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自 2016 年起，担任 UOS 材料和设备表征代表。自 2001 年起，担任 UOS X 射线衍射和 X 射线反射率实验室负责人。从事微电子应用材料领域的研究。研究领域：微电子用氧化物和硫族化物材料、原子层沉积和 MOCVD 沉积、相变存储器、微电子机械系统 (MEMS)、热电材料、拓扑绝缘体。COST 行动 MP1402 HERALD（连接欧洲 ALD 研究）副协调员、LAB4MEMSII 项目（ENIAC 呼叫 2014）副协调员，参与不同的 H2020 和 FP7 项目。欧洲项目 Chemaph（FP7）协调员，负责 PRIN 项目的 CNR。意大利和法国双边项目的协调员，由法国-意大利大学支持。在与 Micron 和 STMicroelectronics 的商业合同竞争中，负责与存储设备和 MEMS 相关的不同活动。拥有美国专利。参与国际项目 VAMAS，旨在实现 X 射线反射率测量的标准化。参与计量项目：IND07，薄膜制造计量，欧洲计量研究计划 (EMRP) 联合研究项目，呼吁 2010 工业 (IND)，
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