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µs UV-LA 优势：  单步激活深 p/n 结，载流子分布与植入后 SIMS 分布相匹配  适用于最大 5 µm 的各种分布。  浅层紫外线吸收  与薄晶圆兼容

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SCREEN 激光退火技术

主要关键词

薄晶圆 LA SIMS 载流子适用吸收兼容浅层 UV 植入相匹配单步分布紫外线

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