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K 博士莫汉拉杰
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K 博士莫汉拉杰

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后沉积退火对 PVD ​​制备铜铋硒化物薄膜结构和光电特性的影响 AbiramiMuthukannan、J. Henry、K. Mohanraj、G. Sivakumar、S. Thanikaikarasan 材料科学杂志：电子材料 27 (2016) 9947–9952，DOI 10.1007/s10854-016-5065-5（影响因子 2.220）

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