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臭氧对致病细菌的有害作用 - Astech
1 Fiocruz，健康发展中心（C.D.T.S.），国家科学技术研究所，用于被忽视的人口疾病（INCT-IDPN），里约热内卢21040-900，巴西RJ； guilherme.lechuga@cdts。fifocruz.br（G.C.L.）; joaoprsc@id.uff.br（J.P.R.S.C.）2个微生物科，美国国家质量控制研究所（I.N.C.Q.S.），Fiocruz，Rio de Janeiro 21040-900，RJ，巴西； fellipe.cabral@incqs。finfocruz.br（f.o.c.）;玛丽亚3联邦弗林宁斯大学生物学研究所分子和细胞生物学系，NITEROI 22040-036，RJ，RJ，巴西4蜂窝和超微结构实验室，Oswaldo Cruz Institute，Fiocruz，Rio de Janeiro 21040-900，RJ，RJ，Brazil; victor.midlej@ioc.fiocruz.br 5 Epidemiology and Molecular Systematic Laboratory, Oswaldo Cruz Institute, FIOCRUZ, Rio de Janeiro 21040-900, RJ, Brazil * Correspondence: karynercarvalho@cdts.fiocruz.br (K.R.）; dsimone@cdts。fifocruz.br（s.g.d.-s.）;电话。： +55-2138658240（K.R.）; +55-2138658183（S.G.D.-S。）
紫外线/臭氧处理和露天铜等离子体
简介。在可见光和近红外 (NIR) 范围内具有等离子体特性的金属，例如金、银和铜，可用于光学、电子、传感和其他应用，目前备受关注 [1, 2]。重要的问题是等离子体特性的稳定性，这通常会限制某些金属的使用，因为它们具有化学反应性和可能产生杂散效应。用于等离子体的最常见材料是金，它具有出色的光学性能以及抗氧化性。金在等离子体中的局限性包括其价格高昂以及与微电子技术工艺不兼容。银由于光学损耗低而表现出优异的性能，也得到了广泛应用 [3-7]，但通常被认为由于化学稳定性较低而吸引力较小，因此等离子体稳定性也较低 [8]。铜是另一种具有出色光学性能的金属。与金相比，它价格低廉，在可见光和近红外范围内的光学损耗较低。铜在等离子体应用中的优势已被充分发挥，例如在超低损耗铜等离子体波导和生物传感应用中 [9-13]。铜在暴露于环境大气时容易发生相对较快的表面氧化 [14]。在正常条件下，主要产物是 Cu 2 O，CuO 的贡献很小或没有。因此，要将 Cu 膜用于等离子体应用，需要保护结构表面免受氧化引起的降解。可以通过应用 SiO 2 、Al 2 O 3 甚至石墨烯的保护壳/涂层来实现 [10, 15]。在这项工作中，我们测试了一种简单的紫外臭氧处理方法，该方法可在铜膜上快速形成一层薄氧化层。该氧化层有效地保护了铜免受随后与氧化有关的等离子体特性降解的影响，这最近已在 Cu 纳米粒子中得到证实 [16]。我们对形成的氧化层进行了复杂的分析。我们预计，本文提出的结果将作为一种简单有效的方法，用于保留薄铜膜的等离子体特性，以用于非线性光学或传感应用。样品制作。使用 NEE-4000 电子束蒸发系统中的电子束蒸发沉积厚度为 28 nm 的铜膜。在室温下，将顶部覆盖有 2 nm 厚 SiO 2 层的干净硅晶片放置在电子束蒸发器的真空室中，压力为 3×10 7 Torr。作为沉积材料，使用纯度为 99.99% 的铜颗粒。沉积速率约为 2 Å/s。在一个周期内同时制造了 8 个相同的样品。引用的铜膜“厚度”是
研究了用臭氧前体形成的ALD膜的结构和电性能
摘要：ALD薄片的持续发展需要持续的改进，并改变适合不同实际应用的量身定制特性的材料。臭氧最近被确定为前体，比晚期介电薄膜ALDS中的替代氧化前体具有不同的优势。本研究报告了使用O 3源的氧化铝（Al 2 O 3）和Hafnia（HFO 2）形成，并比较获得的结构和电性能。与水基薄膜相比，对臭氧基材料进行的结构检查证明具有较低的空缺水平。增强的结构特性还导致有问题通过整体层掺入不同的掺杂剂。此外，对使用ALD Gate介电的MIS结构的电特性分析表明，基于臭氧的胶片的质量和良好的绝缘性能得到了改善。然而，需要用臭氧进一步优化ALD技术，因为相对较低的相对介电性表征了超细膜。
研究了用臭氧前体形成的ALD膜的结构和电性能
摘要：ALD薄片的持续发展需要持续的改进，并改变适合不同实际应用的量身定制特性的材料。臭氧最近被确定为前体，比晚期介电薄膜ALDS中的替代氧化前体具有不同的优势。本研究报告了使用O 3源的氧化铝（Al 2 O 3）和Hafnia（HFO 2）形成，并比较获得的结构和电性能。与水基薄膜相比，对臭氧基材料进行的结构检查证明具有较低的空缺水平。增强的结构特性还导致有问题通过整体层掺入不同的掺杂剂。此外，对使用ALD Gate介电的MIS结构的电特性分析表明，基于臭氧的胶片的质量和良好的绝缘性能得到了改善。然而，需要用臭氧进一步优化ALD技术，因为相对较低的相对介电性表征了超细膜。
DLC 薄膜上的 SiOx 顶层可用于航空航天应用中的原子氧和臭氧腐蚀防护
每年，数十亿美元被投入到太空应用的研究和开发中，包括新系统、新技术和新材料。DLC（类金刚石碳）是一种很有前途的材料，但其使用面临技术障碍，因为它会被原子氧和臭氧严重腐蚀。在本研究中，SiOx-DLC 薄膜被沉积在 Ti-6Al-4V 基材上作为类金刚石碳 (DLC) 膜的顶层，以提高对原子氧和臭氧的耐腐蚀性，并满足低地球轨道 (LEO) 卫星的使用要求。使用氧等离子体评估了薄膜的耐腐蚀性，并研究了摩擦学和机械性能。SiOx-DLC 顶层将腐蚀速率降低了两个数量级，并将临界载荷从 16.2 ± 1.5 N 提高到 18.4 ± 0.4 N。
开发臭氧监测仪 (OMI) 气溶胶指数 (AI) 数据同化方案，用于明亮表面的气溶胶建模——朝着紫外光谱直接辐射同化迈出了一步
摘要。使用矢量线性离散纵坐标辐射传输 (VLIDORT) 代码作为前向模型模拟的主要驱动程序，开发了一种首创的数据同化方案，用于将臭氧监测仪 (OMI) 气溶胶指数 (AI) 测量值同化到海军气溶胶分析和预测系统 (NAAPS)。这项研究表明，与 NAAPS 自然运行的值相比，使用 OMI AI 数据同化可以显著降低 NAAPS 分析中的均方根误差 (RMSE) 和绝对误差。模型模拟的改进证明了 OMI AI 数据同化对于多云区域和明亮表面的气溶胶模型分析的实用性。然而，单独的 OMI AI 数据同化并不优于在无云天空和黑暗表面使用被动式气溶胶光学厚度 (AOD) 产品的气溶胶数据同化。此外，由于 AI 同化需要在前向模拟中部署完全多散射感知辐射传输模型，因此计算负担是一个问题。尽管如此，新开发的建模系统包含了紫外 (UV) 光谱中辐射同化的必要成分，我们的研究表明，未来在紫外和可见光谱中直接辐射同化，可能与 AOD 同化相结合，可用于气溶胶应用。可以添加其他数据流，包括来自对流层监测仪 (TROPOMI) 的数据、
纯气体 O2 的臭氧生成和化学动力学电晕放电
摘要 本文的工作旨在研究在纯气体 O 2 中，在大气压 P = 1 atm 和室温 T = 300°K 下电晕放电之前选定的一些物质的化学动力学，在导线-圆柱几何结构中进行。从这个角度来看，设计了一个在时间和空间上都高效的计算机程序，用于基于玻尔兹曼方程的解析度求解流体动力学经典方程组。它还参与了气体的化学动力学，包括连续性、动量和能量方程。为了获得数值分辨率，将通量校正传输方法成功应用于电放电，并获得了纯气体 O 2 的生成物质动力学。气体的反应性考虑了九种物质，它们根据 23 种反应相互作用，这些反应以最占主导地位的方式进行选择。所选的约化场值为 100、120、140、160、180 和 200 Td。得到的结果显示了与电场减弱密切相关的演变，并且臭氧的产生伴随着其他物质的出现和消失。
氯氟烃及其对臭氧层的影响
“今天的天气将是晴朗的天空，温度为 90 度，紫外线指数很高；”电视播音员告诉观众。他继续说，“警告：没有防护服和护目镜，请勿外出，否则可能会严重烧伤和患癌症。”地点是北卡罗来纳州，时间是 2005 年 12 月。曾经保护我们免受太阳有害紫外线伤害的臭氧层几乎已经消失。这不是科幻电影中的场景。除非尽快消除氯氟烃，否则它可能会成为现实。地球被包含多层的大气层包围。曾经的这种层被称为平流层。1 地球上的大部分臭氧都存在于平流层中。2 平流层臭氧 3 保护地球免受有害紫外线的伤害。4 氯氟烃 5 (CFC)，由于其性质，6 会破坏这层保护层。7 臭氧耗竭可能是当今最具潜在危害的环境威胁。这个问题并不是新问题，但直到 20 世纪 70 年代末和今天才引起人们的高度关注。它非常严重，会影响植物、动物、食物链、人类健康甚至气候。地球的环境处于微妙的平衡之中。似乎只对环境的一部分产生直接影响的危害可能会间接影响许多其他部分。例如，臭氧层被氟利昂消耗殆尽，这反过来又导致有害的紫外线穿透大气层。浮游生物受到有害紫外线的不利影响，9 因此它们
氯氟烃及其对臭氧层的影响
“今天的天气将是晴朗的天空，温度为 90 度，紫外线指数很高；”电视播音员告诉观众。他继续说，“警告：没有防护服和护目镜，请勿外出，否则可能会严重烧伤和患癌症。”地点是北卡罗来纳州，时间是 2005 年 12 月。曾经保护我们免受太阳有害紫外线伤害的臭氧层几乎已经消失。这不是科幻电影中的场景。除非尽快消除氯氟烃，否则它可能会成为现实。地球被包含多层的大气层包围。曾经的这种层被称为平流层。1 地球上的大部分臭氧都存在于平流层中。2 平流层臭氧 3 保护地球免受有害紫外线的伤害。4 氯氟烃 5 (CFC)，由于其性质，6 会破坏这层保护层。7 臭氧耗竭可能是当今最具潜在危害的环境威胁。这个问题并不是新问题，但直到 20 世纪 70 年代末和今天才引起人们的高度关注。它非常严重，会影响植物、动物、食物链、人类健康甚至气候。地球的环境处于微妙的平衡之中。似乎只对环境的一部分产生直接影响的危害可能会间接影响许多其他部分。例如，臭氧层被氟利昂消耗殆尽，这反过来又导致有害的紫外线穿透大气层。浮游生物受到有害紫外线的不利影响，9 因此它们
氯氟烃及其对臭氧层的影响
“今天的天气将是晴朗的天空，温度为 90 度，紫外线指数很高；”电视播音员告诉观众。他继续说，“警告：不要在没有防护服和护目镜的情况下外出，否则可能会严重烧伤和癌症。”地点是北卡罗来纳州，时间是 2005 年 12 月。曾经保护我们免受太阳有害紫外线伤害的臭氧层几乎已经消失。这不是科幻电影中的场景。除非尽快消除氯氟烃，否则它可能会成为现实。地球被包含多层的大气层包围。曾经的这种层被称为平流层。 1 地球上的大部分臭氧都存在于平流层中。 2 平流层臭氧 3 保护地球免受有害紫外线的伤害。 4 氯氟烃 5 (CFC)，由于其性质， 6 会破坏这层保护层。 7 臭氧消耗可能是当今最具潜在危害的环境威胁。这个问题并不是新问题，但直到 20 世纪 70 年代末和今天才引起人们的高度关注。它非常严重，会影响植物、动物、食物链、人类健康甚至气候。地球的环境处于微妙的平衡之中。似乎只对环境的一部分产生直接影响的危害可能会间接影响许多其他部分。例如，臭氧层被氟利昂消耗殆尽，这反过来又导致有害的紫外线穿透大气层。计划