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MIL-STD-171F - ASSIST-快速搜索
MIL-STD-171F 前言 本标准旨在建立表面处理系统代码，这些代码可链接或交叉引用用于表面处理和以其他方式处理金属和木材表面的特定规格信息。它还可作为选择合适的表面处理材料、程序和系统的一般指南。它涵盖有机（油漆、清漆等）和无机（金属镀层、磷化金属等）涂层。特定于各个机构的专用系统由这些组织发布的图纸、规范和标准涵盖，并作为本标准的补充。此类采购文件应直接引用适用的规范。例如，MIL-STD-186 涵盖陆军导弹武器系统的喷漆和其他表面处理。表格中的表面处理系统代码编号在本标准的未来修订中不得更改，因为这些代码编号应在图纸、合同和最终项目规范中引用。如果 MIL-STD-171 先前版本中的系统已从修订中删除，则表格中会注明要用作替代的系统。为了方便引用，所有程序，无论是仅仅清洁表面、沉积薄膜还是执行其他所需功能，都归类为“表面处理”。作为如何使用此标准的示例，假设要用 0.001 英寸（25 微米）厚的铬化锌板进行表面处理。转到表 II，无机表面处理，电镀，我们发现此表面处理的名称为 1.9.2.1。因此，图纸上的说明将是：MIL-STD-171 的表面处理 1.9.2.1。在这种特殊情况下，无需提及任何初步步骤，例如清洁，因为 ASTM B633，表面处理 1.9.2.1 中引用的钢铁锌镀层电镀锌，对此步骤规定如下：“它（基础金属）应经过必要的清洁、酸洗和电镀程序，以产生下文规定的沉积物”。再次，假设 155 毫米弹体将用橄榄褐色无光泽搪瓷完成。根据表 XIII，此饰面为系统 20.2。假设涂漆准备工作为磷化（饰面 5.1.1）。饰面涂层将是磷酸盐涂层加上符合 MIL-DTL-11195 的搪瓷。因此，图纸上的说明将是：饰面 5.1.1 加上 MIL-STD-171 的 20.1，橄榄褐色 No. 34088 符合 FED-STD-595。iii
使用高Q FANO共振的光学切换 -
摘要：在光学纳米结构的连续体（BIC）中发现结合状态已引起了重大的研究兴趣，并发现了光学领域的广泛应用，从而导致了实现High-Q（质量）FANO共振的有吸引力的方法。在此，通过有限元方法（FEM）设计和分析了由MGF 2底物上的四个磷化物（GAP）圆柱组成的全dielectric跨表面。通过打破平面的对称性，特别是通过将两个圆柱体移动到一侧，可以实现从对称性保护的BIC到Quasi-BIC的过渡。此转变使尖锐的双波段FANO共振在1,045.4 nm和1,139.6 nm的波长下激发，最大Q因子分别达到1.47×10 4和1.28×10 4。多极分解和近场分布表明，这两个QBIC由电动四极杆（EQ）和磁四极杆（MQ）主导。此外，可以通过更改入射光的极化方向来实现双向光学切换。结果，优点（FOM）的最大灵敏度和数字为488.9 nm/riU和2.51×10 5
利用发射极电容/电阻衰减的宽带 InP 跟踪保持放大器
摘要 — 在本信中，我们介绍了一种适用于高速采样系统的基于磷化铟 (InP) 双异质结双极晶体管 (DHBT) 技术的 24 GSa/s、> 20 GHz 宽带跟踪保持放大器 (THA)。在所提出的方法中，输入级的输出极点被发射极电容/电阻衰减产生的零点抵消，从而扩展了带宽而没有压降。引入了输出级 V be 调制补偿技术以减少失真。单片微波集成电路 (MMIC) 原型仅占用 0.69 mm 2 ，实验结果表明它具有从直流到 22.3 GHz 的 0.112–f T 带宽，比使用 InP 技术的任何报道的紧凑型 THA 解决方案都要宽。此外，在 24 GSa/s 采样率下，无杂散动态范围 (SFDR) 优于 42 dB，总谐波失真 (THD) 小于 − 25 dBc。THA 功耗仅为 374 mW，是 InP 技术中报告的最低直流功耗之一。
超薄非晶 NbP 半金属中的表面导电和降低的电阻率
众所周知，由于电子表面散射，传统金属（如铜）的电阻率在薄膜中会增加，从而限制了金属在纳米级电子器件中的性能。在这里，我们发现在相对较低的 400°C 温度下沉积的磷化铌 (NbP) 半金属中，随着薄膜厚度的降低，电阻率会异常降低。在厚度小于 5 纳米的薄膜中，室温电阻率（1.5 纳米厚的 NbP 约为 34 微欧姆厘米）比我们的块体 NbP 薄膜的电阻率低六倍，并且低于类似厚度的传统金属（通常约为 100 微欧姆厘米）。NbP 薄膜不是晶体，而是在非晶态基质内表现出局部纳米晶体、短程有序。我们的分析表明，较低的有效电阻率是由通过表面通道的传导以及薄膜厚度减小时的高表面载流子密度和足够好的迁移率引起的。这些结果和在此获得的基本见解可以实现超越传统金属限制的超薄、低电阻率纳米电子线。
新型高熵合金的合成及其在能源转换与储存中的应用
为探索节约能源、促进能源再生的途径，本文介绍了新型高熵合金材料的合成及其在能源转换与储存方面的应用。通过分析其高强度、抗回火、抗软化等性能，制备了一种新型高熵合金材料。根据其微观组织和铸态组织，研究了新型高熵合金的电化学性能。实验结果表明，与FeSn2相比，新型高熵合金材料在循环充电过程中的容量、电化学性能、容量稳定性和倍率均具有较大优势；在较低的退火温度下，实心Co纳米颗粒在纳米尺度上通过kirkentel效应进一步转变为空心Co3O4纳米球。 NC-Co 3 O 4 纳米复合材料作为锌空气电池阴极表现出优异的 OER 和 ORR 性能：低过电位 352 mv、高初始还原电位 0.91 v 和半波电位 0.87 v、高开路电压 1.44 v、电容 387.2 mah/g 和优异的循环稳定性。来自高熵合金-74 的 Nico 双金属磷化物纳米管是有效的水分解电催化剂。
MIL-STD-171F - 美国镀锡与镀锌
MIL-STD-171F 前言 本标准旨在建立表面处理系统代码，这些代码可链接或交叉引用用于表面处理和以其他方式处理金属和木材表面的特定规格信息。它还可作为选择合适的表面处理材料、程序和系统的一般指南。它涵盖有机（油漆、清漆等）和无机（金属镀层、磷化金属等）涂层。特定于各个机构的专用系统由这些组织发布的图纸、规范和标准涵盖，并作为本标准的补充。此类采购文件应直接引用适用的规范。例如，MIL-STD-186 涵盖陆军导弹武器系统的喷漆和其他表面处理。表格中的表面处理系统代码编号在本标准的未来修订中不得更改，因为这些代码编号应在图纸、合同和最终项目规范中引用。如果 MIL-STD-171 先前版本中的系统已从修订中删除，则表格中会注明要用作替代的系统。为了方便引用，所有程序，无论是清洁表面、沉积薄膜还是执行其他所需的功能，都归类为“表面处理”。作为如何使用此标准的示例，假设零件要用 0.001 英寸（25 微米）厚的铬化锌板进行表面处理。转到表 II，无机表面
材料和硬件
系列 类型 10xx 非硫化碳钢 11xx 再硫化碳钢（易加工） 12xx 再磷化和再硫化碳钢（易加工） 13xx 锰 1.75% 23xx 镍 3.50% 25xx 镍 5.00% 31xx 镍 2.25%、铬 0.65% 33xx 镍 3.50%、铬 1.55% 40xx 钼 0.20 或 0.25% 41xx 铬 0.50 或 0.95%、钼 0.12 或 0.20% 43xx 镍 1.80%、铬 0.50 或 0.80%、钼 0.25% 44xx 钼0.40% 50xx 铬 0.25、或 0.40 或 0.50% 50xxx 碳 1.00%、铬 0.50% 51xxx 碳 1.00%、铬 1.05% 52xxx 碳 1.00%、铬 1.45% 61xx 铬 0.60、0.80 或 0.95%、钒 0.12% 0.10% 最小、或 0.15% 81xx 镍 0.30%、铬 0.40%、钼 0.12% 86xx 镍 0.55%、铬 0.50、钼 0.20% 87xx 镍 0.55%。铬 0.05%、钼 0.25% 92xx 锰 0.85%、硅 2.00%、铬 0 或 0.35% 93xx 镍 3.25%、铬 1.20%、钼 0.12% 94xx 镍 0.45%、铬 0.40%、钼 0.12%
六方氮化硼超表面实现全可见光谱高品质纳米光子学
振幅[3,4]光散射的方向性[5,6]自旋[7,8]和轨道角动量[9,10]，而不受金属基方法固有材料损耗的限制。特别是，由近场增强驱动的应用，如生物分子传感，依赖于高共振品质因数（Q）（定义为共振波长除以线宽），因此需要高的电磁近场强度来实现最大样本灵敏度。[11,12]从米氏理论等中得知，共振品质因数和共振器折射率[13]之间的固有相关性，因此推动了基于高折射率材料体系（如硅[14,15]锗[16,17]或磷化镓）的全电介质纳米光子学的发展。 [18,19] 尽管这些材料在近红外 (NIR) 和红外 (IR) 光谱区域具有出色的高 Q 共振特性，但由于它们的带隙能量处于中间水平，因此在整个可见光谱范围内都伴随着较高的材料固有带间吸收损耗。由于这些基本的材料限制，在整个可见光谱范围内都缺乏无损高折射率材料。[20–23] 特别是，对于可见波长范围，存在大带隙和无损材料的竞争
A.物理 - GISC-马德里大学合并 div>
自Geim和Novoselov [1]获得石墨烯以来，由于各种原因，二维（2D）材料的实验和理论表征是一个非常活跃的研究主题。其中，与散装相比，相比之下，大量的潜在应用，新的物理现象的出现以及很重要的是调整其性质的易感性[2-10]。这些2D材料可以通过自上而下的方法（例如3D层状晶体的液体或机械去角质）或自下而上的技术获得，例如分子束外观外观（MBE），化学蒸气沉积（CVD）和物理蒸气沉积（PVD）。它们的构成非常多样化；研究最多的2D材料是过渡金属硫化剂，六边形硼n- tride（H-BN），磷化物（BP），磷烯，硅，硅，德国烯以及一年一度增加到一年的长列表[11，12]。是由大量合成和理论上提出的2D材料的动机，计算2D材料数据库（C2DMDB）是将稳定性及其基本物理化学特性分类的替代方法[2,4,5]。C2DMDB包含几种尚未达成的材料，这些材料是第一次提出的，或者先前已提出的材料，并已被验证为热和动态稳定。一个例子是Penta-Graphene（PG），Penta-Graphene（PG）是由Pentagons组成的一种新的碳。Penta-Graphene于2014年首次由Tang等人提出。[13]，后来由Zhang等人。[14]。尽管到目前为止尚未合成PG，但其物理化学
可调激光应用的砷化加仑光子集成电路平台
摘要 - 在1030 nm波长附近的运行的主动循环集成技术已在炮码（GAAS）光子集成电路平台上开发。该技术利用量子井（QW）稍微垂直从波导的中心偏移，然后在上覆层再生之前有选择地去除以形成主动和被动区域。活性区域由砷耐加仑（INGAAS）QWS，砷耐磷化物（GAASP）屏障，GAAS单独的配置异质结构层和铝铝（Algaas）甲板组成。Fabry Perot激光器具有各种宽度和表征，表现出98.8％的高注射效率，内部活跃损失为3.44 cm -1，内部被动损失为3 µm宽波导的4.05 cm -1。3 µm，4 µm和5 µm宽的激光器在100 MA连续波（CW）电流（CW）电流和阈值电流低至9 mA时显示出大于50 MW的输出功率。20 µm宽的宽面积激光器在CW操作下显示240 MW输出功率，35.2 mA阈值电流，低阈值电流密度为94 A/cm 2，长2 mm。此外，这些设备的透明电流密度为85 A/cm 2，良好的热特性具有T 0 = 205 K，Tη= 577K。