鉴于拓扑自旋纹理在信息存储技术中的潜在应用,其生成和控制是现代自旋电子学最令人兴奋的挑战之一。特别令人感兴趣的是磁绝缘体,由于其低阻尼、无焦耳加热和减少的耗散,可以提供节能的自旋纹理平台。本文证明了样品厚度、外部磁场和光激发之间的相互作用可以产生大量的自旋纹理,以及它们在绝缘 CrBr 3 范德华 (vdW) 铁磁体中的共存。使用高分辨率磁力显微镜和大规模微磁模拟方法,证明了 T-B 相图中存在一个大区域,其中存在不同的条纹畴、skyrmion 晶体和磁畴,并且可以通过相位切换机制进行内在选择或相互转换。洛伦兹透射电子显微镜揭示了磁性纹理的混合手性,在给定条件下属于布洛赫类型,但可以通过厚度工程进一步操纵为尼尔类型或混合类型。可以通过标准光致发光光学探针进一步检查不同磁性物体之间的拓扑相变,该探针通过圆偏振分辨,表明存在激子-skyrmion耦合机制。研究结果表明,vdW磁绝缘体是一种有前途的材料框架,可用于操纵和生成与原子级设备集成相关的高度有序的skyrmion晶格。
标准IWP设备•篮子控件•500kV锋利的电击环•测试带和盾牌•密封的玻璃纤维夹具组装•两人,36'x 72''(914 x 1829 mm)篮子•1,000 lb(454 mm)容量(454 mm)容量充电器•工厂安装•侧架,绝缘的臂臂选项•765kV•单人或定制篮•液压发音•900-1,200 lb(408-544 kg)旋转篮•45°JIB电源
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摘要。本文介绍了一种系统,用于根据安装在塔和绝缘体上的传感器来监视高架电源线和变电站的绝缘条件。传感器在电容耦合上与绝缘结构一起工作,并在绝缘子附近注册电气放电的外观和生长。传感器的数据具有预定频率(从1分钟或更长时间)是将蜂窝通信传输到操作服务计算机(智能手机),并显示为更改屏幕上的图形。在本文中,提出了系统的运行和功能图,并在实验室和现场条件下使用了110 kV线的实验室和现场条件中的制成产品样品进行了描述的测试和实验结果。现场实验的结果显示了与传统诊断设备相比,监测绝缘材料的优势。
本指南介绍了在绝缘样品的 XPS 分析过程中控制表面电荷的方法以及提取有用结合能信息的方法。本指南总结了表面电荷的成因、如何识别表面电荷的发生、最小化电荷累积的方法以及在使用电荷控制系统时调整或校正 XPS 光电子结合能的方法。在 XPS 测量过程中,有多种方法可以控制表面电荷累积,并介绍了先进 XPS 仪器上的系统示例。没有单一、简单且万无一失的方法来提取绝缘材料的结合能,但介绍了几种方法的优点和局限性。由于方法各异且每种方法都有局限性,研究人员必须准确描述研究报告和出版物中应用的程序。
第 1 章 简介 1 1.1 简介 1 1.2 定子绕组绝缘系统 3 1.2.1 线束和匝绝缘 4 1.2.2 接地壁绝缘系统 5 1.2.3 应力分级系统 7 1.3 PWM-VSC 波形应力 8 1.3.1 非线性电压分布引起的应力 10 1.3.2 电缆长度的影响 12 1.3.3 局部放电 (PD) 侵蚀 13 1.3.4 空间电荷的后果 14 1.4 文献综述 18 1.4.1 电磁线涂层中的空间电荷积累、捕获和电荷注入 18 1.4.2 纳米填充电磁线的性能 20 1.4.3 建模 22 1.4.4 接地壁绝缘的评估 23 1.5 目的本论文的主要内容和论文组织 25 第 2 章 材料、实验装置和建模 27 2.1 简介 27 2.2 材料 27 2.2.1 磁线基材 27 2.2.2 磁线外涂层纳米填料 28 2.2.3 绝缘试验匝间试样 31 2.2.4 接地壁试验样品的制备 34 2.3 统计分析 35 2.3.1 威布尔分析 37 2.4 具有匝间应力的系统建模 38 2.4.1 有限元法 (FEM) 39 2.5 固体电介质中存储电荷的表征 40 2.5.1 热刺激去极化电流 (TSDC) 方法 41 2.5.2 存储电荷和捕获能级 43 2.6 实验装置43 2.6.1 PD 测量 44 2.6.2 使用红外摄像机进行温度测量 46 2.6.3 TSDC 测量 48 2.6.4 脉冲老化测试电路 50 2.6.5 用于表面粗糙度测量的 SEM 和图像工具软件 55
高表面特性。tc ba-y-cu-o和通过薄绝缘子过层钝化。Takashi Hirao,Kentaro Setsune和Kiyotaka W asa。中央重新建筑实验室,Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd.,3-15,Yagumonakamachi,Moriguchi,Osaka,Osaka 570
该面板的创新特点是其尺寸。事实上,它的宽度仅为 550 毫米,这使其成为一款非常紧凑且用途广泛的产品,非常适合空间受限的应用。UniGear 550 的设计使其可以直接连接到 UniGear 的其他版本,例如 ZS1、500R 和 MCC。UniGear 550 具有与 UniGear ZS1 相同的整体尺寸(高度和深度)和相同的主母线布置,最大电流为 4 000 A。对于此面板,可以靠墙放置。事实上,开关设备不需要从后面进行安装或维护。所有服务操作均从前面进行。UniGear 550 已通过国际标准 (IEC) 和当地标准组织(例如中国 GB/DL 和俄罗斯 GOST 标准)要求的所有测试。此外,UniGear 550 已完成主要船舶登记处(LR、DNV、RINA、BV 和 GL)关于在船舶和海军设施中使用开关设备的规定所要求的一系列认证。UniGear 550 体现了 UniGear ZS1 的所有构造特性。作为标准解决方案,每相最多可连接三根单芯电缆(最大横截面积为 185 mm 2 ),或每相最多连接两根电缆(最大横截面积为 300 mm 2 )。电缆相对于地板的连接高度为 600 mm。断路器为可抽出式真空型 Vmax/L。UniGear 550 使用环芯电流互感器作为标准解决方案,固定在“CT 杆”上。作为可选解决方案,可提供块式电流互感器。
摘要:由导电和绝缘材料组成的多层微结构的生产备受关注,因为它们可用作微电子元件。当前提出的这些微结构的制造方法包括自上而下和自下而上的方法,每种方法都有各自的缺点。研究表明,基于激光的方法可以以微米/亚微米分辨率对各种材料进行图案化;然而,尚未实现具有导电/绝缘/导电特性的多层结构。在这里,我们展示了通过热驱动反应和微泡辅助打印相结合的方式激光打印由导电铂和绝缘氧化硅层组成的多层微结构。溶解在 N-甲基-2-吡咯烷酮 (NMP) 中的 PtCl 2 被用作形成导电 Pt 层的前体,而溶解在 NMP 中的四乙基正硅酸盐形成了由拉曼光谱识别的绝缘氧化硅层。我们通过改变激光功率和迭代次数,证明了绝缘层高度在 ∼ 50 至 250 nm 之间的控制。0.5 V 时氧化硅层的电阻率为 1.5 × 10 11 Ω m。我们发现其他材料多孔且易开裂,因此不适合用作绝缘体。最后,我们展示了微流体如何通过在前体之间快速切换来增强多层激光微打印。这里提出的概念可以为简单制造多层微电子设备提供新的机会。关键词:多层结构、微泡、导电/绝缘、图案形成、微流体■简介
AlkotmányU的生态研究中心生态学与植物学研究所。2 - 4,H-2163Vácrátót,匈牙利B森林现场诊断和分类部,pf。132,H-9401 Sporon,匈牙利C植物解剖学系,生物学研究所,EötvösLorándUniversity,PázmányP。Stny。 1/c,H-1117布达佩斯,匈牙利d ostffyasszonyfai u。 60,H-9600Sárvár,匈牙利E系,兽医大学,PF。 2,H-1400布达佩斯,匈牙利F森林和森林保护研究所,pf。 132,H-9401 Sporlon,匈牙利G Bem J. U。 1/d,H-2066Szár,匈牙利H Zichy P. U。 3/1, H-2040 Budaörs, Hungary i Biodiversity & Macroecology Group, Department of Biological, Geological and Environmental Sciences, Alma Mater Studiorum – University of Bologna, via Irnerio 42, 40126 Bologna, Italy j Plant Protection Institute, Centre for Agricultural Research, Herman O. u. 15,H-1022布达佩斯,匈牙利K Damjanich J. U。 137,H-1154布达佩斯,匈牙利L部,匈牙利自然历史博物馆,巴罗斯U。 13,H-1088布达佩斯,匈牙利132,H-9401 Sporon,匈牙利C植物解剖学系,生物学研究所,EötvösLorándUniversity,PázmányP。Stny。1/c,H-1117布达佩斯,匈牙利d ostffyasszonyfai u。60,H-9600Sárvár,匈牙利E系,兽医大学,PF。 2,H-1400布达佩斯,匈牙利F森林和森林保护研究所,pf。 132,H-9401 Sporlon,匈牙利G Bem J. U。 1/d,H-2066Szár,匈牙利H Zichy P. U。 3/1, H-2040 Budaörs, Hungary i Biodiversity & Macroecology Group, Department of Biological, Geological and Environmental Sciences, Alma Mater Studiorum – University of Bologna, via Irnerio 42, 40126 Bologna, Italy j Plant Protection Institute, Centre for Agricultural Research, Herman O. u. 15,H-1022布达佩斯,匈牙利K Damjanich J. U。 137,H-1154布达佩斯,匈牙利L部,匈牙利自然历史博物馆,巴罗斯U。 13,H-1088布达佩斯,匈牙利60,H-9600Sárvár,匈牙利E系,兽医大学,PF。2,H-1400布达佩斯,匈牙利F森林和森林保护研究所,pf。132,H-9401 Sporlon,匈牙利G Bem J. U。 1/d,H-2066Szár,匈牙利H Zichy P. U。 3/1, H-2040 Budaörs, Hungary i Biodiversity & Macroecology Group, Department of Biological, Geological and Environmental Sciences, Alma Mater Studiorum – University of Bologna, via Irnerio 42, 40126 Bologna, Italy j Plant Protection Institute, Centre for Agricultural Research, Herman O. u. 15,H-1022布达佩斯,匈牙利K Damjanich J. U。 137,H-1154布达佩斯,匈牙利L部,匈牙利自然历史博物馆,巴罗斯U。 13,H-1088布达佩斯,匈牙利132,H-9401 Sporlon,匈牙利G Bem J. U。1/d,H-2066Szár,匈牙利H Zichy P. U。3/1, H-2040 Budaörs, Hungary i Biodiversity & Macroecology Group, Department of Biological, Geological and Environmental Sciences, Alma Mater Studiorum – University of Bologna, via Irnerio 42, 40126 Bologna, Italy j Plant Protection Institute, Centre for Agricultural Research, Herman O. u.15,H-1022布达佩斯,匈牙利K Damjanich J. U。137,H-1154布达佩斯,匈牙利L部,匈牙利自然历史博物馆,巴罗斯U。13,H-1088布达佩斯,匈牙利