轻离子束剂量测定 Hugo Palmans 1、Russell Thomas 1、David Shipley 1、Andrzej Kacperek 2 1 生活质量部,辐射剂量测定团队 2 道格拉斯回旋加速器,Clatterbridge 肿瘤中心,威勒尔,英国 摘要 本报告概述了“改进的轻离子束剂量测定”战略研究项目所做的科学工作,以及英国贸易和工业部 2001-2004 国家测量系统、电离辐射计量计划下的工作。它根据 2004-2007 国家测量系统、英国贸易和工业部电离辐射计量计划下开展的工作进行了修订,以完成早期计划中启动的工作。这项工作还极大地受益于 Clatterbridge 肿瘤中心和加拿大自然科学与工程研究委员会 (NSERC) 的研究项目以及与比利时根特大学的合作。引言部分简要介绍了质子束放射治疗领域,第二章对相关文献进行了全面概述。第三章介绍并讨论了该项目范围内进行的实验工作,第四章讨论了支持进行的模拟。结论部分总结了主要成就以及这项工作为 NPL 创造的机会。
•最终的高梯度,高频,短脉冲选项:•“频率”:THZ?•“腔”填充时间:飞秒•“脉冲”是一个单一的原因,这是我们用束列驾驶的Linacs(需要用RF填充腔,是可以实现稳定场的腔),请勿应用
轻离子束剂量测定 Hugo Palmans 1、Russell Thomas 1、David Shipley 1、Andrzej Kacperek 2 1 生活质量部,辐射剂量测定团队 2 道格拉斯回旋加速器,Clatterbridge 肿瘤中心,威勒尔,英国 摘要 本报告概述了“改进的轻离子束剂量测定”战略研究项目所做的科学工作,以及英国贸易和工业部 2001-2004 国家测量系统、电离辐射计量计划下的工作。它根据 2004-2007 国家测量系统、英国贸易和工业部电离辐射计量计划下开展的工作进行了修订,以完成早期计划中启动的工作。这项工作还极大地受益于 Clatterbridge 肿瘤中心和加拿大自然科学与工程研究委员会 (NSERC) 的研究项目以及与比利时根特大学的合作。引言部分简要介绍了质子束放射治疗领域,第二章对相关文献进行了全面概述。第三章介绍并讨论了该项目范围内进行的实验工作,第四章讨论了支持进行的模拟。结论部分总结了主要成就以及这项工作为 NPL 创造的机会。
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激光吸收是激光材料加工的基本作用之一。吸收值与计算过程效率相关,并预测对日益使用的激光剂的材料对材料的影响。但是,吸收测量可能是一项复杂的任务。在金属的高温下,由于动态表面和温度测量所需的通常未知的发射率,仅可用有限的实验数据。模型是为了预测不同温度下的吸收,这些温度在某些制度中取得了成功,但通常在其他方面失败。为了改善理论模型,需要对高温金属表面进行实验测量。因此,在这项工作中,使用加热激光器提出了一种辐射测量方法,以创建金属熔体池,同时通过第二个测量激光束测量温度和表面反射。从文献中知道的一般趋势可以通过测量值确认,而吸收值倾向于在升高温度下散射。但是,可以观察到趋势。在熔化和沸腾温度之间,在35%至38%的范围内看到了略有吸收的增加。这些值表明必须考虑频带间和内标的吸收来解释该制度中的吸收。在升高的温度下,内预预知是主要的吸收机制,在非常高的温度下达到超过45%的吸收值。
该奖学金计划侧重于培养临床生物标志物和转化科学家所需的技能。了解疾病生物学、药物作用机制以及各种计划的生物分析和生物标志物需求和策略。获得使用不同检测平台(如 MSD、ddPCR、qPCR、流式细胞术等)实施临床药代动力学、药效学、生物标志物和抗药抗体检测的专业知识。参与新技术评估、检测的实际开发和故障排除、数据分析和解释。参与治疗领域的跨职能团队互动。研究员将在小组会议和全公司海报/口头报告中展示工作。研究员可以选择学习转化科学的一些临床药理学方面;跨职能培训可以根据候选人的背景和偏好进行量身定制。
1 摘要 2 2 简介 3 3 技术方法和论证 3 3.1 系统概述 3 3.2 飞机 4 3.3 起飞和降落 5 3.4 第一阶段:地面站 5 3.5 第二阶段:中继卫星 5 3.6 第三阶段:动力卫星 5 3.7 安全 6 4 2050 年的航空格局 7 4.1 技术就绪水平 7 4.2 供应链就绪水平 8 4.3 制造就绪水平 9 4.4 预计时间表 9 5 技术影响 10 5.1 环境 10 5.2 工业 11 5.3 财务 11 5.4 社会和政治 11 6 研究发展和变化的文件 12 7 结论 12 附录 A – 计算 13 A.1 Friis 传输方程 13 A.2 每颗卫星的财务盈亏平衡成本 13 A.3地面站布局 14 A.4 电离计算 14 A.5 碳足迹计算与比较 15 附录 B – 参考文献 16 致谢 19
主要应用 • 通过 DLW 和 2PP 进行快速非接触式原型制作 • 微系统技术中的光学应用 • 用于湿法和干法蚀刻工艺的蚀刻掩模 • 用于电镀的模具 • 用于印章制造/模板制造的模具
主要应用 • 通过 DLW 和 2PP 进行快速非接触式原型制作 • 微系统技术中的光学应用 • 用于湿法和干法蚀刻工艺的蚀刻掩模 • 用于电镀的模具 • 用于印章制造/模板制造的模具
P. Adderley 1,St.Ahmed 1,L,T 1,M。Bruker 1,A。1,M,L。Cardin 1,J。Creel 1,Y.-C。 Chao 1,A,G。Cheng 1,G。Cyovati 1,2,S。 de Silva 1,2,R。Dickson1,C,M。Diaz1,M。Drury1,LP. Adderley 1,St.Ahmed 1,L,T 1,M。Bruker 1,A。1,M,L。Cardin 1,J。Creel 1,Y.-C。 Chao 1,A,G。Cheng 1,G。Cyovati 1,2,S。de Silva 1,2,R。Dickson1,C,M。Diaz1,M。Drury1,LJ. Gubeli 1,J。Guo1,F。 D. Hininbotham 1,A。S ,A。Kimber 1,D,L。King 1, K. Machay 1,F。Marhauser1,N,B。 ,l。 Mering 1,A,R。 Park 1,A,L。Phillips 1,St. Philip 1,T。Powers1,J。Preble1,R。Rimmer1,C。Reece1,H。 Rode 1,C。Rode 1,T。Stogata 1,2,D。J. Seidman 1,A。 k Valente 1,H。Wang1,张1†