19]。量子切割表现出高达 195% 的高量子效率系数，但 NIR 发光的量子产率较低。更有效的途径是在具有更高发光量子产率的系统中简单地降档。一种有前途的组合物是 Yb/Eu 掺杂对，因为铕的吸收光谱包含 UV 和蓝色光谱区域的几条线。镱发光的最高直接测量量子产率（2.对于 SrF 2 :Yb (1.0 mol %):Eu (0.05 mol %) 粉末，在 266 nm 泵浦下达到 5 % [20]。本文旨在合成 Ba 4 Y 3 F 17 :Yb:Eu 固溶体并研究其发光性能。该样品旨在用于增强硅太阳能电池的 LECE。