机构名称：
¥ 1.0
程序委员会：Craig B. Arnold，普林斯顿大学（美国）;马丁纳斯·贝雷斯纳大学南安普敦（英国）； Laura Gemini，ALPhANOV（法国）；长谷川聪，宇都宫大学中心。光学研究与教育（日本）； Guido Hennig，Daetwyler Graphics AG（瑞士）； Jürgen Ihlemann，哥廷根纳米光子研究所（德国）；伊藤佑介，大学。东京（日本）；牧村哲也，大学筑波（日本）； Inka B. Manek-Hönninger 中心激光强度与应用（法国）；卡洛斯·莫尔佩塞雷斯大学马德里理工大学（西班牙）；米格尔·莫拉莱斯，大学。马德里理工大学（西班牙）；中田芳树，大阪大学（日本）; Aiko Narazaki，日本产业技术综合研究所 (日本)；Beat Neuenschwander，伯尔尼高等技术学院 (瑞士)；Jie Qiao，罗彻斯特理工学院 (美国)；Gediminas Raciukaitis，物理科学与技术中心 (立陶宛)；Joel Schrauben，MKS 仪器公司 (美国)；Felix Sima，罗马尼亚国立激光、等离子体和辐射研究所 (罗马尼亚)；Paul Somers，卡尔斯鲁厄理工学院 (德国)；Koji Sugioka，日本理化学研究所先进光子学中心 (日本)；Mitsuhiro Terakawa，庆应义塾大学 (日本)；Onur Tokel，比尔肯特大学 (土耳其)；Xianfan Xu，普渡大学 (美国)
微电子和光电子制造中的激光应用 (LAMOM) XXX (LA301)
主要关键词
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