研究材料与光的光谱相互作用的学科称为光谱学,我们可以从一个简单的问题开始:“光是什么?”。我们用眼睛观察到的光(以及我们看不见的光)是由于能量在空间中以电场和磁场的组合形式传播而产生的,称为电磁波。这种波可以用其波长来表征,可见光区域的光的波长范围从紫色区域的 400 nm 到红色区域的 700 nm。我们都熟悉彩虹的景象,如果彩虹的颜色在图中显示为波长垂直向下增加,那么红色以下是红外线,紫色以上是紫外线。这些区域无法用人眼探测到,但可以使用对这些波长敏感的合适仪器进行研究。对于钻石,我们会发现需要测量所有三个区域。
抽象缺陷检测是制造业中的一个关键质量控制过程,旨在在吸引客户之前识别和分类产品的缺陷或异常。传统的手动检查方法是耗时,劳动力密集的,容易出现人为错误。本文提供了基于图像的缺陷检测算法的全面概述,包括传统的图像处理技术,机器学习算法和深度学习模型。该研究分析了各种应用程序和数据集中每种方法的优势,局限性和性能。结果表明,尽管传统方法和机器学习算法提供可靠的缺陷检测,但深度学习模型,尤其是卷积神经网络(CNN),但具有出色的准确性和鲁棒性。但是,深度学习模型需要大量的计算资源和大量的标记数据进行培训。本文强调了根据特定的应用要求,数据特征和计算约束选择最合适的方法的重要性。此外,它讨论了未来的研究机会,例如开发更健壮和广义的算法,利用多模式数据,改善模型的可解释性以及实现实时和边缘计算解决方案。
Aspartame是一种人造甜味剂,用于各种产品,从减肥饮料到烘焙食品,口香糖甚至牙膏。添加剂已被FDA批准用于食品和饮料,但研究发现,阿斯巴甜与一系列健康问题有关,包括2型糖尿病,肥胖,情绪和行为障碍,荷尔蒙的破坏和对DNA的损害。,尽管通常认为该产品在低剂量下是安全的,但世界卫生组织在7月表示,甜味剂可能会“可能”引起癌症。在8月31日发表在《自然科学报告》杂志上的一项最近的一项研究中,佛罗里达州立大学的研究人员发现,即使在持续的时期中,即使是低剂量的阿斯巴甜,也可能导致空间学习和记忆缺陷,至少在小鼠中。“我们对小鼠的施用了一定剂量的阿斯巴甜,这相当于FDA规定的剂量的约10%至15%,作为人类最大的安全每日摄入量(每天每公斤每公斤50毫克的体重),“ Co-author Prade prade ann ann ann ann ann
细胞可塑性导致肿瘤内异质性和表型转换,从而能够适应转移性微环境并对疗法产生耐药性。肿瘤细胞可塑性的潜在机制仍不清楚。SOX10 是一种神经嵴谱系转录因子,在黑色素瘤中异质表达。SOX10 的缺失会降低增殖,导致侵袭性,包括间充质基因和细胞外基质的表达,并促进对 BRAF 和/或 MEK 抑制剂的耐受性。我们发现细胞凋亡蛋白 1/2 (cIAP1/2) 抑制剂类可在 SOX10 缺陷细胞中选择性诱导细胞死亡。靶向治疗选择 SOX10 敲除细胞,强调其药物耐受性。将 cIAP1/2 抑制剂与 BRAF/MEK 抑制剂联合使用可延缓黑色素瘤在体内获得性耐药性的发生。这些数据表明,SOX10 介导皮肤黑色素瘤的表型转换,从而产生靶向抑制剂耐受状态,这可能是获得耐药性的前奏。此外,我们提供了一种选择性消除 SOX10 缺陷细胞的治疗策略。
氢是绝缘子中的大量杂质,可以在半导体行业的生长和各种处理步骤中轻松引入。通过与不同的晶体缺陷反应,H可以钝化它们或形成新型的Elective elective Himctive H活性相关的复合物。[1,2]这些缺陷可能明显影响了微电子设备的电性能,对它们的控制是现代微电子的重要任务。在文献中,致力于研究h h h中与H相关缺陷的电和光学特性的研究相对较少。根据理论,孤立的间质h充当两性杂质,也可能是绝缘子中负电荷的来源。[3 - 5]通过使用第一个原理总计计算,kilic和Zunger [3]降低了间隙H应该根据Fermi水平在绝缘子带中的位置引入浅或深度状态。作者通过暗示存在H的过渡水平(þ /)的存在,应位于真空水平以下约3.0 0.4 eV。该级别的位置定义了绝缘子中孤立H的电荷状态。h应该是负(积极的)。浅氢状态也可以出现在绝缘体的带隙中。过渡级别的存在
免责声明 本文件为美国政府机构赞助工作的记录。美国政府、劳伦斯利弗莫尔国家安全有限责任公司及其任何雇员均不对所披露的任何信息、设备、产品或流程的准确性、完整性或实用性做任何明示或暗示的保证,也不承担任何法律责任或义务,也不表示其使用不会侵犯私有权利。本文以商品名、商标、制造商或其他方式提及任何特定商业产品、流程或服务并不一定构成或暗示美国政府或劳伦斯利弗莫尔国家安全有限责任公司对其的认可、推荐或支持。本文表达的作者观点和意见不一定代表或反映美国政府或劳伦斯利弗莫尔国家安全有限责任公司的观点和意见,不得用于广告或产品代言目的。
这项工作研究了铟镓砷 (InGaAs) SOI-FinFET 中界面缺陷在高性能应用中的可靠性。In 0.53 Ga 0.47 As 是一种很有前途的下一代晶体管材料,因为它具有高电子迁移率,这对于高速和高频应用至关重要。然而,界面陷阱电荷 (ITC) 的存在会严重影响器件的性能和可靠性。我们全面分析了 InGaAs SOI-FinFET 中的 ITC,研究了它们对线性性能参数(如 VIP2、VIP3、IIP3、IMD3、HD2 和 HD3)的影响。所有结果表明,优化界面质量对于提高 InGaAs SOI-FinFET 的可靠性和性能至关重要。这项工作为缺陷机制提供了宝贵的见解,并为改进制造工艺以实现更可靠的高性能 InGaAs-SOI-FinFET 提供了指导。因此,基于 InGaAs 的 FinFET 是最适合下一代使用的高性能半导体器件。 InGaAs 具有优异的电子迁移率和高饱和速度,为高频和高速应用提供了显著的优势,使其成为硅的理想替代品。
1Tübingen医学院,德国Tübingen临床和实验输血医学研究所2德国弗莱堡大学医学中心弗莱堡大学医学中心儿科和青少年医学系5临床化学和化学实验室诊断研究所,格拉兹医科大学,格拉兹,格拉兹,奥地利6号实验血液学和输血医学研究所(IHT)糖尿病中心北莱茵 - 韦斯特法里亚,鲁尔大学大学大学诊所,德国博丘姆实验室和输血医学研究所8临床止血,德国穆斯特大学穆斯特大学医院1Tübingen医学院,德国Tübingen临床和实验输血医学研究所2德国弗莱堡大学医学中心弗莱堡大学医学中心儿科和青少年医学系5临床化学和化学实验室诊断研究所,格拉兹医科大学,格拉兹,格拉兹,奥地利6号实验血液学和输血医学研究所(IHT)糖尿病中心北莱茵 - 韦斯特法里亚,鲁尔大学大学大学诊所,德国博丘姆实验室和输血医学研究所8临床止血,德国穆斯特大学穆斯特大学医院
在那些一路帮助我、让我能够完成这篇硕士论文并完成工程学位的人中,有几个人值得我感谢。我特别感谢和赞赏 S¨oren Knuts,我的导师和 GKN Aerospace Trollh¨attan 的代表。如果没有 S¨oren 孜孜不倦的兴趣和努力为我指明正确的方向,这一切都不可能实现。其次,我要感谢吕勒奥理工大学的 Erik Vanhatalo 教授指导我的工作并通过学术视角提供宝贵的反馈。我还要感谢我的朋友和对手 Albert Stenb¨ack Juhrich 在整个工作期间的反馈。S¨oren、Erik 和 Albert 一起帮助我提高了论文的相关性和质量。最后,我要感谢所有参与采访的人,他们让我能够收集定性数据,我认为这些数据是论文的基石,当然还要感谢 GKN Aerospace Trollh¨attan,尽管 COVID-19 疫情爆发,他们还是允许我完成论文。