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激光定向能量沉积：工艺参数和热处理的影响
以粉末作为添加材料的激光金属沉积（L-DED）是一种通过逐层原理建立特定几何形状的增材制造方法。过去十年来，该方法已显示出巨大的潜力。航空航天业是主要受益者，因为该工艺无需大量切割即可制造零部件，从而减少了材料浪费。 718 高温合金在航空发动机中的应用非常广泛，这引起了人们对开发专门针对这种高温合金的 L-DED 工艺的浓厚研究兴趣。 AM 流程通常因构建速度慢和交货时间长而受到阻碍，这会直接影响生产成本。为了克服较低的构建速度，本研究工作集中于通过更高的材料输入来实现高沉积速率。
激光定向能量沉积中增强的冷却速度......
图 4：a) 显微照片显示层和感兴趣的区域。黄色虚线表示熔池边界。黄色框表示拍摄高倍显微照片的区域，b)-e) 高倍显微照片，b) 层 11 CS，c) 层
真空沉积之前的UV/臭氧工艺
自1976年以来，石英晶体共振器领域的大多数制造商一直在使用UV/臭氧清洁。此过程中的一些原始工作是在该领域完成的。（请参见图5）超细石英底物对于制造非常稳定的频率控制装置所需的电极膜粘附至关重要。通常使用UV/臭氧是最终的清洁步骤，过程时间为1-5分钟。...表面声波（S.A.W.）设备也是具有相似制造过程和清洁要求的pi-ezoeleclectric设备。尼橙锂和石英用于制造锯设备。该行业组中的许多用户都使用连接角度仪或蒸汽成核测试来监视清洁度。
原子级沉积将延伸摩尔定律及超越
摘要 在过去的几十年中，摩尔定律推动半导体行业不断将晶体管的临界尺寸缩小至7纳米。随着晶体管进一步缩小到更小的尺寸，摩尔定律达到了极限，芯片上晶体管密度的增加速度减慢。目前，一些关键步骤已经采用了极紫外光刻技术，它在大批量生产中面临着对准精度和高成本的问题。同时，新材料和3D复杂结构的引入给自上而下的方法带来了严峻的挑战。因此，自下而上的方案被认为是与自上而下工艺相结合的必要方法。本文对原子级沉积方法进行了回顾和分类，以延伸摩尔定律并超越摩尔定律。首先，沉积带来了垂直方向的横向埃级分辨率以及自上而下的刻蚀，例如双重图案化、纳米线的转移、纳米管的沉积等。其次，各种模板辅助的选择性沉积方法，包括介质模板、抑制剂和校正步骤，已经用于3D复杂结构的对准。更高的分辨率可以通过固有的选择性沉积来实现，并讨论了潜在的选择性机制。最后，还讨论了更高精度和效率制造的要求，包括设备、集成过程、放大问题等。本文回顾了低维制造和三维复杂结构的集成，以在半导体领域以及包括但不限于能源、催化、传感器和生物医学的新兴领域中扩展摩尔定律。
熔融沉积成型 (FDM) 和选择性激光烧结 (SLS) 作为
摘要 — 增材制造工艺是第四次工业革命时代先进工程制造工艺的关键之一。熔融沉积成型 (FDM) 和选择性激光烧结 (SLS) 是两种可用于快速成型的增材制造 (AM) 技术。本综述研究证明了熔融沉积成型和选择性激光烧结作为汽车和航空航天可互换零件制造中先进技术开发的可行设备的重要性。本文还讨论了这两台机器对制造技术进步的影响。研究结果证明了熔融沉积成型和选择性激光烧结在制造业中高效和成功生产的巨大益处，以及两者的应用。本文的目的是总结熔融沉积成型和选择性激光烧结作为先进制造技术进步的重要技术工具。研究强调了许多优点和应用，包括耐用性、易用性、更低的生产成本、更短的制造过程交付周期、易于处理复杂的型腔和几何形状、多种高性能、更低的工具成本、生产定制产品以及开发小批量生产、桥梁制造、工程模型、测试和高温应用，以便快速将产品推向市场。
磁铁溅射的无定形硅– SIO2量化纳米胺
规格作为基于差异较小的材料的设计。除了折射指数外，材料还必须满足其他要求，其中的材料在波长范围内具有可忽略的损失。但是，在介电材料中，折射率和吸收边缘是连接的。[1]具有高折射率的材料在长波长下具有吸收边缘，而低折射率材料在短波长下具有吸收边缘。tio 2是具有最高折射率的介电材料，在频谱的可见范围（VIS）中，开始在≈400nm处发射。具有更高折射率的处置材料，而在VIS中保持透明，将具有广泛的实际相关性，因为它将允许使用层较低的层且整体厚度降低的干扰设计。如本文所示，纳米胺的沉积速率超过了TIO 2之一。预计厚度降低和高沉积速率都会导致涂料系统的生产率提高和制造成本降低。除了制造纳米酰胺外，一种将折叠指数与散装材料特性脱离的方法是扫视角度沉积，[2,3]中形成了柱状纤维结构，从而减少了有效的折射率。因此，将在散装层和具有相同材料的柱状结构的层面层之间发生干扰效应。[4,5]。在2016年[7]由于没有不同材料之间的接口，这打开了有趣的效果，例如板极化器或更高的激光损伤抗性。如参考文献所述，一种可比较的方法是由有机膜的离子蚀刻形成的自组织结构。再次，通过蚀刻降低了层的有效折射率，该蚀刻引入了局部和未定位的多孔结构。[6]如果将层用作抗反射设计中的最外层，则此效果是有益的。至于瞥见角度沉积，自组织层的缺点是对环境条件的敏感性提高。一个最近克服两个特征之间联系的概念是量化纳米胺（QNL）的，这是Willemsen，Jupé等人首次报道的。
碳化硅涂层的保形和超保形化学气相沉积
本期刊文章的自存档后印本版本可在林雪平大学机构知识库 (DiVA) 上找到：http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-187711 注意：引用本作品时，请引用原始出版物。Huang, J., Militzer, C., Wijayawardhana, C., Forsberg, U., Pedersen, H., (2022)，碳化硅涂层的保形和超保形化学气相沉积，真空科学与技术杂志。A. 真空、表面和薄膜，40(5)，053402。https://doi.org/10.1116/6.0001909
“原子层沉积”在：柯克 - 座位化学技术百科全书在线
原子层沉积（ALD）是一种具有亚纳光度精度的固体材料层的气相方法。它是在1960年代在苏联独立发明的，名称为分子分层，并在1970年代在芬兰以原子层的外观为名。ALD依赖于以自动终止方式反应的清除步骤分隔的气态反应物的表面。本文介绍了理想ALD表面化学的基本原理，包括饱和和不可逆的反应，每个周期的生长，与ALD相关的单层概念，典型的表面反应机制，饱和度限制因素，生长模式，区域选择性ALD，生长动力学和相关性。它还讨论了与理想ALD的典型偏差。多年来，已经开发了许多不同的ALD工艺化学。可以提供一系列反应堆系统，具体取决于基材的类型和所需的生产力。ALD在实践中广泛适用，因为它以良好的可扩展性为纳米级精度，可用于沉积多种材料。近年来，对ALD的兴趣一直在强烈增长。有关ALD商业应用的最重要部门目前是半导体行业。
利用沉积和剥离化学技术开发水系锰基电池的机遇
和可扩展的储能技术。[5–10] 可充电电池[11–19] 被认为是最有效的储能技术，已广泛应用于便携式电子设备、电动汽车和电网规模的储能。尽管锂离子电池在目前的电动汽车和便携式电子设备市场上占据主导地位，[20–24] 但由于成本相对较高、使用寿命有限和安全问题，它们在电网规模储能中的应用才刚刚起步。[25–30] 其他现有的可充电电池如钠硫 (Na-S)、铅酸和氧化还原液流电池已逐渐应用于电网储能，但它们遇到了需要克服的不同障碍，如图 1 所示。例如，Na-S 电池由于在高温 (≈ 350°C) 下工作而存在潜在的严重安全问题。铅酸电池的循环稳定性较差（通常少于 1000 次循环）。氧化还原液流电池的能量密度相对较低，系统成本较高。相比之下，水系充电电池由于制造简单、运行速度快、安全性好，为电网储能提供了一种替代的储能技术。[31–37] 其中，水系锰 (Mn) 电池由于具有成本低等优势，吸引了大量研究和行业关注，[38,39]