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World File Search System激光辐射
制造具有各向异性荧光性能的3D定向的MOF微图案
对于具有各向异性特性的设备，必须使用定向孔的微观图形材料。晶体和多孔金属有机框架（MOF）是理想的材料，因为它们的化学和结构性突变性可以精确调整功能性能，用于从微电子到光子学的应用。在此，设计了一个可模式的莫弗胶：通过在X射线暴露下使用光掩膜，MOFFILM在辐照区域分解，在未暴露的区域中保持完整。MOFFILM同时用作抗药性和功能性多孔材料。虽然对齐的Cu（OH）2纳米质体的异质增长用于沉积定向的Moffimfms，但通过将溴化二羧酸酯配体（BR 2 BDC）整合到基于铜的MOF CU 2 L 2 L 2 L 2 L 2 L 2 L 2 L 2 LABCO（DABCO（DABCO）中，可以实现对辐射的敏感性（dabco = 1 ockco = 1,4-diazabice; BDC/BR 2 BDC）。 用激光辐射时的石版样品充当辐射时的不同光栅，从而确定了扩展的MOF微图案的质量。 此外，定向的MOF模式通过荧光染料功能化。 结果通过旋转激光激发的极化角，显示了MOF中染料的比对。 通过控制对光的功能响应，该MOF模式协议可用于光子设备的光学组件的微分化。虽然对齐的Cu（OH）2纳米质体的异质增长用于沉积定向的Moffimfms，但通过将溴化二羧酸酯配体（BR 2 BDC）整合到基于铜的MOF CU 2 L 2 L 2 L 2 L 2 L 2 L 2 L 2 LABCO（DABCO（DABCO）中，可以实现对辐射的敏感性（dabco = 1 ockco = 1,4-diazabice; BDC/BR 2 BDC）。用激光辐射时的石版样品充当辐射时的不同光栅，从而确定了扩展的MOF微图案的质量。此外，定向的MOF模式通过荧光染料功能化。通过旋转激光激发的极化角，显示了MOF中染料的比对。通过控制对光的功能响应，该MOF模式协议可用于光子设备的光学组件的微分化。
203 CdMnSe 的光电特性...
摘要。所研究的光伏电池半导体结构由 SnO 2 镀膜玻璃和 CdMnSe 薄膜组成。通过检查激光功率和样品温度下 CdMnSe 薄膜表面的光致发光，研究了原生薄膜、空气退火薄膜和经过 CdCl 2 处理的薄膜。在玻璃基板上生长 Cd 1-x Mn x Se（x =0.02）薄膜。根据光电流的动力学衰减确定了脉冲照射下的载流子寿命。在激光辐射影响下对非平衡光电导弛豫曲线的研究证实了两个复合通道的存在——本征和杂质。光电流弛豫通过快速和慢速复合通道发生。与本征跃迁相关的快速弛豫时间 τ = 6 μs，而慢速弛豫时间则归因于杂质激发，τ = 22 μs。研究了Cd1-xMnxSe（x=0.02）薄膜的光致发光光谱，在光致发光研究中观察到两个最大值，它们是由供体-受体复合和Mn原子的中心内跃迁引起的。
库仑激发截面
人们对 229 Th 核中低能级同质异能态 3 / 2 + （ E < 10 eV）产生了浓厚的兴趣，因为可以设计超精密核钟 [1, 2, 3, 4]、光学范围的核激光器 [5, 6] 和 VUV 范围的核发光二极管 [7]，以及研究许多不寻常的过程：激光辐射通过电子桥处的电子壳层激发和衰变 229 m Th [8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15]，通过边界条件 [16] 或化学环境 [17, 18] 控制同质异能能级 γ 衰变，229 m Th 异构体的 α 衰变 [19] 及其伴随的轫致辐射 [20]，精细结构常数和强相互作用参数变化的相对影响 [21, 22, 23]、长时间衰变定律的指数性检验 [24] 等。229 m Th 同质异能态的激发能量是所有已知原子核中最低的。根据最新数据 [25]，它的能量 E is 为 8.19±0.12 eV。这个结果与文献 [26] 中获得的 E is = 8.28±0.17 eV 值接近，也与文献 [27] 测量的 E is = 8.10±0.17 eV 和文献 [28] 中的 E is = 7.8±0.5 eV 接近。在此之前，在 1990 年至 2007 年的相当长的一段时间内，人们认为 E is < 5 eV [29, 30]。目前，233 U 的 α 衰变实际上是获得 229 m Th 异构体的唯一方法。目前无法通过激光辐射有效激发 229 m Th，因为这需要比现在更精确地了解跃迁能量。因此，在工作 [7] 中，提出通过非弹性电子散射激发 229 m Th。事实证明，在束流能量区域 E ≈ 10 eV 内，激发截面达到 10 − 25 cm 2 的值。如此大的截面表明，使用带负电的粒子束获得 229 m Th 的方法是有前途的。作为工作 [7] 的延续，我们在此考虑低能μ子与 229 Th 核的非弹性散射过程。此类工作的先决条件可能是以下考虑。在 Born 近似中，核激发到能量为 E 的同质异能态的截面在文献 [31] 中通过分析获得，在文献 [32] 中通过分析获得。磁偶极子 ( M 1) 跃迁和电四极子 ( E 2) 跃迁的截面形式为 [31, 32]
快速和有效的激光器 - 金属化 -
1-圣彼得堡州立大学，7/9大学，纳布大学，圣彼得堡，199034，俄罗斯2-物理与工程学院，伊特摩大学，伊特莫索沃，9，9，圣彼得堡，191002年，俄罗斯3 - 俄罗斯3 - Theomat Group，Theomat Group，theomat Group，Chembio Cluster，Chembio Cluster，Itmoosos，Lomososos，92俄罗斯4-激光中心（LFM），应用科学大学Münster，Stegerwaldstraße39，48565德国Steinfurt，德国 *由氯化物，柠檬酸或tart酸和醋酸铜作为铜板溶液组成。表明，在使用连续波532 nm激光辐射辐射后，可以增加铜的沉积速率，并产生与纯金值的电阻，并与底物表面高粘附，并具有较高的纯金值。这种金属化方法有利于实际使用铜模式，包括生产新的可打印微电器设备。因此，我们证明了在任意三维表面上铜沉积的可能性。此外，将所得的铜微图案测试为非酶葡萄糖的工作电极。最后，所提出的技术可以成功地用于设计和开发传感器平台，用于电化学分析和微电器设备。传统上，光刻技术被广泛应用于印刷电路板行业，用于制造电路[1]。激光辅助方法可以分为两组。关键字：直接激光写作，铜，传感器，深层溶剂，激光处理，微电子介绍适用于制造用于电导微型文案（电路）的新方法的开发对于电子设备生产和科学非常重要。但是，这种方法是耗时且昂贵的，涉及许多步骤，例如蚀刻和电镀。另外，由于蚀刻过程中使用的溶剂具有腐蚀性，因此底物的选择是有限的，因此它不适用于e。 g。可打印的电子设备柔性基材和滚动生产。因此，近年来，人们对开发有效和低成本的处理技术来制造导电模式引起了很多兴趣。无掩模直接激光写作的方法被认为是传统光刻和其他现有技术的有前途的替代方法，用于生产微电源组件，传感器和其他设备[2] - [4]。第一组包括技术，其中激光辐射用作表面的初步激活或敏化。例如，这些方法之一是由激光诱导的选择性表面激活（SSAIL），在这些方法中，可以在几乎所有通过PS脉冲的激光激活的聚合物表面和刚性介电的表面上创建铜微孔图，并在其刚性介电介质上创建铜色，并随后的化学还原过程[5] - [7]。第一组的另一个例子是使用有机物
数字全息干涉法测量变形
摘要。无损检测 (NDT) 方法和技术在提高各行各业的产品质量方面发挥着至关重要的作用。在这些方法中，光学方法脱颖而出，它依赖于对光辐射如何与测试对象相互作用的分析。物体光学测试的关键信息参数包括其光谱和整体光度特性。这些特性受物质结构、温度、物理状态、微起伏、入射辐射角度、偏振度和波长等因素的影响。通过利用光学方法，可以在不损坏物体的情况下检测出材料内部的缺陷。这些缺陷包括空隙（不连续性）、分层、孔隙、裂纹、异物夹杂、内部应力、材料结构的改变、物理和化学性质的变化，以及与指定几何形状的偏差。值得注意的是，光学方法仅限于检测由光谱区域内透明的材料制成的产品的内部缺陷。通过利用无损光学检测的力量，行业可以确保其产品的完整性和质量，检测潜在缺陷，并保持严格的质量标准，而不会对测试对象造成任何损害。描述了使用傅里叶变换对全息图序列进行处理的方法，这些全息图被记录在不同的时间点。通过低功率激光辐射可以测量复合材料在加热时的变形。
在193 nm
在193 nm处的光刻是在光刻中从436到365到248 nm的自然延续，这取决于不断较高的分辨率的要求。预计193 nm的光刻将在使用常规面具和O.带有相位转移掩码的18-JLM分辨率。正在解决此新波长时与光刻相关的主要问题。已显示出高度透明的光学材料在193 nm处可用。此外，激光辐射以足够缓慢的速度损坏它们，预计高质量投影光学元件将在10年的全日制运行中执行。因此，正在构建193 nm的踏扫描系统，其设计为在22 x 35 mm的场上达到0.25-L-LM分辨率。已经证明了193 nm光孔师方案的范围。它们包括半透明的单层固定，正色调表面成像（sily！ation）以及使用基于Ultrathin硅聚合物的负色调双层。在大多数情况下，我们已经证明了Sub-O.25-TTM分辨率，高光敏性，良好的暴露量化纬度和非常低的蚀刻残基。总的来说，已经采取了全面设计的193 nm光刻的成功步骤，并且没有预期的主要障碍。
钻石内的激光工程纳米碳相
摘要：钻石作为碳的最密集同质子，显示出一系列示例性的材料特性，这些特性从设备的角度来看具有吸引力。尽管钻石表现出高碳 - 碳键强度，但Ultrashort（飞秒）脉冲激光辐射可以为钻石晶格的高度局部内部分解提供足够的能量。在晶格分解上产生的碳结构较少，受到周围钻石基质的巨大压力，导致高度不寻常的形成条件。通过定制递送到钻石的激光剂量，可以证明可以创建具有不同电导性能的连续修改的内部轨道。除了确定了导致半导体和绝缘书面轨道的经过广泛报道的指导轨道之外。高分辨率透射电子显微镜（HRTEM）用于可视化发生的结构转换，并提供对不同传导方式的见解。HRTEM揭示了激光照射产生的高度多样化的纳米碳结构，其中包括许多用于不同所谓的diaphite络合物的特征，这些签名在陨石样品中已看到，并且似乎介导了激光诱导的钻石损坏。这项工作提供了对陨石中钻石和相关纳米碳相可能的形成方法的见解。关键字：钻石，激光处理，电子设备，石墨线，陨石
639 nm 瓦级声光 Q 开关 Pr:YLF 激光器
高能脉冲可见光激光器在各种应用中都有很高的需求，包括但不限于光学显微镜 [ 1 ]、激光显示器 [ 2 – 4 ]、医疗应用 [ 5 ] 和激光通信 [ 6 ]。此外，高功率、高光束质量的红光激光器可以作为掺杂 Cr 3 和 Ho 3 离子的透明材料的泵浦源，例如 Cr:LiSAF（Cr 3 :LiSrAlF 6 ）[ 7 ] 和 Ho:ZFG（Ho 3 掺杂的氟化锆玻璃）[ 8 ]。早期研究中，产生红光常用的技术是利用非线性光学晶体如KTP（KTiOPO 4 ）、LBO（LiB 3 O 5 ）等，通过Nd 3 掺杂激光晶体产生1.3 μm基频激光[9，10]。该方法已被许多研究者报道，利用Q开关操作调节脉冲宽度，输出功率大多在数百毫瓦范围内。到目前为止，已报道了一些稀土离子掺杂晶体，如Pr 3 、Dy 3 和Sm 3 离子，在红色光谱区产生有效发射[11]。近年来，通过蓝色激光源泵浦Pr 3 掺杂激光材料直接产生红光技术发展迅速，具有结构紧凑、转换效率高、稳定性好等优点。 Pr3掺杂材料由于其大的发射截面和四能级激光系统可见光跃迁，已被证明是直接产生可见激光辐射最有效的解决方案之一[12]。
含有 5 纳米的混合脂质纳米粒子的抗癌药物
将化疗药物如阿霉素 (DOX) 封装在脂质纳米颗粒 (LNP) 中可以克服其急性全身毒性。然而，通过实施安全的刺激响应策略，在肿瘤微环境中精确释放药物以提高最大耐受剂量并减少副作用尚未得到很好的证实。本研究提出了一种集成纳米级穿孔来触发混合等离子体多层 LNP 中的 DOX 释放，该 LNP 由聚集在内部层界面的 5 nm 金 (Au) NP 组成。为了促进位点特异性 DOX 释放，开发了一种单脉冲辐射策略，利用纳秒脉冲激光辐射 (527 nm) 与混合纳米载体的等离子体模式之间的共振相互作用。与传统的 DOX 负载 LNP 相比，这种方法将靶细胞中的 DOX 量增加了 11 倍，导致癌细胞显著死亡。脉冲激光与混合纳米载体相互作用的模拟表明，释放机制由 AuNP 簇附近薄水层的爆炸性蒸发或过热脂质层的热机械分解介导。该模拟表明，由于温度分布高度集中在 AuNP 簇周围，因此在辐射后 DOX 的完整性完好无损，并突显出受控的光触发药物输送系统。
通过直接激光干涉图案化对钠钙玻璃进行微加工和表面功能化
摘要：多功能玻璃因其出色的机械、光学、热学和化学性能组合而在许多成熟和新兴行业中很常见，例如微电子、光伏、光学元件和生物医学设备。通过纳米/微图案化进行表面功能化可以进一步增强玻璃的表面特性，将其适用性扩展到新的领域。尽管激光结构化方法已成功应用于许多吸收材料，但透明材料在可见激光辐射下的可加工性尚未得到深入研究，尤其是对于生产小于 10 µ m 的结构。在这里，基于干涉的光学装置用于通过可见光谱中 ps 脉冲激光辐射的非线性吸收直接对钠石灰基板进行图案化。制作的线状和点状图案具有 2.3 至 9.0 µ m 之间的空间周期和高达 0.29 的纵横比。此外，在这些微结构中可以看到特征尺寸约为 300 nm 的激光诱导周期性表面结构 (LIPSS)。纹理化表面显示出显著改变的特性。也就是说，经过处理的表面具有增强的亲水行为，在某些情况下甚至达到超亲水状态。此外，微图案充当浮雕衍射光栅，将入射光分成衍射模式。优化了工艺参数，以产生具有超亲水特性和衍射效率超过 30% 的高质量纹理。