BACH 光束线通过在 EUV 软 X 射线光子能量范围内结合 PES 和 XAS 提供多光谱技术方法。该光束线提供可选的光偏振、不同环境和各种时间尺度下的高分辨率。此设置可以研究固体表面、界面、薄膜的电子、化学、结构、磁性和动力学特性。此光束线在单个终端站中提供的技术和光谱方法范围是独一无二的。此外,可以原位制备和生长 2D 层、薄金属和氧化物膜、分子层和金属有机结构等样品。
单剂量的psilocybin是一种迷幻的,急性引起时空感知和自我溶解的扭曲,在人类临床试验中会产生快速而持久的治疗作用1-4。在动物模型中,psilocybin在皮质和海马5-8中诱导神经可塑性。尚不清楚人脑网络如何变化与迷幻药的主观和持久作用有关。在这里,我们通过纵向精确的功能映射跟踪了个体特异性的大脑变化(每个参与者大约有18个磁共振成像访问)。在高剂量psilocybin(25 mg)和哌醋甲酯(40 mg)之前,期间,期间和持续3周进行追踪健康成年人,并在6-12个月后带回额外的psilocybin剂量。psilocybin在皮质和亚皮层中大大中断的功能连通性(FC),急性导致比哌醋甲酯大三倍以上。这些FC的变化是由空间尺度(Areal,Global)之间的大脑对同步的驱动的,这些变化通过减少网络之间的相关性和反相关性来溶解网络区分。psilocybin驱动的FC变化在默认模式网络中最强,该模式网络连接到前海马,并被认为会产生我们的时空感,时间和自我感。FC变化中的个体差异与主观迷幻体验密切相关。执行感知任务减少了psilocybin驱动的FC变化。psilocybin导致前海马和默认模式网络之间FC持续下降,持续数周。持续减少海马默认模式网络连接性可能代表了迷幻药的预防和治疗效应的神经解剖学和机械相关性。
视觉信息的处理主要发生在视网膜中,视网膜预处理功能极大地提高了视觉信息的传输质量和效率。人工视网膜系统为有效的图像处理提供了有希望的途径。在这里,提出了石墨烯/ INSE/ H -BN的异质结构,该结构通过改变单个波长激光器的强度,表现出负和正照相(NPC和PPC)效应。此外,基于激光的功率依赖性光导不传导效应:I pH = -mp𝜶1 + 1 + NP 𝜶2,提出了一个修改的理论模型,该模型可以揭示负/阳性光导能效应的内部物理机制。当前的2D结构设计允许晶体管(FET)表现出出色的光电性能(R NPC = 1.1×10 4 AW - 1,R PPC = 13 AW - 1)和性能稳定性。,基于阴性和阳性光电传感效应成功模拟了视网膜预处理过程。此外,脉冲信号输入将设备的响应性提高了167%,并且可以提高视觉信号的传输质量和效率。这项工作为构建人工视觉的建设提供了一个新的设计思想和方向,并为下一代光电设备的整合奠定了基础。
图S4。 扫描跨INSE通道的NERNST效果的光电流图:(a)设备示意图显示了跨INSE通道的GR/5L-INSE异质结构和电气检测的照明。 在此示意图之后,任何测得的电流都被迫流过半导体。 (b)与扫描光电流图同时测量的感兴趣区域的激光反射图。 这种测量使我们能够将激光的位置与观察到的信号相关联。 被选中的位置分别标记为石墨烯和INSE/石墨烯异质结构的位置1和2分别为位置(c)Nernst效应信号记录了不同的磁场和50µW的激光照明和50µW的激光照明和V_G = 0 V的位置1和2,位于1和2的位置,在1和2中亮着,在1和2的位置上,在Chemaine ElectereDere和Hersossctuction上闪闪发光。 裸露的石墨烯信号以蓝色显示,通过一个数量级放大,以更好地突出两条曲线之间的斜率差异。 进行测量是没有任何应用偏差的,因为它会掩盖Nern的效果,从而诱导图片中的其他光电流机制。 (d)扫描光电流图显示了在完整设备上的完整设备的测得的光电流,以-1T的施加了平面外电场。 (e)和(f)分别为0T和1T显示的类似扫描光电流图。图S4。扫描跨INSE通道的NERNST效果的光电流图:(a)设备示意图显示了跨INSE通道的GR/5L-INSE异质结构和电气检测的照明。在此示意图之后,任何测得的电流都被迫流过半导体。(b)与扫描光电流图同时测量的感兴趣区域的激光反射图。这种测量使我们能够将激光的位置与观察到的信号相关联。被选中的位置分别标记为石墨烯和INSE/石墨烯异质结构的位置1和2分别为位置(c)Nernst效应信号记录了不同的磁场和50µW的激光照明和50µW的激光照明和V_G = 0 V的位置1和2,位于1和2的位置,在1和2中亮着,在1和2的位置上,在Chemaine ElectereDere和Hersossctuction上闪闪发光。裸露的石墨烯信号以蓝色显示,通过一个数量级放大,以更好地突出两条曲线之间的斜率差异。进行测量是没有任何应用偏差的,因为它会掩盖Nern的效果,从而诱导图片中的其他光电流机制。(d)扫描光电流图显示了在完整设备上的完整设备的测得的光电流,以-1T的施加了平面外电场。(e)和(f)分别为0T和1T显示的类似扫描光电流图。
视觉信息的处理主要发生在视网膜中,视网膜预处理功能极大地提高了视觉信息的传输质量和效率。人工视网膜系统为有效的图像处理提供了有希望的途径。在这里,提出了石墨烯/ INSE/ H -BN的异质结构,该结构通过改变单个波长激光器的强度,表现出负和正照相(NPC和PPC)效应。此外,基于激光的功率依赖性光导不传导效应:I pH = -mp𝜶1 + 1 + NP 𝜶2,提出了一个修改的理论模型,该模型可以揭示负/阳性光导能效应的内部物理机制。当前的2D结构设计允许晶体管(FET)表现出出色的光电性能(R NPC = 1.1×10 4 AW - 1,R PPC = 13 AW - 1)和性能稳定性。,基于阴性和阳性光电传感效应成功模拟了视网膜预处理过程。此外,脉冲信号输入将设备的响应性提高了167%,并且可以提高视觉信号的传输质量和效率。这项工作为构建人工视觉的建设提供了一个新的设计思想和方向,并为下一代光电设备的整合奠定了基础。
Moiré超级晶格在Van der Waals的异质结构中的扭曲工程可以操纵山谷中层Incepitons(IXS)的山谷物理学,为下一代谷化设备铺平了道路。然而,到目前为止,在电气控制的异质结构中尚未研究对山谷极化上激素电位的扭曲角度依赖性控制,需要探索下面的物理机制。在这里,我们证明了莫伊尔时期的极化切换和山谷极化程度的依赖性。我们还找到了揭示激子电势和电子孔交换相互作用的扭曲角度调节的机制,这些机制阐明了实验观察到的IXS的扭曲角度依赖性山谷极化。此外,我们根据极化开关实现了可谷化的设备。我们的工作通过在电控制异质结构中调谐扭转角来证明了IXS山谷极化的操纵,这为在互惠设备中开放了电气控制山谷自由度的途径。
自 1950 年代以来,研究人员一直在研究晶体管的特性和行为,特别关注宽禁带发射极。发表在各种会议和期刊上的论文探讨了异质结构双极晶体管 (HBT)、集成电路和 Si/SiGe 外延基晶体管等主题。研究还检查了温度对晶体管性能的影响,包括在高达 300°C 的温度下的直流和交流性能。研究人员调查了各种材料系统,包括应变层异质结构及其在 MODFET、HBT 和激光器中的应用。研究了 SiGe HBT 中寄生能垒的行为,以及热电子注入对高频特性的影响。其他研究集中于渐变层和隧穿对 AlGaAs/GaAs 异质结双极晶体管性能的影响。已经开发出突变半导体-半导体异质结处隧道电流的解析表达式,并提出了异质结界面处热电子发射电流的新物理公式。本文讨论了有关异质结双极晶体管 (HBT) 的各种研究论文,这种半导体器件兼具双极晶体管和场效应晶体管的优点。这些论文涵盖的主题包括热电子发射、电荷控制模型、器件建模以及基极分级、合金化和应变对 HBT 性能的影响。研究探索了不同材料的使用,包括 GaAs/AlGaAs、InP、Si-Ge 合金和应变层异质结构。这些论文讨论了了解这些材料的电子特性(例如有效质量、带隙和价带不连续性)的重要性。文章还涉及 HBT 中的非平衡电子传输,这对高频性能至关重要。研究人员研究了各种生长技术,包括分子束外延 (MBE) 和化学气相沉积 (CVD),以创建高质量的 HBT 器件。研究论文中的一些主要发现和结论包括:* 了解异质结材料电子特性的重要性* 应变对 HBT 性能和器件特性的影响* 需要先进的生长技术,如 MBE 和 CVD,以创建高质量的 HBT 器件* Si-Ge 合金和应变层异质结构在提高 HBT 性能方面的潜力总体而言,本文中介绍的论文展示了正在进行的研究工作,旨在提高异质结双极晶体管的性能和特性。本文讨论了有关硅锗 (Si/Si1-x Gex) 异质结构的各种研究和研究论文,重点介绍了它们的特性及其在微电子器件中的应用。一项研究使用导纳谱分析了由 Si/Si1-x Gex 异质结构制成的 MOS 电容器。另一篇论文研究了在硅衬底上生长的无应变和相干应变 Si1- x Gex 的电子漂移迁移率。文章还讨论了用于高频应用的碳掺杂 SiGe 异质结双极晶体管 (HBT) 的开发,以及针对低温操作的 HBT 技术的优化。此外,研究人员还探索了应变和重掺杂对 Si/Si1-x Gex 合金间接带隙的影响。论文还涉及各种主题,例如外延 Si 和 SiGe 基双极技术的设计和优化、UHV/CVD SiGe HBT 中集电极-基极结陷阱的影响以及 Ge 分级对 SiGe HBT 偏置和温度特性的影响。总体而言,研究重点是了解 Si/Si1-x Gex 异质结构在微电子器件(包括 HBT 和其他半导体技术)中的特性和应用。本文讨论了 SiGe 基双极晶体管和 III-V 异质结双极晶体管 (HBT) 研究的进展。目标是优化这些器件以用于高性能电子应用,包括高速数字集成电路、模拟电路、微波集成电路和 RF 器件。1993 年至 2002 年期间发表的研究文章探讨了 SiGe HBT 的各个方面,例如针对高电流密度的优化、屏障效应、渡越时间建模和紧凑的电流-电压关系。这些研究旨在提高这些器件的性能和效率。另一个研究领域侧重于 III-V HBT,包括基于 GaAs 的 HBT、AlGaN/GaN HBT 和 GaN HBT。目标是开发用于微波应用的新技术并克服建模和模拟这些器件的挑战。这些研究还调查了不同生长技术的使用,例如金属有机化学气相沉积 (MOCVD),并探索 AlGaN/GaN HBT 选择性区域生长的潜力。总体而言,该研究旨在突破 SiGe 基双极晶体管和 III-V HBT 的可能性界限,从而开发出适用于广泛应用的高性能电子设备。过去几十年来,异质结双极晶体管 (HBT) 的研究得到了广泛的开展。各种研究都探索了它们的潜在应用、优势和局限性。在 2001 年发表在 IEEE Transactions on Electron Devices 上的一篇文章中,研究人员讨论了 HBT 在高频应用中的能力。同一出版物还介绍了 Shigematsu 等人在 1995 年的另一项研究,该研究提出了一种具有改进特性的自对准 InP/InGaAs HBT 的新设计。此外,Low 等人在 1999 年发表的一篇文章。固态电子学杂志探讨了 InGaP HBT 技术在射频和微波仪器中的应用。研究人员强调了它的潜在优势,包括与硅双极晶体管相比更快的开关速度。一些研究也集中于 HBT 的设计和制造。Gao 等人在 1992 年发表在 IEEE 电子器件学报上的一篇文章介绍了一种用于功率应用的异质结双极晶体管设计。在同一期刊上发表的另一项研究中,Gao 等人 (1991) 研究了发射极镇流电阻设计和 AlGaAs/GaAs 功率 HBT 的电流处理能力。微波多指 HBT 中的崩塌现象也得到了广泛的研究。Liu 等人 (1993 年和 1994 年) 在 IEEE 电子器件学报上发表的研究检查了高功率密度对这些器件中电流增益崩塌的影响。此外,Chou 和 Ferro 在 1997 年的会议论文集中概述了异质结双极晶体管,重点介绍了它们的应用和优势。研究人员探索了用于红外光子探测的先进半导体器件概念和技术,旨在提高 III-V 器件的性能。研究人员还致力于通过引入碳掺杂基极来提高 AlGaAs/GaAs 异质结双极晶体管的预期寿命。该研究讨论了工艺技术对自对准 HBT、栅极定义和亚微米栅极长度干蚀刻制造方案的影响。此外,还进行了高温偏压应力测试,以评估具有台面蚀刻结构的 HBT 的可靠性,揭示了它们在各种工作条件下性能的潜在改进。本研究讨论了工艺技术对自对准 HBT、栅极定义和亚微米栅极长度干蚀刻制造方案的影响。此外,还进行了高温偏压应力测试,以评估具有台面蚀刻结构的 HBT 的可靠性,揭示了其在各种操作条件下性能的潜在改进。本研究讨论了工艺技术对自对准 HBT、栅极定义和亚微米栅极长度干蚀刻制造方案的影响。此外,还进行了高温偏压应力测试,以评估具有台面蚀刻结构的 HBT 的可靠性,揭示了它们在各种操作条件下性能的潜在改进。
图1:样本设计和2D层布置的概述。(a)LH-FET的设备示意图。l SLG描述了SLG/MOS 2异质结构的长度,并定义了晶体管的通道。(b)MOS 2转移之前SI/SIO 2上SLG的拉曼光谱。(c)LH-FET的光学显微镜图像。(d)中显示的拉曼区域扫描是在标记为红色盒子的区域进行的。(d)空间解析的拉曼图显示了SLG(左)2D模式的强度以及MOS 2(右)A 1G模式的强度。黑暗区域表示不存在模式,而更明亮的区域表示强度更强。
*通讯作者。1 Max Planck物质结构和动态研究所,德国汉堡。2物理系,哥伦比亚大学,美国纽约,美国。 3 rwth Aachen University和Duture Information Technology的Jara-Fundamentals,Aachen,Aachen,Div foreire der der der statistischen physik。 4日本杜斯库巴国家材料科学研究所电子和光学材料研究中心。 5日本杜斯库巴国家材料科学研究所材料纳米构造研究中心。 6计算量子物理中心,西蒙斯基金会基金研究所,美国纽约,美国。 7 Cnano-BiospectRoscopy Group,Dectionalmo de Fisica de Materiales,San Sebasti´an,San Sebasti´an大学。 8理论物理学研究所和不来梅计算材料科学中心,德国不来梅大学,德国不来梅大学。 9 Laboratoire de Lecole de L'Ecole Normale Sup´erieure,Universit´e PSL,CNRS,Sorbonne Universit´e,Paris-Cit´eo,Paris-cit´eo,Paris,Paris,France。 法国德国大学学院10大学。2物理系,哥伦比亚大学,美国纽约,美国。3 rwth Aachen University和Duture Information Technology的Jara-Fundamentals,Aachen,Aachen,Div foreire der der der statistischen physik。4日本杜斯库巴国家材料科学研究所电子和光学材料研究中心。5日本杜斯库巴国家材料科学研究所材料纳米构造研究中心。6计算量子物理中心,西蒙斯基金会基金研究所,美国纽约,美国。7 Cnano-BiospectRoscopy Group,Dectionalmo de Fisica de Materiales,San Sebasti´an,San Sebasti´an大学。8理论物理学研究所和不来梅计算材料科学中心,德国不来梅大学,德国不来梅大学。 9 Laboratoire de Lecole de L'Ecole Normale Sup´erieure,Universit´e PSL,CNRS,Sorbonne Universit´e,Paris-Cit´eo,Paris-cit´eo,Paris,Paris,France。 法国德国大学学院10大学。8理论物理学研究所和不来梅计算材料科学中心,德国不来梅大学,德国不来梅大学。9 Laboratoire de Lecole de L'Ecole Normale Sup´erieure,Universit´e PSL,CNRS,Sorbonne Universit´e,Paris-Cit´eo,Paris-cit´eo,Paris,Paris,France。法国德国大学学院10大学。