高频信号传输,低介电常数(D K)和低介电损耗因子(D F)的替代品以取代传统的二氧化硅材料。4 - 6聚酰亚胺(PI)通常被评为合适的候选者,因为其低分子极化性以及出色的热,机械和化学耐药性特征,并且在电信和微电子工业中表现出了理想的前景。7当前,低二型聚合物材料的结构和组成设计主要集中于结构修饰,改进材料制造过程和复合修饰。常规PI的固有介电常数位于约3.5中,但是,通常需要较低的值以最大程度地减少超大尺度集成电路,高频通信天线基板和毫米波雷达的层间介电信号传输的功率耗散和延迟。8 - 11通过减少主链上酰亚胺基团之间的极化,已经研究了许多方法来减少介电常数和PI的介电损失。12 PI聚合物的分子结构在其介电特性中起主要作用。固有偶极矩和
频率选择表面 (FSS) 由周期性排列的一维或二维金属结构组成,由于其频率谐振特性而备受关注。FSS 可以根据其尺寸、形状、厚度和其他参数在特定频率范围内选择性地反射 (带阻) 或透射 (带通) 入射电磁波,这是 FSS 的识别特征。[1] 金属和介电材料结构被广泛用于设计太赫兹 FSS 或滤波器,因为它们具有高机械强度,有助于产生功能化设计。金属 FSS 可以通过反射或吸收电磁干扰来屏蔽,但是,制造所需结构的成本很高,并且正在被碳基材料取代,以获得高频电磁特性,具有合适的成本、重量轻、无腐蚀等特点。[2] 通常,碳基材料以 sp、sp 2 和 sp 3 键合,形成相互连接的碳-碳键的长链,从而产生不同的物理和电性能。 [3] 因此,这类材料可归类为半金属或非电介质材料(如石墨烯、石墨、碳纳米管、碳纳米纤维)[4,5],因此通过在磁场和电场中应用飞秒激光脉冲产生 THz 脉冲,其纳米复合材料可表现出 THz 光跃迁、光电特性和介电特性。[6–11] 由于存在非局域 π 键电子,这些碳基材料表现出优异的 EMI 屏蔽性能。自由移动的电子与电磁波相互作用,导致反射,在共振频率下具有最大回波损耗值。[12] 过多的电磁能量会损坏周围的电路并引起不必要的噪声脉冲。Liang 等人。报道了竹状短碳纤维@Fe3O4@酚醛树脂和蜂窝状短碳纤维@Fe3O4@FeO复合材料作为高性能电磁波吸收材料,在4-18 GHz范围内成功实现了反射损耗-10 dB。[13]然而,在文献中对碳基材料在THz范围内的表征仍然没有很好的解释,关于碳基材料FSS特性的报道很少。最近,一种利用3D打印制造的碳基FSS吸收器
介电封装材料在太阳能电池领域有着广阔的应用前景,但不尽如人意的光管理能力和相对较差的介电性能限制了它们在光伏和微电子器件中的进一步应用。在此,设计了一种界面融合策略来设计MOF(UiO-66-NH 2)与酸酐封端的酰亚胺低聚物(6FDA-TFMB)的界面,并制备了一种具有增强前向散射和稳健孔隙率的新型MOF簇(UFT)。UFT用作双酚A环氧树脂(DGEBA)的光学和介电改性剂,在较低的UFT含量(0.5–1 wt%)下可以制备具有高透光率(> 80%)、可调雾度(45–58%)和优异介电性能的UFT环氧复合材料,这为太阳能电池中具有高效光管理的介电封装系统提供了最佳设计。此外,UFT环氧复合材料还表现出优异的紫外线阻隔、疏水、热和机械性能。这项工作为共价键介导的纳米填料的合成以及用于能源系统、半导体、微电子等的介电封装材料的雾度和介电性能的调节提供了模板。
1 简介 隔离器是一种电子设备,它向控制器传输数字信号,同时还提供电流隔离,为用户界面和低压电路提供安全的电压水平。它们具有广泛的应用,包括工业、汽车、消费和医疗电子产品,每种产品都需要特定的最低隔离水平。隔离的基本形式是由光耦合、电容耦合和磁耦合提供的 [1]。隔离器必须通过多项监管标准才能投放市场。这些标准包括可靠性测试,如耐压和浪涌电压以及高压耐久性 (HVE)。耐压和浪涌电压是相对较快的持续时间测试,但 HVE 可能需要几个月到几年才能完成 [2]。本研究基于对磁耦合隔离器中使用的材料的隔离能力的评估。为了更好地管理隔离器的可靠性测试,最好事先优化组件材料。在这项工作中,我们讨论了加工效应对隔离器中使用的各种材料的影响,并
观测近地环境中的尘埃和碎片是一个具有巨大商业和科学意义的领域,对于最大限度地延长卫星的运行和商业生命周期以及降低日益增多的低地球轨道 (LEO) 宇航员的风险至关重要。为此,监测和评估粒子通量对于航天工业和依赖轨道基础设施数据产品/服务的更广泛的社会经济利益至关重要。我们设计了一种被动式太空尘埃探测器来调查低地球轨道的尘埃环境——轨道尘埃撞击实验 (ODIE)。ODIE 设计用于在低地球轨道部署约 1 年,然后返回地球分析尘埃颗粒产生的撞击特征。该设计强调能够区分与人类太空活动有关的轨道碎片 (OD) 和自然产生的毫米到亚毫米级微流星体 (MM) 群。 ODIE 由多个 Kapton 箔组成,这些箔显示出巨大潜力,可以有效保存撞击粒子的尺寸和化学细节,残留物化学可用于解释来源(OD 与 MM)。LEO 是一个恶劣的环境——原子氧的强烈腐蚀作用会损坏 Kapton 箔——需要使用保护涂层。Kapton 的常见涂层(例如 Al、SiO 2 等)对于后续分析和解释 OD 与 MM 的来源存在问题,因为它们是 MM 或 OD 的常见元素成分,或者 X 射线发射峰与用于区分 MM 与 OD 的元素的峰重叠。因此,我们建议使用钯涂层作为此应用的替代品。在这里,我们报告了钯作为 Kapton 基被动式粉尘探测器的保护涂层在暴露于原子氧和撞击时的性能。当受到撞击时,我们观察到较厚的涂层会受到影响
为了表征有机sem iConductor中的内在电荷传输过程,必须最小化外部效应(例如接触电阻,非理想的污染物和外部污染物)的外在效应的影响。[1–3]半导体介电界面对于电荷传输至关重要,因为陷阱和表面粗糙可以阻止有效的电荷转移。[4,5]虽然表面粗糙度易于表征,例如,使用原子力显微镜(AFM)及其来源很容易识别,但[6]对于电活动陷阱而言,这是高度无琐的。此类陷阱通常与有机场效应晶体管(OFET)中使用的介电的影响有关,因为介电常数和其他内在特性会影响电荷转运。[4,5,7-10]为了减少半导体 - 二元界面处的捕获(例如,水和其他固有或外在陷阱),典型的是,表面是由于使用自组装单层(SAMS)而被钝化的。[11]最近还用本质上惰性的六角硼(H-BN)用作介电,其目标是实现无陷阱界面。[12–14]
摘要:药物化学工具箱的扩展符合药物设计师的切身利益,他们面临着为不断增加的生物靶点空间寻找分子解决方案的任务。然而,即使在药物发现界,创新的传播也可能是一个漫长的过程,因为药物发现界面临着及时为患者制定有效解决方案的巨大压力。沿着这个思路,亚砜亚胺基团的使用在药物化学中达到临界点花了近 70 年的时间。尽管近年来人们对这种多功能功能组的兴趣呈指数级增长,但仍有足够的空间进行进一步的创新应用。这篇小综述重点介绍了药物设计师在药物化学中使用亚砜亚胺基团的新兴趋势和机会,例如在复杂分子的构建、蛋白水解靶向嵌合体 (PROTAC)、抗体-药物偶联物 (ADC) 和用于共价抑制的新型弹头中。
摘要:聚酰亚胺(PI)是一类介电聚合物,用于广泛的电子设备和电气工程应用,从低压微电机到高压隔离。由于其出色的热,电气和机械性能,它们得到了很好的赞赏,每个特性都需要根据最终应用来唯一优化。例如,对于高压应用,必须优化最终的聚合物分解场和介电性能,这两者都取决于固化过程和PI的最终物理化学特性。迄今为止的大多数研究都集中在聚合物的一组有限的特性上,并分析了从物理,机械,机械或以电气为中心的观点来固化的效果。本文试图克服这一点,在同一研究中统一所有这些特征,以准确描述治疗温度对PI性质和工业加工量表的普遍影响。本文报告了同类的最广泛研究对治疗温度对聚酰亚胺的物理化学,机械,热和电气特性的影响,该特性是多酰亚胺,特定的聚乙醇硫酸苯二酚-CO-4、4'-氧基二氨基氨基氨基烷(PMDA/ODA)(PMDA/ODA)。不仅要精确地研究了治疗温度的优化,不仅在iMidation(DOI)方面进行了精确研究,而且还考虑了整个物理特性。尤其是,分析阐明了电荷转移复合物(CTC)在这些特性上的关键作用。低场处的电特性表现出可能是由于DOI引起的最终PI特性的增强。结果表明,尽管随着DOI和CTC的形成,热和机械性能都会改善,但电气特性,尤其是在高场面条件下,随着CTC形成的增加,在较高温度下降解时,拮抗行为会增强DOI。相反,在高电场上,电导率结果显示在中等温度下,强调当在这种平衡的情况下进行热进型过程时,高DOI和PI链之间的理想折衷。此平衡允许具有优化电气性能的PIFIM的最高性能,总体而言,可以实现最佳的热和机械性能。
摘要:癌症已成为全球发病和死亡的主要原因之一。这种疾病大致可按组织、器官和系统进行分类;不同类型的癌症和亚型需要不同的治疗方法。药物的生物利用度、选择性和高剂量以及延长治疗时间与耐药性的产生密切相关——这是癌症治疗中的一个复杂问题。预计抗癌药物和药物输送系统的结合,使用聚合物来增加这些药物进入其作用部位的途径,将提高治疗效果。聚乙烯亚胺 (PEI) 是一种用作抗癌药物和基因治疗的共输送系统的聚合物。PEI 还可用于其他用途,例如转染和生物吸附剂。在共输送中,PEI 可以促进药物内化。然而,高分子量的 PEI 与更高的细胞毒性有关,因此需要进一步评估临床安全性。本综述重点介绍了聚乙烯亚胺作为抗癌治疗共输送系统的用途,以及其克服耐药性的潜力,特别是在治疗特定亚型(例如乳腺癌)方面。总之,聚乙烯亚胺具有广阔的应用前景,可用于开发抗癌药物。关键词:聚乙烯亚胺、聚合物阳离子、共输送系统、癌症、乳腺癌、治疗
关键词:非光定义聚酰亚胺、固化、C&D Track、CascadeTek 烤箱、互连和 GaAs。摘要 化合物半导体行业使用多种材料来制造用于金属互连的层间电介质薄膜。这些材料包括 BCB、聚酰亚胺和硅电介质。在本文中,我们讨论了在 BAE 系统微电子中心 (MEC) 制造工厂的新加工设备上进行的聚酰亚胺薄膜工艺鉴定。这项工作包括对用于聚酰亚胺涂层的新涂层轨道和用于固化聚酰亚胺涂层薄膜的新固化烤箱的鉴定。引言聚酰亚胺薄膜具有低介电常数、高模量和相对较高的热稳定性、化学稳定性和机械稳定性 1, 2 。这些特性使其成为众多半导体和微电子处理应用的有吸引力的候选者。这些应用包括使用聚酰亚胺薄膜作为倒装芯片封装中的钝化层、印刷电路板的基板、多芯片模块沉积电介质封装中的基板、多层金属互连中的电介质夹层等。3 本文讨论了将聚酰亚胺薄膜用于金属互连,因为其介电常数低,可以降低寄生电容。金属互连将集成电路 (IC) 的各个部分电连接起来。互连结构对于现代 IC 制造至关重要。图 1 显示了典型互连结构的横截面。互连由交替的金属层和电介质层制成。这些层经过图案化,形成连接电路 1、2、4 的各个组件的电通路。