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World File Search System氟化
poly（乙烯基氟化物）/cu@ni锚定降低 -
nbslcnls Poly(vinylidene fluoride)/Cu@Ni Anchored Reduced-Graphene Oxide Composite Films with Folding Movement to Boost Microwave Absorption Properties Biao Zhao, 1, 2,# Luyang Liang, 3,# Zhongyi Bai, 1 Xiaoqin Guo, 1 Rui Zhang, 1, 3 Qinglong Jiang 4,* and Zhanhu Guo 5，*摘要详细研究了详细研究了详细研究了详细研究了详细研究了详细研究了详细研究了详细研究了聚（vinylidene氟化物）/rgo/cu@ni复合膜的氧化石墨烯（RGO）/cu@ni加载和可折叠结构的影响。PVDF/RGO/CU@Ni复合膜的微波吸收特性随RGO/CU@ni含量增加而增加，然后降低，这是由于阻抗匹配的变化所致。此外，发现可折叠结构在可调和强大的微波吸收中起决定性作用。对于可折叠的PVDF/20 wt％rgo/cu@ni，厚度为2.5毫米，可以获得-49.1 dB的最小反射损失，并且带宽（低于-20 dB，99％的耗散）可以达到6.4 GHz（18.5-19.3 ghz，20.7-26.7-26.5 ghz）。
高效氟化氩激光器的物理学最终报告
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低介电常数、高耐热氟化邻苯二甲腈/空心玻璃微球复合材料的合理设计，适用于微电子封装
摘要：电子封装领域迫切需要具有树脂基体的高性能复合材料，因为它们具有低介电常数、出色的耐高温性、优异的耐腐蚀性、重量轻和易于成型等特点。在本文中，为了改变邻苯二甲腈的介电性能，制备了空心玻璃微球 (HGM) 填充的氟化邻苯二甲腈 (PBDP) 复合材料，其填料含量范围为 0 至 35.0 vol.%。扫描电子显微镜 (SEM) 观察表明改性 HGM 颗粒均匀分散在基质中。PBDP/27.5HGM-NH 2 复合材料在 12 GHz 时表现出 1.85 的低介电常数。含有硅烷化 HGM 填料的复合材料的 5% 热重温度 (T5) (481-486 ◦ C) 高于最低封装材料要求 (450 ◦ C)。此外，PBDP/HGM-NH 2 复合材料的耐热指数 (T HRI) 高达 268 ◦ C。PBDP/HGM-NH 2 复合材料的储能模量在 400 ◦ C 时显著增加至 1283 MPa，与 PBDP 邻苯二甲腈树脂 (857 MPa) 相比增加了 50%。本复合材料的优异介电性能和热性能可为电子封装和能源系统热管理的全面应用铺平道路。
通过石墨烯的位点选择性氟化增强氨气吸附
摘要：石墨烯具有原子层厚度的二维共轭结构、大的比表面积等优异性能，被广泛研究作为理想的气体传感平台。本文报道，通过位点选择性离子束诱导氟化引入共价CF键，由于氟化石墨烯表面对气体的吸附增强，石墨烯对氨气的传感响应可以大大提高。对氨气的响应提高了8倍，检测限接近65 ppb。利用Langmuir等温模型分析了氨气和氟化石墨烯之间的吸收动力学，结果表明，灵敏度的提高主要归因于氟化石墨烯对氨气分子的强结合能，这与之前的理论预测一致。
氟化可以同时改进基于拨号的苯苯苯甲酸强质
图4。在其中性和自由基阳离子状态中，ANL-C2和ANL-C46的DFT优化结构。标记了C-O的长度（在苯环的相邻碳和烷氧基链的第一个氧之间）和O-C（在第一个氧和烷氧基链上的第一碳和第一碳之间）。C，O，F和H原子分别以灰色，红色，绿色和白色显示。
Orbia的氟化解决方案业务库拉宣布
电话。+52 55 5366 4000 Orbia Advance Corporation，S.A.B。de C.V. S.A.B. Bolsa Mexicana de Valores上市的证券de C.V. （墨西哥证券交易所）。I. Orbia Advance Corporation，S.A.B。 de c.v.-（“ Orbia”，“公司”或“发行人”）列出了一个系列，“ I”和“ II”股份，代表其资本股票的固定部分，而无需退出权和资本股票的变量。 股票授予其持有人相同的公司和遗产权。 股票符号：Orbia* Orbia“*”系列股份（唯一）在国家证券注册表（RNV-西班牙语中的首字母缩写）注册，并在S.A.B.的Bolsa Mexicana de Valores上列出。 de C.V. 他们在BMV和Bolsa De Valores，S.A。de C.V.交易。 在全球范围内，标准普尔的标准普尔分别为“ BBB-”和“ MXAA/MXA-1+”分别在短期和长期的国家规模上分别为“ BBB-”的信用风险评级为“ BBB-”。 穆迪（Moody's）的信用风险评级为“ BAA3”，其长期全球范围具有稳定的前景。 国家证券登记处的并不意味着证券的质量，发行人的偿付能力或年度报告中包含的信息的准确性或真实性，也没有验证任何可能违反法律的行为。I. Orbia Advance Corporation，S.A.B。de c.v.-（“ Orbia”，“公司”或“发行人”）列出了一个系列，“ I”和“ II”股份，代表其资本股票的固定部分，而无需退出权和资本股票的变量。股票授予其持有人相同的公司和遗产权。股票符号：Orbia* Orbia“*”系列股份（唯一）在国家证券注册表（RNV-西班牙语中的首字母缩写）注册，并在S.A.B.的Bolsa Mexicana de Valores上列出。de C.V.他们在BMV和Bolsa De Valores，S.A。de C.V.交易。在全球范围内，标准普尔的标准普尔分别为“ BBB-”和“ MXAA/MXA-1+”分别在短期和长期的国家规模上分别为“ BBB-”的信用风险评级为“ BBB-”。穆迪（Moody's）的信用风险评级为“ BAA3”，其长期全球范围具有稳定的前景。并不意味着证券的质量，发行人的偿付能力或年度报告中包含的信息的准确性或真实性，也没有验证任何可能违反法律的行为。
低偏压六氟化硫等离子体蚀刻硅的现象学建模
使用六氟化硫 (SF 6 ) 等离子体对硅 (Si ) 进行低偏压蚀刻是制造电子设备和微机电系统 (MEMS) 的宝贵工具。这种蚀刻提供了几乎各向同性的蚀刻行为，因为低电压偏置不会为离子提供足够的垂直加速度和动能。由于这种近乎各向同性的行为，上述等离子体蚀刻可作为湿法蚀刻的替代方案，例如在 MEMS 和光学应用中，因为它提供了更清洁、更精确的可控工艺。然而，各向同性的程度以及最终的表面轮廓仍然难以控制。在这项工作中，我们将三维特征尺度地形模拟应用于 Si 中的低偏压 SF 6 蚀刻实验，以帮助工艺开发并研究控制最终表面几何形状的物理蚀刻机制。我们通过准确再现三个不同的实验数据集并详细讨论地形模拟中涉及的现象学模型参数的含义来实现这一点。我们表明，与传统的严格各向同性和自下而上的方法相比，我们的现象学自上而下的通量计算方法更准确地再现了实验结果。反应堆负载效应被视为模型蚀刻速率的普遍降低，这通过比较不同负载状态下模拟的蚀刻深度与实验确定的蚀刻深度得到支持。我们的模型还能够使用给定反应堆配置的单个参数集，准确地再现不同掩模开口和蚀刻时间的报告沟槽几何形状。因此，我们提出模型参数，特别是平均有效粘附系数，可以作为反应堆配置的代理。我们提供了一个经验关系，将反应堆配方的平均粘附系数与可测量的蚀刻几何各向同性程度联系起来。这种经验关系可以在实践中用于 (i) 估计独立实验的平均有效粘附系数和 (ii) 微调蚀刻几何形状。
疏水蛋白涂覆的固体氟化纳米粒子用于 19F ...
以非侵入性和定量的方式在体内实时追踪细胞、分子和药物是当代医学的优先需求，用于阐明细胞功能、监测病理过程和制定有效的治疗策略。[1] 在现有的诊断技术中，基于质子的磁共振成像（ 1 H-MRI）在对软组织进行成像方面表现良好，没有深度限制，可以提供高分辨率、解剖和功能信息，而无需使用电离辐射和放射性核素。 [2] 为了进一步增强 MRI 对比度，通常使用钆或氧化铁基探针进行诊断，但它们的敏感性和特异性有限，并且其安全性仍存在争议，因为经常有毁灭性的晚期不良反应被报道或仍有待研究。 [3] 作为这些造影剂的替代品，基于氟化（ 19 F）化合物的替代品正变得越来越有前景，由于 19 F 具有高旋磁比，且体内背景可忽略不计，因此可提供“热点”成像功能。 [4] 因此，氟化探针在给药后可以直接检测并以高选择性进行定量分析，特别是当它们含有多种磁当量的 19 F 原子时，最近报道的超氟化分子探针 PERFECTA 就是这种情况（图 1）。 [5] 尽管 PERFECTA 具有尖锐的 19 F 单线态共振峰和合适的弛豫特性，但它显然不溶于水，对于生物医学应用，需要通过脂质乳化剂将其分散在水介质中，或封装到聚合物纳米颗粒或胶束中。 [5,6]
单氟化促进了α-突触核蛋白的分泌错误折叠相关的分泌。
包括在研究人群中；指数日期的平均年龄为58.8岁，男性为60.0％。从第一个观察的MM诊断到指数日期的时间平均为47.5个月。在索引日期的平均随访时间为20.9个月期间，有64.7％的患者（n = 55）启动了第二批批次，35.2％（n = 30）至少收到3个批次。在随访期间，平均每位患者全因医疗保健费用为722,992美元（相当于每位患者每月34,578美元[PPPM]）。总数约为90.7％（每位患者655,524美元），因为医疗保健费用与MM相关，其中66.0％是MM药物/输注成本。结论：在这项现实世界中的研究中，TCE患有高医疗保健成本的MM患者，大多数是MM相关的，主要归因于MM药物和输注成本。
氟化物化学中的卤化物钙钛矿中的化学
将氧化成SN IV物种，通过电子陷阱的不良形成和材料的P掺杂导致性能大幅下降。[6]先前的研究报道了这种氧化的许多起源，例如溶剂[7,8]处理条件[9]，甚至是通过在锡贫乏环境中占比例的。[10]停止这种氧化是实现高效且稳定的锡卤化物PSC的要求之一。因此，已经进行了几项试验，以应对SN II的氧化。这些包括使用新的溶剂系统来避免二甲基硫氧化物（DMSO）氧化[11]，[11]使用还原剂消除SN IV的含量，例如金属sn粉[12]或下磷酸[13]或介入添加剂来减轻诸如Snn IV的形成，snf snf，snf，snf snf snf snf snf。[6,14]