对语言模型(LMS)的自我监督培训(LMS)在学习有意义的表述和生成药物设计方面已经取得了巨大的成功。大多数蛋白质LMS都基于对具有短上下文长度的独立蛋白质训练的变压器结构。这种蛋白质LMS不能很好地推断出更长的蛋白质和蛋白质复合物。他们也无法说明生物分子相互作用和动力学所实现的不明显的生物学机制,即蛋白经常与复杂生物系统中其他蛋白质,分子和途径相互作用。在这项工作中,我们提出了基于选择性的结构化状态空间模型的替代蛋白LM体系结构Bimamba-S的LC-PLM,以使用掩盖的语言模型来学习氨基酸级的高质量通用蛋白质表示。我们还介绍了其图形上下文变体LC-PLM-G,该变体将蛋白质 - 蛋白质相互作用(PPI)图上下文进行了训练的第二阶段。LC-PLM表现出比较有利的神经缩放定律,更好的外推能力,而下游蛋白质任务的提高了7%至34%。LC-PLM-G在PPI图的背景下进一步训练了蛋白质结构和功能预测任务的有希望的结果。我们的研究证明了通过计算有效的LM体系结构增加上下文大小的好处(例如结构化状态空间模型)在学习通用蛋白质表示并结合了生物图中包含的分子相互作用环境中。
作为迅速扩展的2D材料家族,MXENES最近引起了人们的关注。通过开发一种涂层方法,该方法可实现无传输和逐层膜涂层,研究了Ti 3 C 2 t x mxeneFim的非线性光吸收(NOA)。使用Z扫描技术,MXENEFILM的NOA在≈800nm处的特征。结果表明,随着层数从5增加到30的增加,从反向吸收吸收(RSA)转变为可饱和吸收(SA)。值得注意的是,非线性吸收系数的β变化从≈7.1310 2 cm GW 1到在此范围内的2.69 10 2 cm GW 1。也表征了MXENEFIM的功率依赖性NOA,并且观察到β的趋势下降以增加激光强度。最后,在≈1550nm处的2D mxene纤维的NOA的特征是将它们整合到氮化硅波导上,在其中观察到薄膜的SA行为,包括5和10层MXENE,与在≈800nm处观察到的RSA相反。这些结果揭示了2D MXENEFM的有趣的非线性光学性质,突出了它们的多功能性和实现高性能非线性光子设备的潜力。
乳杆菌因其益生菌的好处而被广泛认可,并已广泛用于食品生产中。虽然生物膜通常与致病细菌有关,但它们也充当了不利环境中微生物形成的自我保护机制。近年来,相关研究揭示了乳杆菌生物膜的出色特征,为其在食品行业中的潜在应用提供了新的见解。生物膜乳酸杆菌在改善发酵过程和在各种条件下增强乳杆菌的弹性很重要。本文回顾了法规传感如何调节生物膜的形成,并探讨了它们在压力抗性,细菌和粮食生产中的作用。此外,它突出了通过生物膜技术开发的第四代益生菌的新兴概念,作为一种新型的益生菌应用方法。
利用三维受限磁控溅射源 (L-3DMS) 在低于 100 C 的温度下成功沉积了超薄锡掺杂结晶氧化铟 (ITO) 薄膜 (≤ 50 nm)。在低处理温度下沉积的超薄 ITO 薄膜的电阻率和迁移率分别约为 ∼ 5 × 10 − 4 · cm 和 > 30 cm 2 /Vs (厚度为 30 nm)。据信,利用 L-3DMS 沉积的超薄 ITO 薄膜的高质量与 L-3DMS 的高密度等离子体和低放电电压改善了 ITO 薄膜的结晶度和氧空位有关,这使得能够在低处理温度下形成晶体结构。关键词:透明导电氧化物 (TCO)、3-D 受限磁控溅射、ITO 薄膜、高等离子体密度、晶体结构、低温。
基于其他领域的成功,基因组学的语言模型(LMS)迅速发展。这一发展的关键是建立适当的基准和系统评估方法。到目前为止提出的基准标记集中在依赖短范围序列上下文的任务上,而缺乏对基因组学不可或缺的远程任务的模型的评估,例如基因表达和遗传变异预测。在这项工作中,我们提出了一个填补这一需求并介绍基因组学长期基准测试的基准测试,这是一种评估工具,旨在涵盖需要长期序列依赖性的任务,这对于DNA语言模型的基因组应用至关重要。除了将相关任务明确定义和组织相关的任务外,我们还提供了对拟议基准进行评估的几种突出和最近的DNA LMS的初步结果。最后,我们通过探索评估的DNA LMS之一核苷酸变压器的上下文长度扩展方法的效果来探测基准中的任务。通过提出这种基准测试,我们希望刺激DNA LM的持续发展,并为未来的发展提供富有成果的测试场,旨在捕获基因组学中的远程序列建模。
taas是第一个实验发现的Weyl半分材料,由于其高载流子迁移率,高各向异性,非磁性特性以及与光的强烈相互作用,引起了很多关注。这些使其成为研究量子计算,热电设备和光电检测中Weyl Fermions和应用的理想候选者。迫切需要进行进一步的基本物理研究和潜在的应用,大尺寸和高质量的TAAS漏洞。然而,由于AS在生长过程中的挥发,生长出色的taas纤维很难。为了解决这个问题,我们尝试使用脉冲激光沉积(PLD)使用具有不同AS化学计量比的靶标在不同底物上生长TAAS漏洞。在这项工作中,我们发现在生长过程中,部分作为GAAS底物的离子可能会扩散到TAAS纤维中,这是由结构表征,表面地形和组成分析最初确认的。结果,提高了TAAS纤维中的AS含量,并实现了TAAS相。我们的工作提出了一种使用PLD制造TAAS漏洞的有效方法,从而使Weyl SemimetalFim可以用于功能设备。
在硅(SI)和氮化硅(SIN)基于光子整合电路(PICS)的基于硅(SI)上的薄膜(SIN)上的薄膜(PICS)的异质整合在未来未来的纳米光子薄片调制器的发展中起着至关重要的作用。由于铁电薄膜的电形(EO)特性在很大程度上取决于它们的晶体相和质地,因此在这些平台上的Batio 3薄系统的整合远非微不足道。到目前为止,已经开发了使用SRTIO 3模板结合使用SRTIO 3模板纤维与高真空沉积方法结合使用的常规集成途径,但是它的吞吐量较低,昂贵,需要单晶基板。要缩小这一差距,需要一种成本效率,高通量和可扩展的方法来集成高纹理的Batio 3薄膜。因此,提出了使用LA 2 O 2 CO 3模板膜与化学溶液沉积(CSD)过程结合使用LA 2 O 2 CO 3模板膜整合的替代方法。在这项工作中,溶液处理的BATIO 3薄片的结构和EO特性是表征的,并评估了其整合到光圈谐振器中。BATIO 3纤维表现出纹理,其大型皮孔系数(r E e镜)为139 pm v-1,并且在基于环的谐振器调制器中积分显示为1.881 V cm的V le,带宽为40 GHz。这可以使Batio 3薄膜在PIC平台上进行低成本,高通量和富裕整合,并在PIC平台上以及潜在的大规模制造纳米光子BATIO 3薄片调制器。
摘要:调整二元 Me 氮氧化物 (Me 1 Me 2 ON) 的元素组成和结构的可能性可以为多种应用带来有吸引力的特性。在这项工作中,钽-钛氮氧化物 (TaTiON) 薄膜通过直流反应磁控共溅射沉积,对基片支架施加 -50 V 偏压,基片温度恒定为 100 ◦ C。为了以受控方式增加或减少共溅射膜中的 Ti 和 Ta 含量,Ti 和 Ta 靶电流在 0.00 和 1.00 A 之间变化,步长为 0.25 A,同时保持施加到两个靶上的电流总和为 1.00 A。反应气体流量由具有恒定 N 2 /O 2 比率 (85%/15%) 的氮气和氧气混合物组成,也保持恒定。单金属氮氧化物(TaON 和 TiON)结晶度较低,而所有其他共溅射膜则基本呈非晶态。这两种膜还表现出对金属基材的更高附着力。TaON 膜的硬度值最高(14.8 GPa),TiON 膜的硬度值低得多(8.8 GPa),而共溅射涂层的硬度值介于两者之间。最有趣的发现之一是,当 Ti 浓度超过 Ta 浓度时,O 含量显著增加。这不仅显著影响了膜的光学特性,还影响了其电性能。共溅射膜的薄层电阻率在很大程度上取决于 O/(Ta + Ti) 原子比。
摘要:与化学计量简单的氮化铝 (AlN) 相比,锆钛酸铅薄膜 (PZT) 具有优异的压电和介电性能,是先进微机电系统 (MEMS) 器件中另一种有希望的候选材料。大面积 PZT 薄膜的制造具有挑战性,但需求迫切。因此,有必要建立合成参数与特定性能之间的关系。与溶胶-凝胶和脉冲激光沉积技术相比,本综述重点介绍了磁控溅射技术,因为它具有高度的可行性和可控性。在本文中,我们概述了 PZT 薄膜的微观结构特征、合成参数(如基底、沉积温度、气体气氛和退火温度等)和功能特性(如介电、压电和铁电等)。本综述特别强调了这些影响因素的依赖性,为研究人员通过磁控溅射技术获取具有预期性能的PZT薄膜提供实验指导。