与传统的 2D 计算系统相比,超密集 3D 集成电路(3D IC),例如单片 3D IC(图 1),可以为数据密集型应用带来巨大的能量延迟积(EDP)优势 [1,2]。为了实现这些优势,需要将多层逻辑和存储器(例如,逻辑和/或存储器设备的薄层,以及相关的信号/全局金属布线)以 3D 形式集成,并使用有限长宽比的后端制程(BEOL)层间过孔(ILV)建立超密集(例如,间距 ≤ 100 纳米)垂直连接 [3]。现有的 BEOL 布线结构已经在使用这种纳米级 ILV。3D IC 变得至关重要,因为工艺技术小型化的根本限制使得传统的缩放路径更加困难。但是,必须克服重大的热挑战才能在多个 3D 层上实现高速和高功率计算引擎 [4-5]。如果没有新技术,未来 3D IC 的上层最高温度将大大超过可靠运行所需的上限(例如 [6] 中的 125°C)。我们使用图 1 中的单片 3D IC 来了解 3D 层中的温升和热耗散(详细分析见第 III 部分)。图 1 中的 N 层中的每一层都包含一层高速、高功率硅逻辑器件(例如,计算引擎)和由铜布线和超低κ 层间电介质 (ILD) 组成的 BEOL 层(例如,用于信号布线)。各层通过超密集 ILV 电连接。在某些设计中,每层还存在硅存储器、存储器访问设备和额外的 BEOL。3D IC 由附加的散热器进行外部冷却,散热器将产生的所有热量以散热器比传热系数 h(W/m 2 /K)散发到环境中。最高温度 T j 取决于散热器、环境温度和 N 层的热特性。散热器创新(如 [7])只需散热器上 10°C 的温升(即 h= 10 6 W/m 2 /K)即可消除 1000 W/cm 2 的热量,尽管
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碳纳米管 (CNT) 具有一组独特的性能,例如高电流承载能力、高热导率、机械强度和极大的表面积,18 这些特性使其可用于众多应用。现在可以高效地生长高纯度的块状和表面单壁纳米管 (SWNT) 9 13,因此许多应用的生产限制似乎已经得到克服。然而,仔细观察就会发现,对于纳米管森林的许多关键应用而言,现有的生长方法所生成的森林的面积密度和性能仍然低 1 2 个数量级。以用 CNT 取代集成电路中的铜互连线为例,这是半导体路线图的一个重要里程碑。14 16 只有当 CNT 互连线的电阻低于铜时,才会使用 CNT 互连线,而这需要 CNT 面积密度至少为 2 10 13 cm 2 才能降低由量子电阻引起的串联电阻。然而,迄今为止实现的 SWNT 最高密度仅为 7·10·11 cm2,7,17 21 低了 30 倍(图 1)。散热器也存在类似的问题。虽然单个纳米管的导热系数可能与金刚石实心棒相当,3 但是,如果纳米管森林只填充了可用横截面积的 3%,实际导热系数就会低 30 倍,用处不大。22,23 为了克服这些限制,我们需要完全茂密的森林。我们在此介绍了一种催化剂设计,用于生长超高密度纳米管森林,接近所需的 2·10·13 cm2 密度,甚至可以达到更高的密度。