奇数碳自由基往往是共振稳定自由基 (RSFR),并被认为能促进燃烧火焰中的 PAH 形成和生长。38,39 人们一致认为,环戊二烯基 (cC 5 H 5 ) 自由基的化学性质在萘和菲的形成中起着重要作用,从而在 PAH 的形成中起着重要作用。1,40–43 尽管如此,环戊二烯基 (cC 5 H 5 ) 及其结构异构体的起源仍然难以捉摸。Gabriel da Silva 通过炔丙基自由基 (C 3 H 3 ) 与乙炔 (C 2 H 2 ) 的反应从头算研究了 C 5 H 5 势能面 (PES)。 44 将乙炔(C 2 H 2 )加到炔丙基自由基(C 3 H 3 )的末端,通过类似的势垒生成初始复合物 1-戊烯-4-炔基(HCCH 2 CCHCH )和 1,3,4-戊三烯基(H 2 CCCHCHCH ),能量约为 59 kJ mol 1
摘要 — 我们报告了使用两种缓冲层用于毫米波应用的超薄(亚 10 nm 势垒厚度)AlN/GaN 异质结构的比较结果:1) 碳掺杂 GaN 高电子迁移率晶体管 (HEMT) 和 2) 双异质结构场效应晶体管 (DHFET)。观察到碳掺杂 HEMT 结构表现出优异的电气特性,最大漏极电流密度 I d 为 1.5 A/mm,外部跨导 G m 为 500 mS/mm,最大振荡频率 f max 为 242 GHz,同时使用 120 nm 的栅极长度。C 掺杂结构在高偏压下提供高频性能和出色的电子限制,可在 40 GHz 下实现最先进的输出功率密度(P OUT = 7 W/mm)和功率附加效率 (PAE) 组合,在脉冲模式下高达 V DS = 25V 时高于 52%。
1. Aiache Youssef。通过相互作用的量子比特探测器进行温度量子传感 2. Aimet Stefan。在量子多体领域实验探测兰道尔原理 3. Barros Nicolas。学习欠阻尼存储器的有效擦除协议 4. Benali Mohamed。腔体中黑洞投射的光轨迹和热阴影 5. Bertin-Johannet Bruno。通过能量过滤接触增加热载流子太阳能电池的提取功率 6. Bossard Elisa。容错无测量位翻转量子存储器的热力学分析 7. Cerisola Federico。由于量子寿命展宽导致的额外擦除成本 8. Chang Derek。多时间量子过程中的信息结构 9. Chowdhury Farhan Tanvir。实现耗散自旋动力学数字量子模拟的挑战 10. Chrirou Chaimae。势垒使量子热电材料具有近乎理想的效率
随着 CMOS 技术缩放即将达到基本极限,对具有较低工作电压的节能器件的需求巨大。负电容场效应晶体管 (NCFET) 具有放大栅极电压的能力,成为未来先进工艺节点的有希望的候选者。基于铁电 (FE) HfO 2 的材料具有令人印象深刻的可扩展性和与 CMOS 工艺的兼容性,显示出将其集成到 NCFET 中以实现纳米级高性能晶体管的可行性。由于引入了 NC 效应,基于 HfO 2 的 NCFET 中的短沟道效应 (SCE) 与已经经过广泛研究的传统器件不同 [1]。具体而言,漏极诱导势垒降低 (DIBL) 在决定 SCE 的严重程度方面起着关键作用,在 NCFET 中表现出相反的行为。尽管人们已认识到施加电压对 NCFET 性能的影响 [ 2 ],但栅极电压扫描范围(V GS 范围)对先进短沟道 NC-FinFET 中的 DIBL 的影响仍然缺乏研究。
拉曼和相干的声子光谱法被用于研究由Si(111)底物上的分子束外跑制备的超薄单晶双膜的厚度依赖性语音性质。A 1G和E G拉曼峰都消失在4 nm BIFM的拉曼光谱中,表明从低对称A7结构到高对称性A17结构的完全过渡。相干的声子信号也显示出对膜厚度的强烈依赖,其中薄样品(15 nm)表现出比厚样品(30 nm)的较低的声子频率和更短的声子寿命。这种差异归因于由永久性相变引起的较浅的能势势垒,永久性相变(由纤维厚度和光激发载体的临时结构过渡决定)。我们的结果不仅提供了从A7到A17结构的相变的证据,其厚度降低,而且还揭示了该相变对声子动力学的影响。了解这些物质性能性状将有助于现代化的电子设备中BI薄片的应用。
通过金属-绝缘体-金属隧道结的非弹性隧穿 (LEIT) 发光是一种超快发射过程。它是在集成电路上实现从电信号到光信号的超快转换的有前途的平台。然而,现有的 LEIT 器件制造程序通常涉及自上而下和自下而上的技术,这降低了它与现代微加工流程的兼容性并限制了其在工业扩大规模中的潜在应用。在这项工作中,我们通过使用原子层沉积生长的多层绝缘体作为隧道屏障来解除这些限制。我们首次完全通过微加工技术制造 LEIT 器件,并在环境条件下表现出稳定的性能。在整个有源区域上观察到均匀的电致发光,发射光谱由金属光栅等离子体形成。在 LEIT 中引入多层绝缘体可以为设计隧道屏障的能带景观提供额外的自由度。所提出的制备稳定的超薄隧道势垒的方案也可能在广泛的集成光电器件中找到一些应用。
纳米级过渡金属三硫属化物如 TiS 3 在基础研究和应用开发方面都表现出巨大的潜力,但它们的自下而上的合成策略尚未实现。在这里,我们探索了 TiS 3 的化学气相沉积 (CVD) 合成,其晶格各向异性使得其能够沿 b 轴优先生长,从而得到长宽比可通过生长温度调节的矩形纳米片或纳米带。所获得的纳米结构在保持与原始半导体 TiS 3 一样的光谱和结构特征的同时,表现出高电导率和超低载流子活化势垒,有望作为纳米级导体。我们的实验和计算结果表明,CVD 生长的 TiS 3 中 S 2 − 2 空位的存在是造成重 n 型掺杂直至简并能级的原因。此外,预计通过用环境中的氧原子钝化 S 2 − 2 空位可以恢复半导体性能。因此,这项工作预示着利用缺陷工程三硫属化物半导体构建纳米级电子器件的诱人可能性。
与谐振子势不同,洗衣板势的能量空间并不相等。这是该系统的一个重要特性,使其成为量子比特的候选者,这一点后面会讨论。图 4 显示了我计算中的势和 4 个最低状态的特征函数。特征函数看起来与谐振子势的特征函数相似。但是,我们可以看到,在状态 2 和状态 3 的函数右边缘,函数不再为零。事实上,由于阱的右势垒不是无限高的(实际上在这种情况下非常低),所以每个状态都必须有一个传输速率(或量子隧穿速率)。从函数草图中,我们可以粗略地看出,状态 2 和 3 的隧穿速率比状态 0 和 1 的隧穿速率大得多。实际上,这种隧穿速率的差异是我们设计具有约瑟夫森结的量子比特的另一个基础。在下一节中,我将计算每个状态的隧穿速率,并解释如何通过量子隧穿来测量这种量子比特的状态。
功能。[1–6] 然而,迄今为止研究的大多数二维磁体的半导体特性都受到其导带和价带极窄宽度的强烈影响,通常为几十 meV 或更小。[7–13] 如此窄的带宽会导致电子局域化并阻碍低温电导率测量,这就是为什么探测二维半导体磁性的传输实验迄今为止仅限于研究穿过原子级薄多层势垒的隧穿。[14–21] CrSBr [22](见图 1a)——一种最近推出的二维磁性半导体——似乎是个例外。[23,24] 第一性原理计算(如图 1b 所示)预测其导带宽度约为 1.5 eV。 [24,25] 因此,可以成功进行低温平面磁阻测量(见图 1c、d),并通过分析确定磁相图。[23] 这种材料的独特磁性能通过范德华 (vdW) 界面实验得到进一步展示,其中发现 CrSBr 在相邻的石墨烯层中留下了巨大的交换相互作用,比早期在类似异质结构研究中报道的要强得多。[26]
层状过渡金属硫族化物是电子 Weyl 节点和拓扑超导的有希望的宿主。MoTe 2 是一个引人注目的例子,它同时包含非中心对称 T d 和中心对称 T ' 相,这两种相都被认为是拓扑上非平凡的。施加的压力会将这些相分离的结构转变调整到零温度,从而稳定混合的 T d – T ' 矩阵,该矩阵包含两个非平凡拓扑相之间的界面网络。本文中,我们表明,这一临界压力范围以不同的相干量子振荡为特征,表明拓扑非平凡 T d 和 T ' 相之间的拓扑差异产生了一种新兴的电子结构:拓扑界面网络。拓扑非平凡电子结构和锁定变换势垒的罕见组合导致了这种违反直觉的情况,其中可以在结构不均匀的材料中观察到量子振荡。这些结果进一步开启了稳定多种拓扑相与超导共存的可能性。