XiaoMi-AI文件搜索系统
World File Search SystemFWHM
多体素神经强化改变威胁调节网络内的静息状态功能连接
图 1. 神经强化干预总结（有关更多详细信息，请参阅 Taschereau-Dumouchel、Cortese 等人，2018 年）。A）一次多体素神经强化试验中的事件序列。在诱导期间，大脑活动在线处理并使用目标动物的多体素表示进行解码。此过程为我们提供了以视觉方式显示给参与者的激活可能性。B）目标动物的代表性多体素解码器（体素权重已标准化并略微平滑（FWHM = 1 毫米）以方便解释）。这些体素被用作种子区域（我们称之为腹侧颞叶皮层），以确定干预后它们的连接性变化（大脑图像是使用 pySurfer [ https://pysurfer.github.io/ ] 生成的）C）自述对我们数据库中至少 2 只动物感到恐惧的参与者参加了神经强化实验。我们使用了机器学习和一种称为超对齐的方法（Haxby 等人，2011）来确定恐惧动物（即解码器）的多体素表示。然后将恐惧动物类别随机分配为干预的目标或控制条件。参与者完成了在不同日子进行的五次神经强化课程。在干预之前和之后，参与者完成了静息状态课程，并向他们展示了他们害怕的两种动物的图像（即恐惧测试）。在这些课程中，参与者被要求报告他们对所呈现动物的主观恐惧（大脑图像是使用 Pycortex [Gao 等人，2015] 生成的）。
激光技术在量子信息科学中的应用
实验物理学的科学进步不可避免地依赖于基础技术的不断进步。激光技术可以实现受控的相干和耗散原子光相互作用，而微光学技术则可以实现标准光学无法实现的多功能光学系统。本论文报告了这两项技术的重要进展，目标应用范围从里德堡态介导的量子模拟和光镊阵列中单个原子的计算到高电荷离子的高分辨率光谱。报告了激光技术的广泛进展：通过引入机械可调透镜支架，外腔二极管激光系统的长期稳定性和可维护性得到显著改善。开发了基于类似透镜支架的锥形放大器模块。二极管激光系统由数字控制器补充，用于稳定激光频率和强度。控制器提供高达 1.25 MHz 的带宽和由商业 STEMlab 平台设定的噪声性能。此外，还开发了针对强度稳定和 Pound-Drever-Hall 频率稳定进行优化的散粒噪声受限光电探测器以及用于 MHz 范围拍音的光纤探测器。通过分析用于波长为 780 nm 的 85 Rb 激光冷却的激光系统的性能，证明了所提出技术的能力。参考激光系统稳定到由调制传输光谱提供的光谱参考。分析该光谱方案以发现高调制指数下的最佳操作。使用紧凑且经济高效的模块产生合适的信号。实现了一种基于光学锁相环的激光偏移频率稳定方案。来自参考激光系统的所有频率锁定均提供 60 kHz（FWHM）的 Lorentzian 线宽以及 10 天内 130 kHz 峰峰值的长期稳定性。基于声光调制器与数字控制器相结合的强度稳定允许在微秒时间尺度上进行实时强度控制，并辅以响应时间为 150 纳秒的采样保持功能。对激光系统的光谱特性提出了很高的要求，以实现量子态的相干激发。在本论文中，通过引入一种用于二极管激光器的新型电流调制技术来增强主动频率稳定的性能。实现了从 DC 到 100 MHz 的平坦响应和低于 90 ◦ 的相位滞后，最高可达 25 MHz，从而扩展了可用于激光频率稳定的带宽。将该技术与快速比例微分控制器相结合，实现了两个激光场，相对相位噪声为 42 mrad rms，用于驱动铷基态跃迁。通过双光子方案进行相干里德堡激发的激光系统通过从 960 nm 倍频提供 780 nm 和 480 nm 的光。从单模光纤获得的 480 nm 输出功率为 0.6 W。两个激光系统的频率都稳定在高精细度参考腔中，导致 960 nm 处的线宽为 1.02 kHz（FWHM）。数值模拟量化了有限线宽对里德堡拉比振荡相干性的影响。开发了一种类似于 480 nm 里德堡系统的激光系统，用于高电荷铋的光谱分析。先进的光学技术也是微光学镊子阵列的核心，它提供了前所未有的系统尺寸可扩展性。通过使用优化的透镜系统与自动评估程序相结合，演示了具有数千个点且阱腰小于 1 µm 的镊子阵列。使用增材制造工艺生产的微透镜阵列实现了类似的性能。微透镜设计针对制造工艺进行了优化。此外，还分析了由于抑制谐振光导致的偶极阱散射率，证明了使用锥形放大器系统生成偶极阱的可行性。
FMRI 血流动力学反应功能 (HRF) 作为脑功能的新标记：用于理解强迫症病理和治疗反应的应用
血流动力学反应函数 (HRF) 表示将神经活动与功能性磁共振成像 (fMRI) 信号联系起来的传递函数，用于对神经血管耦合进行建模。由于 HRF 受非神经因素的影响，迄今为止，它在很大程度上被视为混杂因素，或在许多分析中被忽略。然而，潜在的生物物理学表明 HRF 可能包含有意义的神经活动关联，而这些关联可能无法通过传统的 fMRI 指标获得。在这里，我们通过对 25 名健康对照者（扫描两次）和 44 名强迫症 (OCD) 成人（接受 4 周强化认知行为疗法 (CBT) 之前和之后）的纵向样本的静息态 fMRI 数据进行反卷积来估计 HRF。在包括尾状核在内的区域中，OCD 的 HRF 反应高度、达峰时间和半峰全宽 (FWHM) 在治疗前异常，治疗后恢复正常。使用机器学习，治疗前 HRF 预测治疗结果（OCD 症状减轻）的准确率为 86.4%。治疗前尾状核头部的 HRF 反应高度和尾状核尾部的峰值时间是治疗反应的主要预测因素。尾状核尾部的峰值时间可能具有新的重要性，而尾状核尾部是使用传统 fMRI 激活或连接测量方法在强迫症研究中通常不会识别的区域。此外，尾状核头部的反应高度可预测治疗后的强迫症严重程度（R=-0.48，P=0.001），并与治疗相关的强迫症严重程度变化相关（R=-0.44，P=0.0028），强调了其相关性。由于 HRF 是一种对大脑功能、强迫症病理和干预相关变化敏感的可靠标记，这些结果可以指导未来的研究，找到通过传统 fMRI 方法（如标准 BOLD 激活或连接）无法实现的新发现。
au-mxene使用的脑发电器
摘要 - 在这项工作中，提出了嵌入矩形开放通道（ROC）的表面等离激子共振（SPR）等离子光子晶体纤维（PCF）生物传感器，从而实现了健康和肿瘤的脑组织之间的精确检测和歧视。健康和肿瘤组织被认为是液体组织，每个组织都有其自身独特的折射率（RI）。将ROC涂有金（AU）以生成表面等离子体。为了促进足够的生物分子，薄的Ti 3 C 2 Tx-Mxene层在金上官能化。在ROC表面上涂有薄TIO 2层，以强烈保留Au纳米颗粒，以确保提高感应性能。健康，癌性和肿瘤组织样品表现出独特的共振波长，可以通过测量各自共振波长的变化来诊断它们。评估了基本的性能参数，包括灵敏度，最大（FWHM）和功绩（FOM）的全宽度。对正常组织和异常组织的计算敏感性，即灰质，脑脊液和少突胶质瘤的敏感性为12352.94 nm/riU，2030.45 nm/riU，以及672.26 nm/riu，相对于白色物质和固体脑的壁架测量。，对于肿瘤组织（癌和肿瘤），例如胶质母细胞瘤，淋巴瘤和转移，敏感性为800 nm/riU，774.9 nm/riU和643.26 nm/riU，与低级Glioma（Benignign）一起测量。此外，拟议的生物传感器的分辨率（R）范围为𝟏。𝟐𝟓×𝟏𝟎−𝟒至𝟖。𝟎𝟗×𝟏𝟎 -𝟔riU，最大FOM为126.05 riU -1。因此，该生物传感器有望在检测肿瘤和癌症组织方面表现出色，使其成为推进医学诊断的有前途的候选人。
杂次la- ...
宽带间隙（WBG）碱性晶酸盐透明氧化物半导体（TOSS）近年来引起了越来越多的关注，因为它们的高载流子迁移率和出色的光电特性，这些特性已应用于诸如Flat-Panel显示器等广泛的应用。然而，大多数碱性地球酸盐是由分子束外延（MBE）生长的，有关锡源的问题存在一些棘手的问题，包括带有SNO和SN源的波动性以及SNO 2源的分解。相反，原子层沉积（ALD）是具有精确的化学计量控制和原子尺度上可调厚度的复杂stannate钙钛矿生长的理想技术。在此，我们报告了la-srsno 3 /batio 3 perovskite异质结构异质集成在SI（001）上，该结构使用ALD种植的La掺杂的Srsno 3（LSSO）作为通道材料，并用作MBE生长的Batio 3（BTO）作为介电材料。反射性高能电子衍射和X射线衍射结果表明每个外延层的结晶度为0.62，全宽度最高（FWHM）。原位X射线光电子光谱结果证实，ALD沉积LSSO中没有SN 0状态。这项工作扩展了当前的优化方法，用于减少外在LSSO/BTO钙钛矿异质结构中的缺陷，并表明过量的氧气退火是增强LSSO/BTO异质结构的电容性能的强大工具。Besides, we report a strategy for the post-treatment of LSSO/BTO perovskite heterostructures by controlling the oxygen annealing temperature and time, with a maximum oxide capacitance C ox = 0.31 μF/cm 2 and a minimum low- frequency dispersion for the devices with 7 h oxygen annealing at 400 C. The enhancement of capacitance properties is primarily attributed to a在额外的异位过量氧气退火过程中，膜中氧空位的减少和异质结构界面中的界面缺陷。
ESA F-MESIONESA F-MESION
“分析已解决的积聚星系作为光晕调查的关键工具”（Arrakihs）任务将在每年的天空中成像50个平方度，直至前所未有的超低表面亮度（SB），同时在两个可见的频段中（HST F475X：380至630 NM和EUCLID NM和EUCLID）同时使用带（Euclid Y：920至1230 nm和Euclid J：1169至1590 nm）。这些图像将使我们能够解决λ-Cold暗物质（λCDM）宇宙学模型中的重大问题。尤其是，如果我们的宇宙中的暗物质与标准λCDM一样偏离了冷和无碰撞模型，那么预计卫星质量功能，卫星合并率以及在矮人星系周围出现的恒星流的普遍性将受到极大的抑制。由于广泛的视野调查，由于大气背景，很难从地面上实现到极低的SB限制，因此无法进行这些观察测试。相反，Arrakihs将在低地轨道上的迷你卫星上使用创新的双眼望远镜组件。这项调查将导致超低SB SB外层流图像的第一目录，以提供一个体积有限的和质量有限的星系样品，例如附近宇宙中的银河系。Arrakihs任务的定义和独特特征是，它将这些系统成像为前所未有的表面亮度，在31 mag /arcsecond 2中，在可见波长中分辨率为0.8 ARCSEC（FWHM），并在近距离Indrrrrrared中以1.25 Arcsec（FWHM）分辨率为30 mag /arcsecond 2。Arrakihs完全符合ESA的“宇宙视野”科学重点。Arrakihs任务利用具有高技术准备水平（TRL）的空间示威技术以非常低的风险姿势进入开发。首先，Arrakihs将使用双眼ISIM-170相机，该相机已经在太空中进行了验证，并成功证明了适用于SmallSats的最佳图像质量和空间分辨率。Arrakihs任务所需的检测器升级也基于适合飞行的技术。扩展的曝光将需要基于已经开发的相同技术（提高要求）的指向稳定升级，并为Euclid和Cheops任务开发了稳定升级。有效载荷和检测器冷却技术解决方案的热机械稳定性也是从已经为Euclid和Cheops任务开发的类似解决方案中借用的。ISIM-170摄像机可以安装在几个迷你 - 卫星平台上，这些平台很容易根据当前在低地轨道（LEO）中运行的成功版本进行调整。最后，由Arrakihs联盟进行的最新模拟对我们技术达到超低SB水平的能力和成功完成Arrakihs任务的科学目标所需的高空间分辨率的能力非常高度。特别是，Arrakihs将在“宇宙愿景”计划的核心的四个关键问题中提高我们的知识：“宇宙的基本物理定律是什么？”和“宇宙是如何产生的，它是什么？”此外，Arrakihs将补充新一代的巨型基础和空间观测站。JWST将在最高红移时观察星系形成和进化的最早阶段。鲁宾天文台，罗马和欧几里得将在中间和高红移时为数百万星系提供图像和光谱。arrakihs将通过开创了超低SB的附近宇宙的前所未有的系统探索，并以极佳的空间分辨率从可见的波长到红外波长来补充对遥远宇宙的这些深入的广泛观察。总而言之，ESA的F-Mession计划提供了一个独特的机会，可以在短时间内使用太空传播平台进行引人注目的科学，并具有负担得起的预算。因此，我们设计了具有三个定义特征的Arrakihs任务：1。Arrakihs使命是科学，其重点是对我们对现代宇宙中现有紧张局势的理解产生重大影响的巨大潜力。Arrakihs任务的核心 - 对未开发的超低SB宇宙的观察，只能由于由于大气而引起的基于地面的SB敏感性的局限性才能完成。由于该任务的科学目标需要在〜1 ARCSEC分辨率的非常宽的区域中实现非常低的SB，因此无需大型光圈摄像头。相反，最佳有效载荷是一台小型的多光谱摄像头，在广阔的视野中具有出色的光学质量。
卵子研究杂志。 20，第2号，2024年3月至4月，第2页。 221-232拉曼光谱ST
卵子研究杂志。20，编号2，2024年3月 - 第2页。 221-232关于石墨烯氧化石墨烯的振动和结构变化的拉曼光谱研究：激光和时间的影响S. Yadav A，S。K. Padhi B，Ch。 Srinivasulu C，K。L. Naidu A，* A GSS，GSS，Gitam（被视为大学）的物理学系，Visakhapatnam，530045，印度B物理系，都灵大学，Via。 P. Giuria 1-710125都灵，意大利。 C HYDERABAD大学海得拉巴大学500046的物理学学院。 氧化石墨烯及其纳米复合材料在各种应用中起着至关重要的作用。 激光辐照是一种低成本技术，可调整石墨烯氧化物材料，并且需要对激光 - 晶烯氧化物相互作用期间对振动模式和结构变化进行详细研究。 在不同的激光功率和不同的暴露时间持续时间（通过拉曼光谱）分别在本研究中感兴趣的是在不同的激光功率和不同的暴露时间持续时间以不同的激光功率和不同的暴露时间持续时间的变化。 氧化石墨烯（GO）通过改进的悍马方法合成，并以X射线衍射（XRD），热重分析（TGA），现场发射扫描电子显微镜（FE- SEM），能量分散X射线分析（EDX），UV-VIS-NIR和RAMAN和RAMAN和RAMAN和RAMAN EXPECTRROSCOPY进行合成。 GO的一阶拉曼频谱分别由1350和1584 cm -1的宽D和G峰组成，大约在2700 cm -1左右。 使用Lorentzian函数，将一阶频带变形为五个模式，将第二阶带分为四个模式。 这些模式的峰位置和FWHM经历了指示性变化。2，2024年3月 - 第2页。 221-232关于石墨烯氧化石墨烯的振动和结构变化的拉曼光谱研究：激光和时间的影响S. Yadav A，S。K. Padhi B，Ch。Srinivasulu C，K。L. Naidu A，* A GSS，GSS，Gitam（被视为大学）的物理学系，Visakhapatnam，530045，印度B物理系，都灵大学，Via。P. Giuria 1-710125都灵，意大利。C HYDERABAD大学海得拉巴大学500046的物理学学院。 氧化石墨烯及其纳米复合材料在各种应用中起着至关重要的作用。 激光辐照是一种低成本技术，可调整石墨烯氧化物材料，并且需要对激光 - 晶烯氧化物相互作用期间对振动模式和结构变化进行详细研究。 在不同的激光功率和不同的暴露时间持续时间（通过拉曼光谱）分别在本研究中感兴趣的是在不同的激光功率和不同的暴露时间持续时间以不同的激光功率和不同的暴露时间持续时间的变化。 氧化石墨烯（GO）通过改进的悍马方法合成，并以X射线衍射（XRD），热重分析（TGA），现场发射扫描电子显微镜（FE- SEM），能量分散X射线分析（EDX），UV-VIS-NIR和RAMAN和RAMAN和RAMAN和RAMAN EXPECTRROSCOPY进行合成。 GO的一阶拉曼频谱分别由1350和1584 cm -1的宽D和G峰组成，大约在2700 cm -1左右。 使用Lorentzian函数，将一阶频带变形为五个模式，将第二阶带分为四个模式。 这些模式的峰位置和FWHM经历了指示性变化。C HYDERABAD大学海得拉巴大学500046的物理学学院。氧化石墨烯及其纳米复合材料在各种应用中起着至关重要的作用。激光辐照是一种低成本技术，可调整石墨烯氧化物材料，并且需要对激光 - 晶烯氧化物相互作用期间对振动模式和结构变化进行详细研究。在不同的激光功率和不同的暴露时间持续时间（通过拉曼光谱）分别在本研究中感兴趣的是在不同的激光功率和不同的暴露时间持续时间以不同的激光功率和不同的暴露时间持续时间的变化。氧化石墨烯（GO）通过改进的悍马方法合成，并以X射线衍射（XRD），热重分析（TGA），现场发射扫描电子显微镜（FE- SEM），能量分散X射线分析（EDX），UV-VIS-NIR和RAMAN和RAMAN和RAMAN和RAMAN EXPECTRROSCOPY进行合成。GO的一阶拉曼频谱分别由1350和1584 cm -1的宽D和G峰组成，大约在2700 cm -1左右。使用Lorentzian函数，将一阶频带变形为五个模式，将第二阶带分为四个模式。这些模式的峰位置和FWHM经历了指示性变化。在不同暴露时间持续时间内具有激光功率的缺陷模式的强度比和（𝐷𝐷𝑖𝑖𝑖𝑖𝑖𝑖' - 𝐺𝐺𝐺𝐺）的变化分别表明边缘缺陷和氧化石墨烯的降低。这些结果扩大了对不同时间持续时间激光功率对氧化石墨烯特征的影响的理解。我们的研究提供了有关激光互动的定量信息。（2024年1月21日收到； 2024年4月8日接受）关键词：氧化石墨烯，缺陷，激光功率，拉曼光谱，平面内晶体大小（L a）1。简介氧化石墨烯是一种二维官能化透明岩片，含有连接在边缘和基础平面的功能分子的氧。氧化石墨烯已被广泛用于电化学超级电容器[1]，生物医学[2]，传感器[3]，现场效应晶体管（FET）[4]，燃料电池[5]，锂电池[6]，Polymer nanocomososes [7]。不同的方法，包括化学，热，水热，电化学和光化学还原，以减少官能团以实现石墨烯样结构，众所周知的石墨烯氧化石墨烯。通过去除不稳定的C = O键[8] Raman Spectroscoppy Analysis是一种非损害工具，可以从频谱参数中获得有关缺陷和疾病的知识，从而通过去除不稳定的C = O键来精确调整和量身定制缺陷[8]，对缺陷进行了精确调整和剪裁，从而，对缺陷进行了精确调整和剪裁。通常，G波段是石墨烯片的特征，而D波段随着石墨烯片中的缺陷和疾病的增加而演变。通过对X射线衍射模式或样品的X射线光电光谱进行相应分析来量化拉曼光谱的变化来开发结构光谱相关性[9-11]。氧化石墨烯的拉曼光谱包含一阶带，其特征峰约为1350（D波段）和1580 cm -1（g波段），而在2700 cm -1左右的宽二阶频带。
基于多环杂硼烷多共振延迟荧光发射体实现极致窄带和超纯蓝色有机发光二极管
电视、智能手机和平板电脑等新兴设备正成为人们日常生活的一部分。2012 年，国际电信联盟无线电通信部门 (ITU-R) 为超高清显示器推荐了一种新的色域标准，称为 BT.2020（或 Rec.2020）。[1] 采用 Rec.2020 色域可以精细地再现自然界中的几乎所有颜色，这些颜色基于红、绿、蓝 (RGB) 三原色，国际照明委员会 (CIE) 色度坐标分别为 (0.708, 0.292)、(0.170, 0.797) 和 (0.131, 0.046)。在这种需求的驱动下，开发能够显示具有极窄发射光谱带宽和高效率的单色 RGB 颜色的新型发光材料和装置是一项至关重要的挑战。有机发光二极管 (OLED) 因其广泛的研究和开发目前被视为 UHD 显示器的主流技术。[2–8] 在过去的二十年里，随着新发光机制的出现，OLED 的效率得到了显著提高，特别是磷光 [5,8,9]（第二代）和热激活延迟荧光 [7,10,11]（TADF，第三代），这些机制使电子到光子转换的内部量子效率达到 ≈ 100%。尽管电致发光 (EL) 效率如此之高，但大多数传统 OLED 都存在宽带发射光谱的问题，半峰全宽 (FWHM) 通常为 > 50 nm 或更宽，从而导致 EL 的色纯度低。因此，在商用 OLED 显示器中，需要使用额外的彩色滤光片来选择性地透射原色，这不可避免地会导致光提取率下降，并导致器件的外部 EL 量子效率 (EQE) 降低。从器件的功耗角度来看，这种情况也是不利的。最近，以稠合多环 π 体系为特征的多共振诱导 TADF (MR-TADF) [12–24] 材料已成为克服传统 OLED 缺点的有机发射体的新范例，引发了研究兴趣的激增。事实上，与最先进的无机 LED 和量子点 LED 的情况一样，采用有机硼 MR-TADF 发射体的 OLED 已经实现了高效的窄带 EL
光伏
图18。（a）化学计量对Ag a bi a bi b i a+3b化合物的结构的影响，（b）BII 3，（c）AGBII 4（缺陷型旋转结构）和（d）AGBII 4（CDCL 2-type结构）的碘化物亚晶格。化合物中化合物的晶体结构。经过国际材料评论的许可，69（1），（2024）。[139]版权所有©2024，Sage Publications。................................................................................................ 50 Figure 19. a) Device layout of AgBiI 4 PV cell and b) schematic of cell preparation needed before electrode deposition with grey area being untouched thin film layers and white area being area to be scratched off c) mask for gold electrode deposition (white area is area of deposition) ...........................................................................................................................................................................................雏菊1.0的工作流程。这些图像是预处理的，用于图像分析，然后使用Harris Kepoint检测到用于识别图像中缺陷的存在的模型将缺陷分类为缺陷。....................... 68 Figure 21.雏菊2.0工作流程。给出了雏菊1.0标记为“无缺陷”的图像被赋予谷物面膜以计算平均晶粒尺寸。标记为“缺陷”的图像被赋予缺陷面罩，以计算缺陷覆盖范围百分比和谷物面罩。在XRD模式A）CS 3 Bi 2 Br 3 I 6 B）CS 3 Bisbbr 3 I 6和C）CS 3 SB 2 BR 3 I 6，使用PAWLEY方法拟合。The residuals and agreement indices are shown ........................................................................................................ 76 Figure 23.XRD模式。显示了残差和协议指数。............................... 77 Figure 24.XRD拟合A）CS 3 BI 2 I 9 B）CS 3 BI 2 BR 9 C）CS 3 SB 2 I 9和D）CS 3 SB 2 BR 9反对2D。0D, 2D and 0D reference patterns respectively add goodness of fit ............................................................................................................ 78 Figure 25.a）cs 3 bi 2 i 9沿投影载体[006]，b）cs 3 bi 2 br 9沿投影矢量[201]，c）cs 3 sb 2 i 9沿投影矢量[004]和d）cs 3 sb 2 cs 3 sb 2 br 9沿投影矢量[003]a）cs 3 bi 2 I 9，b）cs 3 bi 2 br 9，c）cs 3 sb 2 i 9和d）cs 3 sb 2 br 9 ...................................................................................... 80图27。（a）CS 3 B 2 x 9系列的吸光度光谱从UV VIS和PS数据编辑，以及（b）Tauc图....... 82图28。pl衰变光谱在a）5.5k，b）40k，c）150k和d）300K pl衰变光谱，从0-40ns以5NS间隔从0-40NS开始。 在 agbii 4的XRD拟合，用于a）r3̅MH参考和b）fd3̅m参考。pl衰变光谱，从0-40ns以5NS间隔从0-40NS开始。在agbii 4的XRD拟合，用于a）r3̅MH参考和b）fd3̅m参考。pl衰变光谱在a）5.5k，b）40k，c）150k和d）300k pl衰变光谱，从0-40ns以5NS间隔为0-40NS。 在 pl衰变动力学在不同温度的a）cs 3 bi 2 i 9，b）cs 3 sb 2 i 9和cs 3 bi 2 i 9和cs 3 sb 2 i 9的cs 3 sb 2 i 9和c）合并为比较。 ..................................................................................................................................... 86 Figure 31. CS 3 Bi 2 I 9（顶部）和CS 3 SB 2 I 9（底部）的PL的依赖性依赖 PL peak wavelength vs temperature of a) Cs 3 Bi 2 I 9 and b) Cs 3 Sb 2 I 9 and the FWHM vs temperature plot of c) Cs 3 Bi 2 I 9 and d) Cs 3 Sb 2 I 9 .................................................................................................................................. 87 Figure 33. TA Spectra of a)b) Cs 3 Bi 2 I 9 , c)d) Cs 3 Sb 2 I 9 and e)f) Cs 3 Bi 2 Br 9 taken with 350 nm pump wavelength and 100 μW fluence .................................................................................................................................................... 88 Figure 34. ta动力学比较a）cs 3 bi 2 i 9，b）cs 3 bi 2 i 9，c）cs 3 sb 2 i 9，d）cs 3 sb 2 i 9和e）cs 3 sb 2 i 9和e）cs 3 bi 2 br 9 bi 2 br 9 ........................................... 35。 ....................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................... 94图36。pl衰变光谱，从0-40ns以5NS间隔为0-40NS。在pl衰变动力学在不同温度的a）cs 3 bi 2 i 9，b）cs 3 sb 2 i 9和cs 3 bi 2 i 9和cs 3 sb 2 i 9的cs 3 sb 2 i 9和c）合并为比较。..................................................................................................................................... 86 Figure 31.CS 3 Bi 2 I 9（顶部）和CS 3 SB 2 I 9（底部）的PL的依赖性依赖PL peak wavelength vs temperature of a) Cs 3 Bi 2 I 9 and b) Cs 3 Sb 2 I 9 and the FWHM vs temperature plot of c) Cs 3 Bi 2 I 9 and d) Cs 3 Sb 2 I 9 .................................................................................................................................. 87 Figure 33.TA Spectra of a)b) Cs 3 Bi 2 I 9 , c)d) Cs 3 Sb 2 I 9 and e)f) Cs 3 Bi 2 Br 9 taken with 350 nm pump wavelength and 100 μW fluence .................................................................................................................................................... 88 Figure 34.ta动力学比较a）cs 3 bi 2 i 9，b）cs 3 bi 2 i 9，c）cs 3 sb 2 i 9，d）cs 3 sb 2 i 9和e）cs 3 sb 2 i 9和e）cs 3 bi 2 br 9 bi 2 br 9 ........................................... 35。....................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................... 94图36。sem agbii 4 a）在合成的当天未涂层，b）合成后23天未涂层，c）在合成当天与螺旋罗涂有螺旋罗，而d）d）在合成后23天与spiro涂层。.................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................XRD of a) uncoated AgBiI 4 left in ambient air b) AgBiI 4 coated with spiro-OMeTAD left in ambient air .............................................................................................................................................................................. 95 Figure 38.. SEM images of AgBiI 4 synthesized with hot-casting method at a) 100 ᵒC b）110ᵒC，c）120ᵒC，d）130ᵒC，e）140ᵒC和f）150ᵒC。The temperatures specified are the set temperature of the hotpate for both the substrate and precursor solution prior to spin coating ........................................................................................ 97 Figure 39.用热铸造方法合成的Agbii 4的SEM图像，标记的温度是旋转涂层之前的底物和前体溶液的热板的温度。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。。agbii 4的SEM图像在110°C时以22s的抗可溶性滴注在110°C时合成。a）未使用反溶剂，b）氯苯，c）IPA，d）甲苯........................................................................................................................................................................................................................................................................................................................................... 99图41.sem的Agbii 4的图像，在110°C下合成了DMSO与DMF的比例为A）1：1 B）1：1 B）1 B）1 B）1 B）1 B）1 B）1 B）1：1 22S C）3：1 d）3：1 D）3：1 D）3：1 D）在22s e）5：1 f）5：1 f）5：1 f）10：1 f）10：1 f）at 22：1 f）at 22：1 g） chlorobenzene dripping at 22s i) pure DMSO and j) pure DMSO with chlorobenzene dripping at 22s ........................................................................................................ 100sem的Agbii 4的图像，在110°C下合成了DMSO与DMF的比例为A）1：1 B）1：1 B）1 B）1 B）1 B）1 B）1 B）1 B）1：1 22S C）3：1 d）3：1 D）3：1 D）3：1 D）在22s e）5：1 f）5：1 f）5：1 f）10：1 f）10：1 f）at 22：1 f）at 22：1 g） chlorobenzene dripping at 22s i) pure DMSO and j) pure DMSO with chlorobenzene dripping at 22s ........................................................................................................ 100