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地球极地电离层上的太空飓风
在地球低沉的大气中，飓风的大小巨大，螺旋风和巨大的雨水/降雨/降水，这是破坏性的。但是，在地球上层大气中尚未发现类似于赫里斯的干扰。在这里，我们报告了低太阳能和其他低地磁活性期间极地电离层和磁层中的持久空间飓风。该飓风显示出较强的圆形水平等离子体流，带有剪切，几乎零流动中心以及由强烈的电子沉淀引起的，由与强烈的向上磁性电流相关的电流相关的强烈电子沉淀引起的。在中心附近，沉淀电子被基本上加速至约10 keV。尽管条件极为安静，但飓风将大量的能量和动量沉积赋予电离层。观察结果和模拟表明，在北向北向磁场的几个小时内，太空飓风是由稳定的高纬度瓣磁重新连接和电流连续性产生的，太阳磁场和太阳风密度和速度非常低。
敏感性投影，用于通过电离通道优化针对光线搜索的双相氩TPC
摘要：欧洲战略长期愿景强调了更智能和灵活的系统在2050年之前实现净零温室气体排放的重要性。分布式能源（DER）可以提供所需的灵活性产品。分配系统运营商（DSO）与TSO（传输系统运营商）合作致力于通过基于市场的程序采购这些功能可及性产品。在所有DERS中，电池储能系统（BES）是一项有前途的技术，因为它们可能会出于广泛的目的而被利用。但是，由于其成本仍然很高，因此应优化其大小和位置，以最大程度地提高所有者的收入。打算提供一种评估要在DSO和TSO之间共享的灵活性产品的工具。对比的目标，因为BES所有者的收入最大化以及使用创新解决方案固有的DSO风险最小化。通过将方法应用于真实的意大利中型电压（MV）分布网络来验证所提出的模型。
在平面到平面几何形状中NS脉冲分解过程中的电离波的形成和传播
在两个平行板之间NS脉冲分解期间的抽象电离波发育中，通过PS电场诱导的第二次谐波（EFISH）生成和动力学建模研究了介电覆盖的电极。结果表明在放电间隙中形成了两个定义明确的电离波，这需要相对较高的初始电子密度。第一个，阳极定向的波是通过施加的电压脉冲“扫地”初始电子产生的。第二波源于阴极和第一波前部之间，由于该区域的场增强，产生了两个波前方，朝相反的方向传播并在等离子体发射图像中观察到。仅通过efish测量值检测到第二波的阳极定向前部，这很可能是由于阴极定向前部靠近壁。测量和建模预测都表现出由第二波的阳极定向前面引起的间隙中心的瞬态电场。在第一个波和第二波后面形成的等离子体域之间的边界，在等离子体发射图像中观察到，通过EFISH测量值检测到，并通过建模计算进行了预测。模型在放电脉冲结束时预测的电子密度和耦合的能量分布几乎是统一的，除了在阴极 - 粘合壁附近，在该壁附近，该模型的适用性尚不确定，并且无法访问Efish测量值。
65-...中总电离剂量响应的布局依赖性
然而，LDE 对辐射效应的影响尚不清楚，很少有论文关注这一问题，且有限的研究表明器件的辐射敏感性与版图有关。Rezzak 等人 [6] 首次研究了 90 nm 体硅 NMOS 器件中版图相关的总电离剂量 (TID) 响应，结果表明，由于浅沟槽隔离 (STI) 引起的压应力较弱，因此辐射诱导漏电流随栅极至有源区间距的增加而增大。对于 45 nm 应变 SOI RF nFET，不同的源/漏接触间距和栅指间间距可能导致 RF 性能和 TID 退化之间的权衡 [7]。很显然，关于 LDE 对纳米级器件辐射响应的实验研究还很有限，需要进一步研究。
朱诺号对木星赤道电离层上方的现场观测
摘要 朱诺号抵达木星后，人们可以在木星电离层上方进行重复的现场观测。朱诺号在近木点的低海拔和高速度使得直接采样电离层离子群成为可能。我们介绍了木星极光分布实验离子传感器（JADE-I）在电离层上方的首次直接观测。当看向航天器撞击方向时，JADE-I 可以测量低于 1 eV/q 的离子能量分布以及离子成分。我们报告了 17 次朱诺号通过近木点的观测结果。在这些纬度，低能离子由质子和较重的离子组成，质子是主要种类。每次通过时都可以看到重离子——主要是可能来自磁层的氧和硫，但它们的强度会有所不同。在一些近木星点上还观测到了其他痕量轻离子：H 3 +（17 个近木星点中的 6 个）、He +（17 个近木星点中的 2 个）。电离层离子的观测高度可达 ~7,000 公里。
基于熵权法的长期电离层foF2组合预测模型
摘要：准确预报电离层F2层临界频率（foF2）具有十分重要的意义，它极大地限制了通信、雷达和导航系统的效率。本文引入熵权法，建立了澳大利亚达尔文站（12.4 ◦ S，131.5 ◦ E）长期foF2的组合预报模型（CPM）。在完成校准期单个模型的仿真后，利用熵权法确定CPM中各单个模型的权重系数。为验证本研究采用的方法，分析了两组数据：一组是2000年和2009年，属于校准期（1998—2016年），另一组是校准周期之外的数据（1997年和2017年）。为了检验性能，我们将观测到的每月 foF2 中值、所提出的 CPM、国际无线电科学联盟 (URSI) 和国际无线电咨询委员会 (CCIR) 的均方根误差 (RMSE) 进行比较。1997 年、2000 年、2009 年和 2017 年，从 CPM 计算出的年度 RMSE 平均值小于从 URSI 和 CCIR 计算出的年度 RMSE 平均值。2000 年和 2009 年，CPM 与 URSI 之间的平均百分比改进为 9.01%，CPM 与 CCIR 之间的平均百分比改进为 13.04%。在校准期之外，CPM 与 URSI 之间的平均百分比改进为 13.2%，CPM 与 CCIR 之间的平均百分比改进为 12.6%。预测结果表明，无论是在校准期内还是在校准期外，所提出的 CPM 都比 URSI 和 CCIR 具有更高的预测精度和稳定性。
电离辐射 - Physikalisch-Technische Bundesanstalt
6 科电离辐射 *Dr. J. Stenger 电话：(0531) 592-6010 电子邮件：joern.stenger@ptb.de 6.1 放射性部门 Dr. D. Arnold 电话：(0531) 592-6100 电子邮件：dirk.arnold@ptb.de 部门 6.2 放射治疗和 X 射线诊断剂量测定 Dr. U. Ankerhold 电话：(0531) 592-6200 电子邮件：ulrike.ankerhold@ptb.de 部门 6.3 辐射防护剂量测定 Dr. A. Röttger 电话：(0531) 592-6300 电子邮件：annette.roettger@ptb.de 部门 6.4 中子辐射 Dr. A. Zimbal 电话：(0531) 592-6400 电子邮件：andreas.zimbal@ptb.de 6.5 部辐射效应 Dr. H. Rabus 电话：(0531) 592-6600 电子邮件：hans.rabus@ptb.de 参考 6.71 职业辐射防护 Dr. R. Simmer 电话：(0531) 592-6710 电子邮件：rolf.simmer@ptb.de *管理层通过 PTB 组织结构图摘录确定（2019 年 12 月）
采用紫外飞秒激光烧蚀电离质谱法对 SnAg 焊料凸点进行三维成分分析
老材料在微电子领域的重要性日益凸显，不仅体现在二级封装（即印刷电路板组装层面），也体现在一级封装（例如，图 1 a 所示的倒装芯片组装）中。1 在这些应用中，各种类型、不同尺寸的焊料凸块用于三维集成电路 (3D-IC) 的复杂互连。1a 典型焊料凸块的构建示意图如图 1 b 所示。当今 300 毫米晶圆级焊料凸块应用技术上最相关的合金材料是电沉积共晶 SnAg。1b 然而，由于 Sn 2+ 和 Ag + 离子的标准还原电位差异很大（ΔE0≈0.94V），通过电化学沉积制造 SnAg 合金是一项艰巨的任务。为了解决这个问题，通常会在 SnAg 电镀液中添加络合剂和螯合剂，这些络合剂和螯合剂选择性地作用于较惰性的 Ag + 离子，从而减慢其沉积速度以与 Sn 2+ 相兼容，并促进两种金属的共沉积。2 这是实现所需合金成分的关键先决条件。3 此类络合剂和螯合剂的另一个补充功能是稳定含 Sn 电解质中的 Ag + 离子，防止其还原为金属 Ag 以及随之而来的 Sn 2+ 氧化
金属外壳封闭的拜尔-阿尔珀特电离计的长期稳定性
电离真空计被校准实验室用作二级标准，并被用作计量实验室之间比对的传递标准。对于这些应用来说，定量测量仪表稳定性与仪表校准因子的关系至关重要。我们报告了热丝金属外壳封闭电离计的长期校准稳定性，该报告基于对 15 年内九个仪表的重复校准的分析。研究中涉及的所有仪表均为同一类型：Bayard-Alpert 型电离计，采用全金属结构，热丝、网格和收集器周围有一体式金属外壳。所有仪表均在美国国家标准与技术研究所 (NIST) 使用 NIST 高真空标准反复校准，但归 NIST 以外的组织所有。校准后，仪表从高真空标准中取出，运回仪表所有者，并在稍后（超过 1 年）返回 NIST 进行重新校准。仪表稳定性是使用基于 NIST 测量的所有校准因子的合并标准偏差（单个仪表标准偏差的加权均方根平均值）来确定的，并用于定义与长期稳定性 u LTS 相关的相对不确定度分量。我们确定，对于以 4 mA 发射电流运行的仪表，u LTS = 1.9%（k = 1），对于以 0.1 mA 发射电流运行的仪表，u LTS = 2.8%（k = 1）。[http://dx.doi.org/10.1116/1.4750482]
电离辐射剂量测定
本出版物是对 NIST 手册 150“NVLAP 程序和一般要求”的补充，其中包含美国联邦法规 (CFR) 第 15 篇第 285 部分以及所有一般 NVLAP 程序、标准和政策。NIST 手册 150 中的标准涵盖 ISO/IEC 指南 25 的要求和 ISO 9002 (ANSI/ASQC Q92-1987) 的相关要求。手册 150-4 包含特定于剂量测定程序的信息，并且不会重复程序和一般要求中包含的信息。本手册各节的编号以手册 150 为模板；例如。手册 150 的第 285.3 节介绍了 NVLAP 的描述和目标，而手册 150-4 的第 285.3 节介绍了剂量测定程序的描述。如果没有针对认证领域的特定材料，则省略章节编号。