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CMMZeiss Crossbeam家族您的FIB-SEM进行高吞吐量3D分析和样品制备
自定义您的仪器以实现高质量和高吞吐量TEM样品准备。利用Crossbeam 350的可变压力能力。使用Crossbeam 550准备最苛刻的样品，选择最适合您样品的腔室尺寸。或选择Crossbeam 550样品模式用于先进的，完全自动化的，无监督的多站点TEM Lamella制备。
空气稳定有机无机钙钛矿纳米晶体@polymer ...
图2。perovskite@polymer纳米纤维的形态。a）和b）L-PPNF的TEM图像。c）使用PMMA获得的纳米纤维的TEM图像，为此，没有形成明显的钙钛矿纳米晶体。d）perovskite@pvdf纳米纤维的TEM图像。PVDF纳米纤维中嵌入的巨大不规则形状的钙钛矿也有粗糙的表面。e）在紫外线照明下浸入水中的不同时间后，L-PPNF的照片。f）收集在A4纸上的L-PPNF的照片以及紫外灯照明下的相应荧光图像，显示样品均匀性。g）大规模的L-PPNF的SEM图像。
基于支持和接触单个纳米材料的原位纳米级调查
尽管近年来，纳米材料的原位透射电子显微镜（TEM）已变得很重要，但样品制备中的困难限制了对电性能的研究数量。在此，提出了单个1D和2D材料的基于支持的准备方法，该方法产生了可重复的样品转移，以通过原位tem进行电气研究。机械刚性支撑网格通过聚焦离子束以最小的损坏和污染来促进转移并接触到原位芯片。通过不同的纳米材料（包括WS 2的单层）来评估转移质量。可能的研究涉及各个纳米材料水平上的结构特性与电特性之间的相互作用，以及电流下的失效分析或电流，焦耳加热和相关效果的研究。TEM测量值可以通过在相同对象上进行的其他相关显微镜和光谱进行富集，并具有允许在几微米范围内具有空间分辨率的表征的技术。尽管为原位tem开发，但目前的转移方法也适用于将纳米材料转移到类似的芯片中，以进行进一步的研究，甚至用于在潜在的电气/光电/传感设备中使用它们。
使用 STEM EBIC 进行高分辨率电导率测绘
现代电子系统依赖于具有纳米级特征尺寸的组件，这些组件的故障可能由原子级电子缺陷引起。这些缺陷可能会在更大的长度尺度上引发剧烈的结构变化，从而完全掩盖此类事件的起源。透射电子显微镜 (TEM) 是少数几个可以轻松获得原子分辨率成像的成像系统之一，使其成为对纳米级系统进行故障分析的主力工具。配备光谱附件时，TEM 擅长确定样品的结构和成分，但缺陷的物理表现与其对电子结构的影响相比通常非常微妙。扫描 TEM 电子束感应电流 (STEM EBIC) 成像可产生与电子结构直接相关的对比度，作为标准 TEM 技术提供的物理信息的补充。最近的 STEM EBIC 进展使得能够以高分辨率获得各种新型电子和热对比度，包括电导率映射。在这里，我们讨论了 STEM EBIC 电导率对比机制，并展示了其在故障和原始设备中映射电子传输的能力。
在异常校正的透射电子显微镜中以高时间分辨率的原位光谱开发
探索原子量表的材料的结构和物理性质之间的相应关系仍然是科学中的基本问题。随着异常校正的透射电子显微镜（AC-TEM）的发展和超快光谱技术，亚角尺度空间分辨率和飞秒尺度的时间分辨率，可以通过措施来获得。但是，结合两种优势的尝试仍然是一个巨大的挑战。在这里，我们通过使用自设计和制造的TEM标本持有人来开发AC-TEM中高时间分辨率的原位光谱法，该标本持有人具有亚角尺度空间分辨率和femtosecondscale尺度的时间分辨率。我们设备的键和独特的设计是使用纤维束，它可以将聚焦的脉冲梁传递到TEM中，并同时收集光学响应。生成的聚焦点的尺寸小于2μm，并且可以在面积大于75×75μm2的平面中进行扫描。最重要的是，由玻璃纤维引起的阳性组速度分散由一对衍射光栅补偿，从而导致脉冲梁在TEM中的脉冲宽度约为300 fs（@ 3 MW）。现场实验，观察AC-TEM中CDSE/ZnS量子点的原子结构，并在此期间获得光致发光寿命（〜4.3 ns）。可以通过利用该设备在TEM中执行进一步的超快光谱法。
引用：Monsi Tombari Pius。等。 “与上学大学的患者相关的细菌病原体的患病率和抗生素图
5。Okogeri EI。等。 “尼日利亚临床标本中的klebsiella种类的扩展光谱β-内酰胺酶基因（SHV，TEM，CTX-M和OXA）的横断面研究”。 《美国医学科学杂志》 8（2020）：180-186。Okogeri EI。等。“尼日利亚临床标本中的klebsiella种类的扩展光谱β-内酰胺酶基因（SHV，TEM，CTX-M和OXA）的横断面研究”。《美国医学科学杂志》 8（2020）：180-186。
纳米工程 - 多长度尺度多孔层次 - ...
图 1 . (a) 以 PS- b -PEO 为模板的介孔 ZIF-8 (M- ZIF-8) 合成过程示意图。(b、c) M-ZIF-8 的 SEM 图像。(b) 中的插图显示了基于图 S1a 的粒径统计分布。(d) TEM 图像、(e) SAED 图像、(f) 暗场 TEM 图像和 EDS 映射、(g) XRD 图案、(h) SAXS 图案和 (i) M-ZIF-8 的 N 2 吸附-解吸等温线。(i) 中的插图显示孔径分布。以 (j) PS 3800 - b -PEO 5000 和 (l) PS 9500 - b -PEO 5000 为模板的 M-ZIF-8 的 SEM 图像。由 (k) PS 3800 - b -PEO 5000 和 (m) PS 9500 - b -PEO 5000 模板化的 M-ZIF-8 的 TEM 图像。比例尺：200 nm (b、c、d、f、jm)；2 nm -1 (e)。
材料表征 - -ORCA - 卡迪夫大学
纳米结构薄膜具有改变表面性质的能力，当它们能够生成具有可控孔隙率的层时，这种能力甚至更强。与致密层相比，这些（多）层的隐式完整性较低，阻碍了获得亚微米厚度（薄片）的电子透明切片，这成为（扫描）透射电子显微镜（(S)TEM）研究稀缺的主要原因之一。意识到这一机会，本报告概述了应用各种（S）TEM 技术研究纳米结构和多孔光子表面的可能性。提供了几个工作示例来说明在通过斜角物理过程制备的中孔薄膜以及通过外延方法制备的氮化物纳米线阵列的情况下可以获得的信息类型。将证明这种方法能够实现几项开创性的工作，这些工作对于完成此类孔隙率控制涂层的表征至关重要。由于 (S)TEM 的突破性进展，我们得以解决诸如电子透明样品的制备及其结构、形态、界面和成分的高级表征等各种主题，这些突破性进展允许在微观和纳米层面上获得高分辨率成像、光谱或断层扫描。最后，将 (S)TEM 确立为多孔纳米结构皮肤的高级结构、化学和形态表征的参考工具，将开辟新的视野，提供更好和新的见解，从而优化此类结构的制造和设计。